Аномальный тлеющий разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях в процессах нанесения оптических покрытий тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.02.05, кандидат технических наук Лучкин, Григорий Сергеевич

• Лучкин, Григорий Сергеевич
• кандидат технических наук
• 2005

Оглавление диссертации кандидат технических наук Лучкин, Григорий Сергеевич

Введение

Глава 1 Низкотемпературная плазма и ее применение для нанесения покрытий

1.1 Методы нанесения тонкопленочных покрытий

1.2 Аномальный тлеющий разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях в технологических процессах нанесения покрытий

1.3 Характеристики покрытий нанесенных при помощи магнетронной распылительной системы

1.4 Постановка задачи

Глава 2 Экспериментальная установка и методика исследований

2.1 Экспериментальная установка с магнетронной распылительной системой

2.2 Измерительная аппаратура, методика проведения экспериментов и оценка погрешности измерений

2.3 Система фотометрического контроля толщины покрытий

2.4 Методы исследования покрытий

Глава 3 Теоретические и экспериментальные исследования разряда в магнетронной распылительной системе в процессе нанесения покрытий

3.1 Электрические и энергетические характеристики магнетронной распылительной системы

3.2 Характеристики тонкопленочных покрытий в зависимости от параметров разряда

3.3 Математическая модель прикатодной области аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях в процессе нанесения покрытий

3.4 Синтез оптических покрытий

Глава 4 Получение тонкопленочных покрытий с помощью магнетронной распылительной системы

4.1 Защитное покрытие, увеличивающее отражение

4.2 Токопроводящее покрытие

4.3 Теплоотражающее покрытие

4.4 Неослепляющее покрытие 113 Выводы 118 Библиографический список использованной литературы

Принятые обозначения е - заряд электрона к - постоянная Больцмана

Те - температура электронного газа

Га, Т, - температуры атомов и ионов

Vf- плавающий потенциал те - масса электрона w Wj - масса иона v+ - дрейфовая скорость ионов ve - дрейфовая скорость электронов J+ - плотность ионного тока у'е - плотность тока электронов «е - концентрация электронов

Il п\- концентрация ионов п0 - плотность зарядов

- подвижность электронов JLI+ - подвижность ионов ¡3 - коэффициент рекомбинации а - коэффициент Таунсенда у - обобщенный коэффициент вторичной эмиссии сое - циклотронная частота

АБС-пластик - акрилнитробутадиенстирольный пластик

MPC - магнетронная распылительная система

Аг - давление аргона

PC - распылительная система

СФКТ - система фотометрического контроля толщины

Я - длина волны

Рост - остаточное давление г - время напыления ур - скорость распыления

Щ - коэффициент отражения на границе раздела двух сред [ и ] АП - адгезионная прочность ЭМИ - электромагнитное излучение 3 - коэффициент распыления N— число Авогадро е - относительная диэлектрическая проницаемость п(Л) = п(Л) - 1-к(А) - комплексный показатель преломления п(А), к(Л) - действительная (показатель преломления) и мнимая (показатель поглощения) части комплексного показателя преломления

7дп - адгезионная прочность, Н/м рп - плотность пленки, кг/м

Ос - остаточные напряжения, Н/м е0 - диэлектрическая постоянная

ФРЭЭ - функция распределения электронов по энергиям

Еп - модуль Юнга ип - коэффициент Пуассона а - шероховатость поверхности

А - атомная масса распыляемого материала

Qэ - энергия электрического тока, выделяемая в разряде

Qв - количество тепла уносимого охлаждающей водой св - удельная теплоемкость воды, Дж/кг-°С г( - отношение энергии идущей на нагрев к вложенной в разряд энергии, %

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Аномальный тлеющий разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях в процессах нанесения оптических покрытий»

В настоящее время плазменные технологии находят широкое применение в машиностроении, радиоэлектронике и оптическом приборостроении, в том числе при нанесении покрытий на поверхности металлов, полупроводников и диэлектриков с целью придания им требуемых физических свойств.

Наиболее перспективными для процессов напыления являются разрабатываемые в последние годы плазменные методы получения покрытий. Анализ показывает, что многие вневакуумные методы осаждения имеют ограниченные возможности с точки зрения придания поверхности изделий заданных свойств. Так плазменные методы нанесения при атмосферном давлении обладая рядом существенных достоинств не позволяют получать высокоплотные покрытия, достаточно равномерные по толщине. Напыление в вакууме лишено этих недостатков, однако, малая скорость напыления и ограниченный набор пленкообразующих материалов, не всегда удовлетворяет разработчиков интерференционных конструкций. Появившиеся сравнительно недавно магнетронные распылительные системы, способные наносить как тонкопленочные, так и пленочные покрытия толщиной в несколько микрон, позволили существенно расширить область применения ионного распыления материалов в процессах нанесения покрытий.

Магнетронная распылительная система (MPC) позволяет осуществлять процесс испарения пленкообразующего материала с большой скоростью и с одновременной ионизацией и возбуждением распыленных атомов. Наличие возможности управления параметрами разряда позволяет направленно влиять на свойства получаемых покрытий. Поэтому технологии с применением магнетронной распылительной системы, являются перспективными в процессах изготовления тонкослойных оптических покрытий.

Работа направлена на решение актуальной проблемы создания новых совершенных магнетронных распылительных систем и исследование аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях в процессе нанесения покрытий, а также разработку теории и методики расчета MPC.

Работа выполнена в соответствии с программой «Научные исследования высшей школы по приоритетным направлениям науки и техники» в рамках научно - инновационного сотрудничества Министерства образования и ОАО «Автоваз» по подпрограмме «Создание новых материалов и технологий для автомобилестроения»; а также в рамках программы развития приоритетных направлений развития науки республики Татарстан на 2001-2005 г. по теме «Нанесение отражающих тонкопленочных покрытий в условиях динамического вакуума» и по теме «Функциональные покрытия для повышения эффективности оптико-электронных приборов, применяемых при оперативной диагностике газо-нефтепроводов».

Цель и задачи исследования. Целью работы являлось определение влияния параметров разряда в магнетронной распылительной системе на свойства формируемых покрытий и разработка на основе установленных закономерностей новых технологий получения оптических покрытий с улучшенными техническими и эксплуатационными характеристиками. Для достижения поставленной цели решались следующие задачи:

1. Создать установку для нанесения функциональных покрытий с помощью магнетронной распылительной системы;

2. Экспериментально исследовать аномальный тлеющий разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях в процессе нанесения покрытий;

3. Разработать математическую модель прикатодной области магнетронной распылительной системы;

4. Экспериментально исследовать свойства полученных покрытий и зависимость их от параметров разряда;

5. Разработать технологии получения оптических покрытий с заданными свойствами.

Объект и методы исследования. Основным объектом исследования Ф является аномальный тлеющий разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях, а также покрытия, полученные при его использовании.

Для исследования параметров аномального тлеющего разряда использовался зондовый метод измерения пространственного распределения плавающего потенциала электрического поля, измерение магнитного поля, распределение температуры, плотности разрядного тока на мишени, а также калориметрические измерения.

Полученные функциональные покрытия исследовались по следующим параметрам: адгезия, остаточные напряжения, спектральные характеристики, устойчивость к климатическим и механическим воздействиям.

Научная новизна работы.

1. Исследован аномальный тлеющий разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях магнетрона в процессах нанесения оптических покрытий;

2. Впервые разработана математическая модель прикатодной области разряда в магнетронной распылительной системе с учетом зависимости коэффициента ионизации от энергии электронов и напряженности электрического поля;

3. Впервые установлена закономерность влияния параметров аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях на характеристики получаемых покрытий;

4. Разработана технология нанесения покрытий с заданными свойствами при непрерывном контроле толщины наносимых покрытий;

5. Получены оптические покрытия с заданными свойствами (получены два патента и свидетельство на полезную модель).

Практическая ценность работы заключается в следующем: 1. На основе экспериментальных и теоретических исследований парамет-& ■ ров аномального тлеющего разряда в процессе нанесения покрытий разработаны технологии получения тонкопленочных покрытий с заданными свойствами;

2. Внедрены в промышленность созданные технологические процессы и специальное оборудование для нанесения покрытий с помощью MPC.

На защиту выносятся следующие научные положения и выводы:

1. Результаты комплексных экспериментальных исследований характеристик аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях в процессе нанесения оптических покрытий;

2. Математическая модель прикатодной области разряда в магнетрон-ной распылительной системе с учетом зависимости коэффициента ионизации от энергии электронов и напряженности электрического поля;

3. Закономерности влияния параметров разряда в MPC на характеристики получаемых покрытий;

4. Технология нанесения функциональных покрытий с помощью

MPC.

Структура и объем диссертации. Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения, списка литературы, включающего 116 наименований. Работа изложена на 130 страницах машинописного текста, содержит 44 рисунка, 1 таблицу.

Заключение диссертации по теме «Механика жидкости, газа и плазмы», Лучкин, Григорий Сергеевич

ВЫВОДЫ

1. Создана экспериментальная установка для нанесения функциональных покрытий при помощи магнетронной распылительной системы.

2. Разработана и применена система фотометрического контроля, благодаря которой достигнута высокая точность контроля толщины покрытий в процессе напыления.

3. Проведены комплексные экспериментальные исследования разряда в MPC в процессе напыления покрытий.

4. Разработана математическая модель прикатодной области аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях с учетом зависимости коэффициента ионизации от энергии электронов и напряженности электрического поля. Получена зависимость плотности тока на катоде от катодного падения потенциала, индукции магнитного поля, рода рабочего газа для различных давлений и температуры мишени.

5. Экспериментально исследованы свойства полученных покрытий. Определены зависимости между основными параметрами магнетронного разряда и свойствами покрытий. На основе этих зависимостей установлена возможность управления процессом напыления с целью получения покрытий с заданными свойствами.

6. Разработана технология нанесения покрытий с заданными свойствами при непрерывном контроле толщины наносимых покрытий.

Разработанные технологии получения оптических покрытий внедрены в ФГУП "КНИИРЭ" (экономический эффект составил 760 ООО руб) и в КГТУ (экономический эффект составил 126 ООО руб).

7. Получены многослойные функциональные покрытия: защитные покрытия, предохраняющие от механических повреждений и повышающие отражение зеркальной поверхности; токопроводящие покрытия, позволяющие изготавливать автомобильные зеркала с подогревом; теплоотражающие покрытия, позволяющие изготавливать на их основе теплосберегающие окна; оптические покрытия для автомобильных зеркал, позволяющие предотвратить ослепление водителя светом фар идущего сзади автомобиля в темное время суток (получено два патента и одно свидетельство на полезную модель).

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Лучкин, Григорий Сергеевич, 2005 год

1. Сидоров А.И. Восстановление деталей машин напылением и наплавкой / А.И. Сидоров.- М.: Машиностроение, 1987. 192 с.

2. Денисенко Э.Т. Применение износостойких покрытий в машиностроении / Э.Т. Денисенко, Д.Ф. Калинович, Л.И. Кузнецова // Вестник машиностроения. 1988. - № 2. - С. 71 - 77.

3. Хасуй С. Наплавка и напыление/ С. Хасуй, О. Моригаки М.: Машиностроение, 1985.-240 с.

4. Хасуй А. Техника напыления / А. Хасуй М.: Машиностроение, 1982. -215с.

5. Спиридонов В.В. Плазменные и лазерные методы упрочнения деталей машин / В.В. Спиридонов, О.С. Кобяков, И.Л. Куприянов; Под ред. В.Н. Начина. Минск: Вышейшая школа, 1988. - 155 с.

6. Кудинов В.В. Плазменные покрытия / В.В. Кудинов М.: Наука, 1977. - 270 с.

7. Хасуй А. Техника напыления/ А. Хасуй М.: Машиностроение, 1975. -228 с.

8. Miyaki К. Улучшенная система ионно-лучевого осаждения с ионным источником на основе ВЧ-распыления. / К. Miyaki // Nucl. Instrum. and Meth. Phys. Res. B. 1997. - 121, № 1 - 4. - P. 102 - 106.

9. Попов В.Ф. Процессы и установки электронно-ионной технологии / В.Ф. Попов, Ю.Н. Горин. Учеб. Пособие для вузов. - М.: Высш. шк., 1988. -255 с.

10. Патент № 93057406 / 02 Россия, С 23,1996.

11. Патент № 483867 Япония, С 23, 1992.

12. Lin J.H. / J.H. Lin, L.J. Chen // Appl. Phys. 1955. - 77, № 9, P. 4425 -4430.

13. Бессараба В.И. Оптические свойства тонких пленок сложных гексаборидов / В.И. Бессараба, Е.М. Дудина и др. // Киев: Порошковая металлургия. 1995, № 1 - 2. - С.102 - 105.

14. Патент № 5421890 США С 23,1995.

15. Movchan В.А. ЭЛИ осаждение из пара в производстве турбин защитных слоев на лопатки. / В.А. Movchan, J. Miner// Metals and Mater. Soc. J. Metals. 1996.-48, № 1,-P. 40-45.

16. Патент № 466662 Япония С 23, С 14/30, 1992. Устройство для вакуумного осаждения слоев.

17. Патент № 466659 Япония С 23, С 14/06,16/34,1992.

18. Greer J.А. Перспективы развития метода импульсного лазерного осаждения на большие поверхности. / J.A. Greer, M.D. Tabat // Nucl. Instrum. and Meth. Phys. Res. B. 1997. - 121, № 1 - 4, - P. 357 - 362.

19. Xiao R.F. Выращивание тонких пленок методом импульсного лазерного осаждения с использованием жидкой мишени/ R.F. Xiao // J. Вас. Sci and Technics A. 1997. - 15, № 4, - P. 2207 - 2213.

20. Aisenherg S. Phisics of ion Plating and ion Btfm Deposition / S. Aisenherg, R. W. Chabot // J. Vac. Sci. Technol. 1973. - № 1. - P. 104 - 107.

21. Cutting tool as good as gold // Metalworking Production.-1983. № 7. P. 4547.

22. Davy F. G. R-F Bias Evaporation (ion Plating) of Non-Metal Thin Films. / F. G. Davy, 1.1. Hahak // J. Vac. Sci. Technol. 1974. № 1. P. 43 - 47.

23. Stowell W. R. Ion Plated Titanium Carbide Coatings / W. R. Stowell // Thin. Solid. Films. -1974, № 1. P. 111 120.

24. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок / Б.С. Данилин. М.: Энергоатомиздат, 1989 - С. 328.

25. Данилин Б.С. Вакуумная техника в производстве микросхем / Б.С. Данилин. М.: Энергия, 1972.

26. Патент № 421772 Япония С 23, С 14/32, 1992. / Установка для нанесения тонких пленок.

27. Патент № JP2004107774 Method and apparatures for improving sidewall caverage during sputtering in a chamber having an inductively coupled plasma, // Takano Masahide; Naono, C23C14/34; C23C14/08,2004-04-08.

28. Лунев И.В. Особенности формирования тонких пленок оксида А1 высокочастотным магнетронным методом. / И.В. Лунев, В.Г. Падалка // Физика и химия материалов 1996. - № 3. - С. 78 - 83.

29. Miyaki К. Улучшенная система ионно-лучевого осаждения с ионным источником на основе ВЧ-распыления. / К. Miyaki // Nucl. Instrum. and Meth. Phys. Res. B. 1997. - 121, № 1 - 4. - P. 102 - 106.

30. Poirot С. Характеристики тонких пленок алюмината лантана, полученные ВЧ-распылением. / С. Poirot // Science and Technology Thin Films Superconducters 1990. - P. 389 - 394.

31. Данилин Б.С. Высокочастотное ионное распыление/ Б.С. Данилин, В.И. Логунов // Зарубежная электронная техника. 1971. Вып. 3. - С. 3 - 24.

32. Лабунов В.А. Многопучковые ионные источники для систем ионного травления/ В.А. Лабунов, Н.И. Данилович, В.В. Громов // Зарубежная электронная техника. 1982. Вып. 5(251). - С. 82 - 120.

33. Лабунов В.А. Ионно-лучевые источники для обработки поверхности твердых тел и получения тонких пленок/ В.А. Лабунов, Г. Рейсе // Зарубежная электронная техника. 1982. Вып. 1(247). - С. 3 - 42.

34. Данилин Б.С. Магнетронные системы ионного распыления/ Б.С. Данилин, В.Е. Минайчев, В.К. Сырчин // Электронная промышленность. 1976.-Вып. 5 С. 42-46.

35. Данилин Б.С. Магнетронные распылительные системы/ Б.С. Данилин, В.К. Сырчин // Приборы и техника эксперимента. 1978. №4. - С. 7 - 18.

36. Данилин Б.С. Магнетронные распылительные системы/ Б.С. Данилин // Зарубежная радиоэлектроника. 1978. №4. - С. 87-105.

37. Данилин Б.С. Магнетронное распыление универсальный метод получения тонкопленочных структур/ Данилин Б.С. // Электронная техника. Сер. 6. 1983. - Вып. 6. (179). - С. 65-73.

38. Данилин Б.С. Нанесение тонких пленок в производстве интегральных микросхем (современное состояние и перспектива)/ Б.С. Данилин // Электроника (Итоги науки и техники). М.: ВИНИТИ, 1984. Т. 16/ - С. 145179.

39. Райзер Ю.П. Основы современной физики газоразрядных процессов/ Ю.П. Райзер М.: Наука. 1980.

40. Минайчев В.Е., Магнетронные распылительные устройства (магратроны)/ В.Е. Минайчев, В.В. Одиноков, Г.П. Тюфаева // М.: Электроника, 1979. 56 с.

41. Бабарицкий А.И. Исследование стационарного разряда в скрещенных электрических и магнитных полях/ А.И. Бабарицкий, A.A. Иванов, В.В. Северный // Физика плазмы, 1977 Т. 3. -№4. - С. 894-899.

42. Thronton J.A. Thin film processes / J.A. Thronton, A.S. Penfold N.Y.: Academic, 1978. - 263 p.

43. Данилин Б.С. Магнетронные распылительные системы/ Б.С. Данилин, В.К. Сырчин // М.: Радио и связь, 1982.

44. Данилин Б.С. Вакуумно-технические проблемы изготовления сверхбольших интегральных схем/ Б.С. Данилин // Электроника (Итоги науки и техники). М.: ВИНИТИ. 1986. Т. 18. - С. 133-183.

45. Данилин Б.С. Вакуумно-технические проблемы ионного, ионно-химического и плазмохимического травления микроструктур/ Б.С. Данилин,

46. B.Ю. Киреев // Обзоры по электронной технике. Сер. З.М.: ЦНИИ «Электроника», 1984. Вып. 5 (1050).

47. Лабунов В.А. Вакуумные системы откачки агрессивных газов в технологии микроэлектроники/ В.А. Лабунов, Г.И. Мельянц, В.И. Гранько,

48. C.С. Сухоруков // Зарубежная электронная техника. 1987. №6 (313). - С. 354.

49. Данилин Б.С. О рациональном использовании откачных средств для установок ионного распыления и травления материалов/ Б.С. Данилин, В.Е. Минайчев // Электронная техника. Сер. 3. 1973. Вып. 3. - С. 90-97.

50. Андрушко А.Ф. Экспериментальное исследование пленок алюминия, осажденных в магнетронной системе ионного распыления/ А.Ф. Андрушко,и

51. Б.С. Данилин, В.Е. Мнайчев и др. // Электронная техника. 1978. Вып. 3 (75). - С. 93-96.

52. Лихтман А.Е. Распылительные магнетронные источники для действующего вакуумно-напылительного оборудования/ А.Е. Лихтман, Л.А. Сейдман // Электронная промышленность. 1980. Вып. 5(89). - С. 55-56.

53. Лабунов В.А. Современные магнетронные распылительные устройства/ В.А. Лабунов, Н.И. Данилович, А.С Укусов., В.Е. Минайчев // Зарубежная электронная техника. 1982. Вып. 10. - С. 3-62.

54. Патент № US6730196 Auxiliary electromagnets in a magnetron sputter reactor Wang Weid (US); Gopalraja EC: C23C14/04D; C23C14/16B; 2004-0504.

55. Корчагина M.H. Математическое моделирование рабочих характеристик магнетронных систем ионного распыления/ М.Н. Корчагина, Н.В. Савенков, Б.В. Корчагин // Электронная техника. Сер. 1. 1986. Вып. 1 (385). - С. 62-63.

56. Magnetron sputter system 900. Проспект фирмы Materials Research GmbH, США. 1977.

57. S-gun thin film source. VAC 2436, 475 Section 14. Проспект фирмы Varian Vacuum Division, CULA. 1975.

58. Abe К. Planar magnetron sputtering cathode with deposition rate distribution controllability/ K. Abe, T. Kabagashi, T. Kamel e.a.// Thin Solid Films. 1982. -Vol. 96,-N. 2.-P. 225-233.

59. Majevic V.l. Hollow cathode magnetron discharge/ V.l. Majevic // Phys. Lett. 1982. Vol. A92, - N. 9. - P. 39-40.

60. Андрушко А.Ф. Экспериментальное исследование пленок алюминия, осажденных в магнетронной системе ионного распыления/ А.Ф. Андрушко, Б .С. Данилин, В.Е. Минайчев и др. // Электронная техника. Сер. 1. 1978. -Вып. 3. (75). С. 93-96.

61. Данилин Б.С. Исследование равномерности нанесения тонкопленочных слоев в магнетронных системах ионного распыления материалов/ Б.С. Данилин, В.К. Сырчин, П.А. Тимофеев // Физика и химия обработки материалов. 1979. №3. - С. 108-112.

62. Минайчев В.Е. О нагреве подложек в планарных магнетронных распылительных системах/ В.Е. Минайчев, В.В. Одиноков, М.В. Какурин // Электронная техника. Сер. 3. 1980. Вып. 6. (90). - С. 79-81.

63. Майселл JI. Технология тонких пленок: Справочник. Т. 1. / под ред. Л. Майселла, Р. Гленга. М.: Сов. Радио. - 664 с.

64. Кудинов В.В. Нанесение покрытий плазмой/ В.В. Кудинов, П.Ю. Пекшев, В.Е. Белащенко и др. М.: Наука. 1990. - 408 с.

65. Минайчев В.Е. Магнетронное распыление магнитных материалов/ В.Е. Минайчев, В.В. Одиноков, Д.Д. Спиваков, Г.П. Тюфаева// Обзоры по электронной технике. Сер. 7. М.: ЦНИИ "Электроника", 1985. Вып. 14 (1138).

66. Данилин Б.С. Исследование магнетронной системы ионного распыления материалов/ Б.С. Данилин, В.К. Неволин, В.К. Сырчин // Физика и химия обработки материалов. 1978. Вып. 2. - С. 33-39.

67. Палатник Л.С. Механизм образования субструктуры конденсированных пленок/ Л.С. Палатник, М.Я. Фукс, В.М. Косевач М.: Наука, 1972. - 50 с.

68. Кадек В.И. /, А.Х. Лусис, Ю.Н. Соколов, Н.К. Лепинь // Изв. АН ЛатвССР, сер. хим., №5. 1975. С. 442-450.

69. Майселл Л. Технология тонких пленок: Справочник. Т. 2. / под ред. Л. Майселла, Р. Гленга. М.: Сов. Радио. - 768 с.

70. Рейтлингер С. А. Проницаемость полимерных материалов/ С. А. Рейтлингер М.: Химия. 1974. - 220 с.

71. Корюкин A.B. / A.B. Корюкин, А .Я. Королев, С.А. Рейтлингер // Физ.-хим. мех. мат. 1973. №6. - С. 53-55.

72. Липин Ю.В., Вакуумная металлизация полимерных материалов/ Ю.В. Липин, Рогачев, Харитонов .

73. Липин Ю.В. Защитно-декоративные вакуумные покрытия: Обзорная информация/ Т.М. Андронова, В.К. Гриките, Ю.В. Липин// Рига: ЛатвССР, сер. физ. и техн. наук. 1977. №1. - С. 64-72.

74. Корюкин A.B. Металлополимерные покрытия полимеров/ A.B. Корюкин М.: Химия. 1983. - 240 с.

75. Лучкин Г.С. Вакуумная установка для напыления функциональных покрытий методом магнетронного распыления/ Г.С. Лучкин // Научная сессия по итогам 2003 г. (3-6 февраля 2004 г.) Казань, 2004, КГТУ, - 329 с.

76. Брагин В. Е./ В. Е. Брагин, А. Н. Быканов, О. Н. Гусев и др.- М.ВАНТ, Сер. ядерная техника и технология, 1989. Вып. 1.-С. 16 - 18.

77. Зайдель А.Н. Погрешности измерений физических величин/ А.Н. Зайдель Л.: Наука, 1985 - 112 с.

78. Гисин М.А./ М.А. Гисин, Г.П. Конюхов, Е.А. Несмелов // Опт. и спектр.-1964. Т. 16. -Вып.1. - С. 151-152.

79. Абелес Ф. Оптические свойства металлических пленок/ Ф. Абелес В кн.: Физика тонких пленок. - М.: Мир, 1973. - Т. 6. - С. 171 - 227.

80. Зимон А.Д. Адгезия пленок и покрытий/ А.Д. Зимон М.: Химия, 1983. -352 с.

81. Несмелой Е.А. Измерение энергии адгезии тонких пленок/ Е.А. Несмелое, A.C. Никитин, А.Г. Гусев, О.Н. Иванов //ОМП.- 1982.- №10.- С. 34 -37.

82. Иванов Б.Н. Прибор для определения адгезии оптических покрытий методом царапин/ Иванов Б.Н. и др. //ОМП.- 1988.- №2.

83. Муранова Г.А. Исследование микропористости тонких пленок и ее влияние на оптические характеристики одиночных слоев и многослойных систем/ Г.А. Муранова Автореф. дис. канд. тех. наук. - JL, 1975. - 22 с.

84. Leger M. Intrinsic and thermal stress modeling for thin-film multilayers/ Leger M., Bastien R.S.//US Dep. Commer., Nat. Bur. Stand. Spec. Publ. 1977, -№509.-P. 230 - 243.

85. Галяутдинов P.T. Формирование защитных покрытий для алюминиевых зеркал методом магнетронного распыления/ Р.Т. Галяутдинов, Н.Ф. Кашапов, Г.С. Лучкин // «Сварочное производство», 2003, № 3. - С. 27 -31.

86. Francis F. Industrial applications of low temperatures plasma physics/ F. Francis - Phis. Plasmas vol. 2, - №.6. - June 1995. - P. 2164-2175.

87. Зиганшин P.P. О прикатодной области тлеющего разряда/ P.P. Зиганшин, З.Х. Исрафилов, Н.Ф. Кашапов // Физика газового разряда. Межвузовский сборник научных трудов. Казань. 1993. - С. 13-20.

88. Грановский B.JI. Электрический ток в газе/ B.JI. Грановский М.: Гостехиздат. 1952. 432 с.

89. Басыров Р.Ш. К теории аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях/ Р.Ш. Басыров, P.P. Зиганшин // Вакуумная техника и технология. 1997. Т. 7, - №3. - С. 38 - 40.

90. Ульянов К.Н. Теория нормального тлеющего разряда при средних давлениях/ К.Н. Ульянов // Теплофизика высоких температур. 1972. Т. 10. -№5.-С. 931 -938.

91. Басыров Р.Ш., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Модель приэлектродных процессов в магнетронных распылительных устройствах. "Прикладная физика", 2003, № 5, с. 37-41.

92. Басыров Р.Ш., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Модель прикатодной области электрического разряда в магнетронных распылительных устройствах. Тезисы докладов XXXI Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. Звенигород, 16-20 февраля 2004, с 202.

93. Гриценко В.А. Строение и электронная структура аморфных диэлектриков в кремниевых МПД структурах. Новосибирск: ВО "Наука". 1993.-280 с.

94. Мейксин З.Г. Несплошные и керментные пленки. В кн.: Физика тонких пленок.-М.: Мир, 1978, т.8, с. 106-179.

95. Золотарев В.М., Морозов В.Н., Смирнова Е.В. Оптические постоянные природных и технических сред. Справочник Л.: Химия, 1984 - 216 с.

96. Бернинг П.Х. Теория и методы расчета оптических свойств тонких пленок. В кн.: Физика тонких пленок. М.: Мир, 1967, т.1, с.91-151.

97. Борн М., Вольф Э. Основы оптики. М.: Наука, 1973. - 720 с.

98. Кард П.Г. Анализ и синтез многослойных интерференционных пленок. Таллин: Валгус, 1971. - 236 с.

99. Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Нанесение защитных покрытий магнетронным распылением. Научная сессия. КГТУ. 5-9 февраля 2001. Казань, с. 23.

100. Галяутдинов Р.Т., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Формирование защитных покрытий для алюминиевых зеркал методом магнетронного распыления. "Сварочное производство", 2003, № 3, с. 27-31.

101. R.T. Galyautdinov, N.F. Kashapov, G.S. Luchkin. Formatin of protective coatings for aluminium mirrors by magnetron sputtering. Welding International, 2003, 17, (8) 655-658.

102. Патент EP0689962 (JP) Vehicle mirror/ Komatsu Torn// 1996-01-03.

103. Патент EP0160198 Electrically heatable reflection element /Wank Joachim dipl-ing; Weber Hans-Leo dipl-ing, Waldenrath Werner dipl-ing// 1985-11-06.

104. Патент GB2303465 GB2303465 Mirror electrically heated through its reflective layer/ Branson Eric Arthur, Gray Teresa Mary// 1997-02-19.

105. Патент US5938957 (США) A planar heating device for a mirror/ Okano Yoshitaka (JP), Sakai Nobuhiro (JP), Tanahashi Kazuyuki (JP)// 1999-08-17.

106. Галяутдинов Р.Т., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Токопроводящие покрытия для спецткани, предназначенные для защиты от электромагнитного излучения. Научная сессия. КГТУ, 4-7 февраля 2003, Казань.

107. Галяутдинов Р.Т., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Зеркало с обогревом. Решение о выдаче патента на изобретение. №2003115318/28(016284), дата подачи заявки 22.05.2003.

108. Галяутдинов P.T., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Теплоотражающее покрытие. Научная сессия. КГТУ, 4-7 февраля 2003, Казань.

109. Галяутдинов Р.Т., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Вакуумное напыление теплоотражающих покрытий. Материалы десятой юбилейной научно-технической конференции "Вакуумная наука и техника", Крым, сентябрь, 2003 г., Том 1, с. 232-236.

110. Галяутдинов Р.Т., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Для улучшения автомобильных зеркал. Автомобильная промышленность, 2002, № 3, с. 21-23.

111. Галяутдинов Р.Т., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Многослойное зеркало заднего вида для транспортных средств. Полезная модель № 2001136078/20(038634) от 28.12.2001.

112. Галяутдинов Р.Т., Кашапов Н.Ф., Лучкин Г.С. Многослойное зеркало заднего вида для транспортных средств. Патент на изобретение № 2213362, зарегистрирован 27.10.2003 г.

113. Фейнман Р. Фейнмановские лекции по физике/ Р. Фейнман, Р. Лейтон, М. Сендс. М.: «Мир», 1976. - 496 с.