Методы диагностики структурных и дисперсионных свойств многослойных рентгеновских зеркал тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.01, доктор физико-математических наук Чхало, Николай Иванович

  • Чхало, Николай Иванович
  • доктор физико-математических наукдоктор физико-математических наук
  • 2009, Нижний НовгородНижний Новгород
  • Специальность ВАК РФ01.04.01
  • Количество страниц 401
Чхало, Николай Иванович. Методы диагностики структурных и дисперсионных свойств многослойных рентгеновских зеркал: дис. доктор физико-математических наук: 01.04.01 - Приборы и методы экспериментальной физики. Нижний Новгород. 2009. 401 с.

Оглавление диссертации доктор физико-математических наук Чхало, Николай Иванович

Введение

Глава 1. Моделирование и анализ влияния дефектов внутренней структуры на отражательные характеристики многослойных рентгеновских зеркал.

1.1. Методы расчета отражательных характеристик МРЗ.

1.2. Влияние межслоевой шероховатости на коэффициенты отражения 37 МРЗ.

1.3. Влияние плотностей пленок на коэффициенты отражения МРЗ.

1.4. Влияние флуктуаций толщин пленок на коэффициенты отражения 48 МРЗ.

Рекомендованный список диссертаций по специальности «Приборы и методы экспериментальной физики», 01.04.01 шифр ВАК

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Методы диагностики структурных и дисперсионных свойств многослойных рентгеновских зеркал»

Открытие в 1895 г. К. Рентгеном Х-лучей, впоследствии названных в отечественной литературе рентгеновскими лучами или рентгеновским излучением, явилось предвестником современной атомной физики и квантовой теории. Рентгеновские лучи нашли широчайшее применение в медицине, физике, технике, технологии и др. областях человеческой деятельности. В рамках данной работы представляется важным остановиться на некоторых применениях рентгеновского излучения в физической науке и технологии. Обсудить ряд проблем и задач, стоящих перед исследователями в области создания оптических элементов для управления рентгеновскими пучками (изменение размеров, направления распространения, угловых и спектральных характеристик пучков) и генерации этого излучения в лабораторных условиях. При рассмотрении этих вопросов весь диапазон длин волн рентгеновского излучения условно будет разделен на три основных поддиапазона: жесткое рентгеновское излучение с длинами волн Ле0,01 - 0,4 нм; мягкое рентгеновское излучение (MP), Яе0,4 - 10 нм и экстремальное ультрафиолетовое излучение (ЭУФ), Яе 10 - 60 нм.

Основу любого применения рентгеновского излучения составляют рентгенооптические элементы, которые должны обеспечить заданный спектральный состав, размеры и угловую расходимость пучка. В области жесткого рентгеновского излучения основу дисперсионных и отражающих элементов, до недавнего времени, составляли неорганические кристаллы и зеркала скользящего падения [1, 2]. Кристаллы сочетают высокую спектральную селективность и значительные, десятки процентов, . пиковые коэффициенты отражения. Одновременно это является и недостатком для ряда приложений, например, таких как рентгенофлуоресцентный анализ, микроскопия и др., где требуются значительные потоки фотонов при умеренном спектральном разрешении. Несколько большей светосилой обладают мозаичные кристаллы, однако, как правило, их выигрыш не превышает 2-х раз. [3].

Зеркала скользящего падения также обладают высокими коэффициентами отражения, могут иметь подложки из различных материалов, в том числе с высокой теплопроводностью (металл, кремний при низких температурах, карбид кремния и др.), что обеспечивает их широкое применение в качестве первого зеркала при работе с мощными синхротронными источниками излучения. Основным недостатком, ограничивающим их применение, являются малые рабочие углы, составляющие от долей до единиц градусов (углы отсчитываются от поверхности) в зависимости от длины волны. Малые рабочие углы с одной стороны уменьшают светосилу оптики, а с другой, приводят к значительным геометрическим аберрациям и дифракционному уширению при использовании в изображающих схемах.

Интересной разновидностью оптических элементов, основанных на явлении полного внешнего отражения, являются капиллярные "линзы" Кумахова [4]. Они практически не имеют ограничения по апертуре, что обеспечивает их высокую светосилу. Однако серьезными недостатками "линз" Кумахова являются полихроматичность и большой угловой разброс выходящего из капилляра излучения, что приводит к большой длине каустики сфокусированного излучения и, соответственно, к потере разрешающей способности. Это существенно сужает их область применения.

Среди современных рентгенооптических элементов, применяемых для фокусировки и изображения в жестком рентгеновском диапазоне, следует отметить Брэгг-френелевские [5] и френелевские [6] линзы, с помощью которых были получены пятна фокусировки диаметром до 20 нм. Основным недостатком френелевских линз является малая рабочая апертура, составляющая сотни микрометров.

Для коллимации и фокусировки жесткого рентгеновского излучения следует отметить активно развиваемые в последнее время рефрактивные линзы [7]. Однако, как и в случае с френелевской оптикой, их рабочие апертуры ограничиваются сотнями микрометров. Кроме того, из-за сильного поглощения излучения в материале, их эффективность крайне мала в длинноволновом краю жесткого рентгеновского диапазона. До сих пор также не решены технологические проблемы, ограничивающие их коллимирующие и изображающие свойства [8].

И в заключение необходимо также отметить фокусирующие свойства плоских волноводов на основе пленочных структур [9], обеспечивающих одномерную фокусировку излучения. Однако, в еще большей степени, чем для капиллярной оптики, область фокусировки непосредственно примыкает к торцу волновода, что крайне затрудняет их применение.

В области MP и ЭУФ излучения используются практически те же рентгенооптические элементы, что и в области жесткого излучения, но с рядом оговорок, вытекающими из особенностей взаимодействия излучения с длинами волн Ле0,4 - 60 нм с веществом. В этом диапазоне длин волн, за исключением его коротковолновой части, длина волны излучения превышает удвоенное межплоскостное расстояние неорганических кристаллов, широко применяемых в области жесткого рентгеновского излучения. Для MP области, вплоть до Л~10 нм, существует ряд органических кристаллов (КАР, RbAP, ОАО и др.), обладающих подходящими периодами решеток [10, 11]. В длинноволновой части спектра, до Л~16 нм, применяются молекулярные многослойные пленки, представляющие собой послойно наносимые на подложку мономолекулярные слои солей длинноцепных карбоновых кислот [12]. Однако, из-за сложного химического состава и, как следствие, сильного поглощения, кристаллы и Ленгмюр-Блоджетговские пленки обладают низкой эффективностью отражения в длинноволновом диапазоне, что ограничивает их использование в качестве дисперсионных элементов в современных рентгенооптических схемах, работающих на длинах волн более 2 нм.

Наибольшее применение в качестве дисперсионных элементов в диапазонах MP и ЭУФ излучения имеют дифракционные решетки, прежде всего вогнутые, работающие в режиме скользящего падения [13, 14]. На их базе создан ряд лабораторных спектрометров [14, 15, 16]. Некоторые типы спектрометров выпускаются серийно, среди которых, по своим характеристикам выделяются спектрометры фирмы McPherson [17, 18]. Среди отечественных спектрометров скользящего падения для этого диапазона длин волн можно отметить разработанный А.П. Лукирским почти 50 лет назад спектрометр-монохроматор РСМ-500 [19], который, по сути, остается единственной рабочей моделью отечественного рентгеновского спектрометра.

Современные решеточные спектрометры MP и ЭУФ излучения, использующие роуландовскую схему установки решетки, обладают высокой дифракционной эффективностью, Rd^> 10%, при спектральном разрешении

Л/<ЗЯ~1000-5000 в области длин волн Ле4-60 нм и А/ёЛ~100-1000 при Ае0,4-4 нм [20, 21]. Обращает на себя внимание низкое спектральное разрешение решеток в области длин волн порядка 1 нм. Это объясняется их низкой дисперсией (A/d«l, где d - период решетки) и малыми рабочими углами, приводящими к значительным аберрациям.

С точки зрения изображающей оптики, в MP и ЭУФ диапазонах используются те же элементы, что и в жестком, за исключением рефрактивной оптики, которая не применяется из-за поглощения.

Революционное значение для развития рентгенооптики имеет созданная в начале 80-х годов 20 века технология производства многослойных рентгеновских зеркал (МРЗ). МРЗ представляют собой чередующуюся систему тонких пленок различных материалов [22, 23, 24]. В основе высоких коэффициентов отражения МРЗ, несмотря на сильное поглощение и близость показателей преломления к единице, лежит принцип интерференции волн, отраженных от различных границ, и эффект Бормана, уменьшающий поглощение волны в многослойной структуре [25]. В работах А.В. Виноградова и Б.Я. Зельдовича [24, 26] были получены аналитические выражения для расчета толщин слоев в периоде и числа периодов, обеспечивающих максимальные коэффициенты отражения для данной пары материалов, заданной длины волны и угла падения излучения на МРЗ. Численные расчеты, с использованием известных на тот момент значений оптических констант ряда материалов, показали, что коэффициенты отражения таких структур достигают десятков процентов во всем рентгеновском диапазоне длин волн. Также были рассчитаны дисперсионные и поляризационные свойства МРЗ. Позднее А.Е. Розенблютом были выполнены систематические расчеты коэффициентов отражения практически для всех твердых материалов таблицы Менделеева в спектральном диапазоне 0,6-12,4 нм [27]. При расчетах использовались систематизированные Б. Хенке оптические константы [28]. Расчеты показали, что в MP и ЭУФ диапазонах коэффициенты отражения достигают 80%.

Первые эксперименты по синтезу многослойных структур, проведенные практически одновременно в США и в СССР в принципе подтвердили основные теоретические прогнозы [29, 30, 31]. Это послужило мощным стимулом для развития этих технологий в ряде ведущих стран мира [32, 33, 34, 35, 36]. Развитие тематики велось по ряду направлений, включая технологию, методы контроля отражательных характеристик, изучение оптических констант материалов в рентгеновском диапазоне, исследования физики многослойных структур и тонких пленок.

С момента появления МРЗ применялись в основном для диагностики высокотемпературной плазмы по ее собственному излучению в диапазоне длин волн 1-10 нм [37, 38, 39]. Определенный интерес экспериментаторов представляли уникальные поляризационные свойства МРЗ [40]. Однако с совершенствованием качества и расширением номенклатуры напыляемых материалов, область применения МРЗ существенно расширилась. В частности, они получили широкое применение для рентгенофлуоресцентного анализа и микроанализа легких элементов [41, 42], в качестве делителей рентгеновских пучков [43] и первого радиационно-стойкого элемента в высокоразрешающих монохроматорах на основе органических кристаллов [44], для поляризации и поляриметрии рентгеновского излучения [40, 45]. Благодаря многослойным отражающим покрытиям, нанесенным на поверхность дифракционных решеток, удалось увеличить рабочие углы и, соответственно, светосилу последних [29, 46].

Появление МРЗ с переменным по поверхности зеркала периодом (//-graded структуры) [47, 48] существенно расширило область их применения. На их основе стало возможным создание высокоотражающих зеркал нормального падения с кривой формой отражающей поверхности [49]. Поскольку такие зеркала имеют минимальные аберрации, на их основе стали создаваться светосильные изображающие схемы с высоким пространственным разрешением. Наиболее ярко, возможности многослойной оптики проявились при создании высокоразрешающих рентгеновских микроскопов [50] и литографических установок ЭУФ диапазона [51, 52].

Другой, не менее важной областью применения многослойной Gf-graded оптики, явилось создание коллимирующих и фокусирующих зеркал для жесткого рентгеновского диапазона [48, 53]. Параболические i/-graded зеркала почти на два порядка увеличили поток фотонов в экспериментах по рентгеновской дифракции и малоугловому рассеянию [53, 54]. Эллиптические многослойные зеркала обеспечивают высокий поток фотонов на образцах при использовании их в схемах флуоресцентного микроанализа. В настоящее время большинство серийно выпускаемых рентгеновских дифрактометров оснащено такими зеркалами.

Суммируя все вышеизложенное, можно констатировать, что многослойное зеркало является одним из наиболее универсальных элементов современной рентгенооптики, как с точки зрения диапазона длин волн, в котором они применяются (0,01-60 нм), так и по функциям: монохроматизация, фокусировка, коллимация, построение изображений, поляризация и анализ состояния поляризации излучения. При этом остается, пожалуй, самым светосильным элементом.

Актуальность работы. Эффективность применения МРЗ в научных и прикладных исследованиях напрямую зависит от их физических, прежде всего отражательных, характеристик. Свойства МРЗ, по сути являющихся продуктом атомной инженерии, целиком определяются микроструктурой пленок на атомарных и субатомарных масштабах. В частности, для обеспечения конструктивной интерференции волн, отраженных от различных границ, допустимые флуктуации толщин пленок должны быть на уровне сотых долей монослоя. Другим важным фактором, существенно влияющим на коэффициенты отражения МРЗ, является наличие переходных областей между пленками, которые формируются за счет взаимодиффузии материалов пленок, имплантации высокоэнергичных атомов и ионов поступающего конденсата, и ростовых особенностей. К этому необходимо добавить, что все эти процессы являются сложной функцией толщин пленок, физико-химических и геометрических свойств поверхности подложки и условий роста пленок, давления остаточного и рабочего газов, температуры подложки, энергии и количество поступающего на растущую структуру в единицу времени конденсата.

Среди макроскопических факторов, влияющих на коэффициенты отражения МРЗ, следует отметить отличие плотностей тонких пленок от табличных значений. Из-за малой разницы диэлектрических проницаемостей материалов в рентгеновском диапазоне даже небольшие отличия плотностей пленок от табличных значений (10-20%) могут приводить к значительному, в разы, падению коэффициентов отражения МРЗ. Плотности пленок определяются их микроструктурой.

Дополнительные сложности возникают при синтезе МРЗ с переменным по поверхности периодом D. Необходимо учитывать, что градиент периода dD/dr может достигать величин порядка ОД нм/мм, а отклонения локальных значений периода от расчетных значений не должны превышать 0,1-0,3%. Такие требования нередко предъявляются к структурам, нанесенным на сложные, в общем случае асферические, поверхности.

Учитывая сложность и специфику объекта, потребовалось расширение и модернизация традиционных рефлектометрических и дифракционных методик, а также создание новых экспериментальных методов и приборов, физических моделей и подходов для изучения МРЗ. При разработке новых методов исследования МРЗ необходимо было учитывать, что наряду с решением научных задач, данные разработки носили ярко выраженный прикладной характер, связанный с обеспечением проводимых в ИФМ РАН работ в области технологий роста МРЗ. В частности, методики должны были оперативно обеспечивать информацией технологов о физических характеристиках МРЗ, с целью последующей коррекции технологического процесса, и проводить окончательную аттестации спектральных и угловых характеристик МРЗ.

На отражательные характеристики и изображающие свойства МРЗ существенное влияние оказывают подложки, на которые наносятся многослойные наноструктуры. Наряду с общим требованием на атомарную гладкость поверхностей, к подложкам предъявляются и специфические требования, связанные с особенностями задач, решаемых с помощью МРЗ. Например, применение зеркал в условиях воздействия интенсивных рентгеновских пучков (синхротроны, термоядерная и солнечная плазма) накладывает дополнительные условия на теплопроводность материала подложки. Для обеспечения дифракционного пространственного разрешения рентгенооптических систем форма поверхности зеркал должна быть выполнена с субнанометровой точностью.

Выполнение этих условий потребовало развития специальных методов аттестации основных характеристик подложек и рентгенооптических систем, и технологий полирования широкого класса материалов.

Непременным условием динамичного развития многослойной рентгеновской оптики является применение МРЗ в новых приборах и оборудовании. Верно и обратное, достижения в области технологии роста МРЗ открывают новые возможности в конструировании приборов. Таким образом, поиск новых практических приложений МРЗ в науке и технике представляется весьма актуальным.

Цели работы. Основными целями диссертационной работы являются:

• Развитие физических моделей, рефлектометрических методик и сопутствующего оборудования для изучения отражения, прохождения и рассеяния рентгеновского излучения МРЗ, с произвольной формой поверхности.

• Развитие и применение на практике комплексных методик для изучения внутреннего строения МРЗ, микроструктуры пленок и межслоевых областей, а также их динамики в процессах роста и термического отжига.

• Развитие принципов построения и методов оптимизации основных элементов спектрометров MP излучения на основе МРЗ для диагностики плазмы. Разработка действующих спектрометров.

• Разработка методов коррекции и измерения формы поверхностей подложек и волновых деформаций проекционных объективов с субнанометровой точностью.

Работа состоит из введения, шести глав и заключения.

В первой главе описываются используемые в диссертации методы расчета отражательных характеристик МРЗ, являющиеся основой для получения структурных параметров МРЗ по данным рентгеновской рефлектометрии. Расчеты выполнены с использованием модели сплошной среды по формулам рекуррентных соотношений JI. Паррата [55] и метода медленных амплитуд [56]. Слои характеризуются комплексными диэлектрическими проницаемостями, выражаемыми через атомные факторы рассеяния и плотности, и толщинами, в общем случае произвольными по глубине структуры. Приводятся результаты численного моделирования ряда наиболее часто встречаемых многослойных структур, демонстрирующие степень влияния на отражательные характеристики таких несовершенств структуры как: межплоскостная шероховатость, случайные флуктуации и систематическое изменение толщин пленок в МРЗ, отклонение плотностей пленок от табличных значений. В дальнейшем этот формализм и результаты численных расчетов используются при решении обратной задачи, т.е. при восстановлении основных структурных параметров МРЗ, по данным измерений угловых и спектральных зависимостей коэффициентов отражения, а также при оптимизации структуры многослойных зеркал для различных приложений.

Одним из важных результатов данной главы является демонстрация ограниченности традиционных подходов, использующих модель симметричной элементарной ячейки при описании свойств МРЗ. Показано, что если элементарная ячейка имеет одну «идеальную» границу, то в жестком рентгеновском диапазоне коэффициенты отражения МРЗ практически не зависят от шероховатости второй границы, влияние которой сводится только к увеличению длины экстинкции рентгеновской волны в структуре и, соответственно, к некоторому увеличению селективности МРЗ. В MP диапазоне, из-за большого поглощения, эффект несовершенной границы проявляется сильнее.

Отклонение плотностей материалов пленок от табличных значений в жесткой части спектра так же сводится к увеличению длины экстинкции и, как следствие, к сложностям при восстановлении структурных параметров МРЗ по данным рефлектометрии на длине волны 2=0,154 нм. Для определения плотности реальных пленок в МРЗ, лучше всего использовать рефлектометрические данные в предкраевых областях поглощения материалов, составляющих МРЗ.

Случайные флуктуации толщин пленок вокруг средних значений 6d/d<1% слабо влияют на пиковые значения коэффициентов отражения и полуширины кривых качания. С точки зрения восстановления внутреннего строения МРЗ это позитивный факт, так как в наименьшей степени может быть учтен математически. С другой стороны, это обстоятельство затрудняет их экспериментальное детектирование, что оказалось серьезной проблемой с точки зрения предсказания поляризационных и фазовых характеристик МРЗ работающих «на просвет». Обнаружение систематических и скачкообразных изменений толщин пленок оказалось достаточно простой экспериментальной задачей, так как они проявляются в уширении или расщеплении брэгговских пиков.

К имеющим важное практическое значение результатам можно отнести оценку влияния различных дефектов внутренней структуры МРЗ на угловые и спектральные зависимости коэффициентов отражения и выработку соответствующих требований к характеристикам рефлектометров.

Глава 2 диссертационной работы посвящена развитию экспериментальных методов и математических моделей, используемых при восстановлении структурных параметров МРЗ по угловым зависимостям интенсивности зеркального и диффузного рассеяния жесткого рентгеновского излучения. Показаны область применения и достоинства каждой экспериментальной методики. Значительное место уделено анализу возможных случайных и систематических погрешностей определения абсолютных значений коэффициентов отражения, положения пиков отражения и полуширин кривых качания. Подробно рассмотрена проблема измерения МРЗ с градиентом периода по поверхности.

Заключительная часть главы посвящена применению жесткого рентгеновского излучения для измерения шероховатости поверхности подложек. Приводится фактический материал по шероховатостям, полученным при полировании различных материалов и сравнение полученных результатов с мировым уровнем.

К основным научным и практическим результатам, полученным в этой главе можно отнести следующее:

• Созданы экспериментальные методики для измерения коэффициентов отражения многослойных зеркал в жестком рентгеновском диапазоне. Образцы могут иметь изогнутую форму поверхности и переменное, с градиентом до 0,1 нм/мм, распределение периода по поверхности зеркала.

• Экспериментально подтверждена ограниченность традиционных моделей, использующих симметричную элементарную ячейку при восстановлении структурных параметров МРЗ по угловой зависимости коэффициента отражения жесткого рентгеновского излучения. Предложена экспресс-методика для восстановления профиля электронной плотности (диэлектрической проницаемости) в многослойных структурах по измеренным гармоникам разложения диэлектрической проницаемости в ряд Фурье. Полученные таким методом профили электронной плотности хорошо описывают коэффициенту отражения МРЗ во всем рентгеновском диапазоне длин волн.

• На основе анализа угловых зависимостей интенсивности диффузного рассеяния и зеркального отражения рентгеновского излучения развита методика, позволившая, в случае полной продольной корреляции межслойных границ в многослойных структурах, разделить вклады геометрической шероховатости и диффузионного перемешивания пленок в общую глубину переходной области на границах между различными материалами. Получены аналитические выражения для описания угловых зависимостей интенсивности диффузного рассеяния в кинематическом и динамическом случаях.

• Впервые изучены корреляционные свойства границ многослойных структур с ультракороткими, d~ 1 нм, периодами. Показана высокая степень их корреляции. Как и для структур с «большими» периодами, для них наблюдается резонансное диффузное рассеяние. Эти исследования позволили диагностировать потерю сплошности пленками металла в короткопериодных МРЗ.

• Развита методика измерений и технология полирования подложек для рентгенооптики с микрошероховатостями поверхностей на субнанометровом уровне.

Разработанные в данной главе методики являются штатными в ИФМ РАН и широко применяются в научных исследованиях в рамках институтских и совместных с другими организациями программ.

Третья глава посвящена проблемам рефлектометрии в MP и ЭУФ диапазонах. В отличие от жесткого диапазона, для данной спектральной области отсутствует стандартное оборудование, позволяющее проводить эти исследования в лаборатории. Поэтому основные работы в этой области сконцентрированы в нескольких мировых синхротронных центрах. Немногочисленные лабораторные рефлектометры отличаются скромными техническими характеристиками и по ряду параметров не удовлетворяют современным требованиям для аттестации МРЗ [125].

В начале главы обсуждаются основные проблемы лабораторной рефлектометрии. Описываются развитые в ходе выполнения диссертационной работы физические принципы построения рефлектометров для MP и ЭУФ диапазонов. Приводится описание и основные характеристики разработанных рефлектометров. Особое внимание уделяется методам тестирования основных характеристик приборов, включая точность измерений абсолютных значений коэффициентов отражения, положения и полуширин брэгговских пиков, поляризационных свойств зондового пучка. Большое внимание уделено особенностям исследования короткопериодных зеркал. Приводится фактический материал по отражательным характеристикам МРЗ на основе большого ряда пар материалов.

На примере двух светосильных рефлектометров, показана эффективность применения специализированных приборов, имеющих некоторый «базовый» набор функций, для решения специальных задач. В частности, с их помощью в лабораторных условиях была достигнута точность измерений, характерная для рефлектометров, работающих на синхротронах. При этом сохраняются основные преимущества лабораторного прибора: доступность, оперативность, малые габаритные размеры и низкая стоимость. При необходимости эти приборы могут быть легко встроены в аналитико-технологические комплексы по типу «нанофабов». Приводятся примеры применения этих приборов для научных исследований.

В конце главы описываются детекторная система и разборные рентгеновские трубки, являющиеся ключевыми элементами, определяющими технические характеристики рефлектометров. Разработанные рентгеновские трубки, по ряду характеристик превзошли мировой уровень.

Основные результаты, полученные в этой главе можно сформулировать следующим образом:

Разработан и изготовлен ряд лабораторных рефлектометров, обеспечивших изучение всех без исключения типов элементов рентгеновской оптики в диапазоне длин волн 0,6-25 нм. Изучены особенности аттестации различных рентгенооптических элементов, созданы соответствующие экспериментальные методики.

• Для экспериментов, требующих неподвижное положение щелей монохроматора, например при работе с синхротронами, разработан решеточный спектрометр по схеме Черни-Тюрнера, перекрывающий 2-мя наборами дифракционных решеток и коллимирующих зеркал диапазон длин волн 0,8-20 нм.

• Разработаны специализированные рефлектометры, обеспечивающие точность измерений коэффициентов отражения и пропускания элементов рентгенооптики на уровне 0,1%, а так же проведение исследований с детекторами и фоторезистами.

• Измерен коэффициент конверсии энергии электронов в энергию флуоресценции линии Si La при облучении кремниевой мишени быстрыми электронами. Показана возможность его увеличения в 2 раза за счет введения прослоек «тяжелого» металла.

• Разработаны и изготовлены разборные рентгеновские трубки, являющиеся источниками излучения в MP и ЭУФ диапазонах для различных приложений. Благодаря ряду решений, включая применение ионного источника для очистки мишеней, по своим техническим характеристикам они превосходят мировые аналоги.

• Разработана универсальная детекторная система, предназначенная для регистрации MP и ЭУФ излучения, а также частиц, вызывающих вторичную электронную эмиссию, в режиме счета единичных событий. Электроника обеспечивает скорость регистрации до 106 регистрируемых событий в секунду при сохранении линейности на уровне 1%.

Четвертая глава диссертационной работы посвящена исследованию микроструктуры углеродосодержащих (Ni/C и Со/С) МРЗ и физических процессов, происходящих в них при температурном отжиге. Актуальность этих исследований связана с тем, что традиционные методы малоуглового рассеяния жесткого рентгеновского излучения не позволяют экспериментально определить ни микроструктуру пленок, ни механизмы их роста. Помимо общих существовали и конкретные физические проблемы, связанные с различными объяснениями рядом авторов физических процессов, проходящих в углеродосодержащих структурах в процессе термического отжига [196].

Для решения этих проблем в диссертации использовалась комплексная методика изучения МРЗ, включающая малоугловое SAXS (small angle X-ray scattering) и широкоугловое WAXS (wide angle X-ray scattering) рассеяние жесткого рентгеновского излучения, и EXAFS (extended X-ray absorption fine structure) спектроскопию. SAXS чувствительно к геометрическим характеристикам многослойных структур, параметрам межслоевых границ и плотностям материалов. Угловые спектры WAXS несут информацию о микроструктуре материалов пленок, a EXAFS - о микроструктуре пленок и ближайшем окружении выбранных атомов. Эксперименты проводились на синхротроне ВЭПП-3, Института ядерной физики им. Г.И. Будкера.

Исходя из экспериментальных кривых радиального распределения атомов вокруг никеля, полученных по данным EXAFS спектроскопии в Ni/C МРЗ с различной толщиной напыляемого металла, включая результаты исследований SAXS, предложена следующая модель формирования переходных слоев и микроструктуры пленок металла в процессе роста МРЗ. Первоначально, по мере напыления, атомы металла внедряются в углеродную пленку без образования пленки металла. При этом период МРЗ слабо увеличивается. В кривых РРА наблюдается доминирование Ме-С взаимодействия. При нанесении эквивалентной толщины металла 0,4-0,5 нм начинается резкий рост Ме-Ме взаимодействия, означающий начало роста металлической пленки. До толщины 2-2,5 нм, она имеет аморфную структуру, которая способствует «гладкости» переходных границ. При дальнейшем увеличении толщины металла начинается его кристаллизация, сопровождаемая появлением высших координационных сфер взаимодействия на кривых РРА и увеличением микрошероховатости переходных границ. При толщине слоев металла около 5 нм, они становятся полностью кристаллическими, что проявляется в стабилизации микрошероховатости границ при последующем увеличении толщины металла. Эксперименты со стоячими волнами [А14] полностью подтвердили описанную модель формирования переходных слоев в Ni/C МРЗ.

Данные по динамике кривых РРА и дифрактограмм с ростом температуры отжига, в совокупности с результатами SAXS измерений позволили объяснить наблюдаемые физические явления, сопровождающие отжиг Ni(Co)/C МРЗ в рамках модели автокаталитического расслоения металла и углерода на границах, сопровождающегося кристаллизацией металла и, по-видимому, графитизацией углерода на границах. Повышение температуры отжига приводит к объемной кристаллизации металла, сопровождающейся ростом оптического контраста и межслоевой шероховатости на границах.

Эксперименты, проведенные с помощью атомов «меток» [А16], подтвердили доминирующую роль процессов на межслоевых границах, определяющих характер поведения микроструктуры, коэффициентов отражения и толщины пленок в процессе термического отжига. Наряду с понимание сложных физических явлений, сопровождающих рост и термический отжиг углеродосодержащих МРЗ, эти исследования внесли значительный вклад и в методологию изучения многослойных структур, продемонстрировав высокий потенциал EXAFS-спектроскопии для изучения переходных слоев и микроструктуры материалов пленок.

Пятая глава диссертационной работы посвящена спектрометрам на основе МРЗ для рентгеновской диагностики плазмы. В последние годы, благодаря ряду уникальных свойств, МРЗ стали основой при разработке спектральной аппаратуры для рентгеновской диагностики плазмы. Учитывая широчайший диапазон характеристик плазменных объектов и задач, решаемых исследователями, потенциальные возможности многослойной рентгеновской оптики, для эффективного решения конкретных задач, назрела необходимость выработки общих принципов и подходов, при проектировании спектрометров, использующих МРЗ в качестве дисперсионных элементов.

В диссертации рассматриваются принципы построения спектрометров и способы оптимизации их основных элементов (зеркала, отрезающие фильтры, коллиматоры и детекторы) в зависимости от конкретных задач. Приводится описание ряда спектрометров, разработанных автором и нашедших применение в ряде отечественных и зарубежных лабораторий.

Приводится сравнение регистрируемых в эксперименте сигналов спектрометра, использующих МРЗ в качестве дисперсионного элемента, и решеточного спектрометра McPherson. Это сравнение показало, что, во-первых, в пределах экспериментальной ошибки, данные калибровки, выполненной автором, совпали с результатами независимых измерений и, во-вторых, наглядно продемонстрировано преимущество спектрометра на основе МРЗ. Измерения были проведены на термоядерной установке RFX (г. Падуя, Италия).

Распространение идеологии дуохроматора на область MP и ЭУФ излучения выявило ряд проблем, связанных со значительным нерезонансным отражением многослойными зеркалами длинноволновой части ЭУФ излучения, низкой спектральной селективностью зеркал и вкладом второго порядка отражения от МРЗ в сигнал детектора. Решение этих задач потребовало поиска новых пар материалов для МРЗ, композитных фильтров и оптимизации детекторов [А20, А24].

Работы по источникам излучения для проекционной ЭУФ нанолитографии потребовали разработку универсального, малогабаритного и эффективного измерителя мощности излучения со спектральной полосой пропускания совпадающей с полосой пропускания оптической системы. Учитывая многообразие схем, прибор должен легко адаптироваться к изменению полосы пропускания в широких пределах. В рамках диссертационной работы был разработан прибор, вместивший в себя основные достижения в области создания многослойных зеркал [А32] и отрезающих фильтров [А63] в ИФМ РАН. Главной особенностью данного прибора является использование в качестве монохроматора двух многослойных зеркал, что позволило управлять спектральной полосой прибора в широких пределах при сохранении рекордной общей эффективности регистрации.

Установленный на входе прибора вращающийся диск с диафрагмами обеспечивает широкий динамический диапазон по мощности регистрируемого излучения. Установка на диск фильтров с известной спектральной полосой пропускания позволяет расширить спектральный диапазон прибора до видимого. К настоящему времени в различных лабораториях мира работает около 10 таких приборов. Они используются как эталонный инструмент для аттестации различных источников ЭУФ излучения.

Шестая глава посвящена развитию интерферометрических методов аттестации и коррекции формы подложек для рентгеновской оптики с субнанометровой точностью. Согласно критерию Марешаля [237] для достижения дифракционного предела разрешающей способности оптической системы, корень квадратный из среднеквадратической аберрации (деформации) объектива RMS0bj должен удовлетворять соотношению RMSobJ<X/14, где X - длина волны излучения. Для оптической системы с числом элементов N допустимая ошибка на один элемент RMS; составляет RMS, <Л/(14- -Jn ). Для 6-ти зеркального проекционного объектива нанолитографа на длину волны Л= 13,5 нм, она не превышает 0,4 нм. А с учетом требований к контрасту литографического процесса эта величина составляет около 0,2 нм. С укорочением длины волны проекционной литографии до /1=6,7 нм, требования к точности формы зеркал ужесточаются до ОД нм. Этот же уровень точностей требуется для рентгеновской микроскопии и астрономии сверхвысокого разрешения.

Традиционные интерферометрические методы аттестации и технологии полирования оптических поверхностей гарантируют точность изготовления формы поверхности примерно на 2 порядка хуже, что сдерживало развитие отечественных программ по нанолитографии, рентгеновской микроскопии и астрономии сверхвысокого разрешения.

В рамках данной работы были изучены основные ограничения точности измерений традиционных интерферометров с дифракционной волной сравнения, которые для формирования эталонной сферической волны используют точечное отверстие в непрозрачном экране [245]. В частности показано, что источниками деформаций фронта являются взаимодействие вторичных волн с материалом экрана, неидеальность формы отверстия, аберрации первичной оптики и погрешности юстировки.

Для решения этих проблем был предложен новый источник эталонной сферической волны на основе одномодового оптического волокна с субволновой выходной апертурой [А67, А72]. На его основе создан вакуумный дифракционный интерферометр. Сравнение точности измерений, обеспечиваемой разработанным в диссертации интерферометром с интерферометром, установленном на синхротроне ALS (Беркли, США) и считающимся эталоном точности, показало, что данный интерферометр обеспечивает точность измерений волновых деформаций оптики лучше 0,1 нм (Х/6000 в длинах волн интерферометра) при рекордных, более чем в 2 раза, числовых апертурах.

Разработанные в диссертации методы изучения формы оптических поверхностей явились основой для развития методов коррекции формы с субнанометровой точностью светосильных подложек для рентгеновских зеркал. В диссертации на базе технологий вакуумного напыления и ионно-пучкового травления разработаны методы коррекции, обеспечивающие точность формы на уровне 0,3-0,5 нм. Найдены методы закрепления сверхточных подложек в механические оправы без деформации их поверхностей.

Основным результатом данной главы можно считать создание физических и технологических основ для развития сверхточной оптики, включая рентгеновскую, в стране.

В заключении формулируются основные результаты работы. На защиту выносятся следующие основные положения:

1. Разработанная экспериментальная методика на длине волны 0,154 нм обеспечивает прецизионные измерения локально по поверхности МРЗ значений коэффициентов отражения (пропускания) и брэгговских углов, и кривых качания. МРЗ могут иметь изогнутую форму и градиентное распределение периода по поверхности. Методика может применяться для изучения микрошероховатости плоских поверхностей.

2. Развитые на основе анализа угловых зависимостей интенсивности диффузного рассеяния и зеркального отражения жесткого рентгеновского излучения методики позволяют определять ширину и структуру переходных областей, толщины и плотности пленок в многослойных структурах с произвольным профилем диэлектрической проницаемости в периоде.

3. Короткопериодные W/B4C МРЗ представляют собой хорошо скоррелированные по границам многослойные структуры. Перемешивание пленок вносит основной вклад в глубину переходных областей в многослойных структурах с периодами более 1 нм. При меньших периодах нарушается сплошность пленок, что приводит к резкому росту межслоевой шероховатости.

4. Разработанные на основе светосильных монохроматоров и новых рентгенооптических схем рефлектометры и экспериментальные методики обеспечивают прецизионные измерения локально по поверхности угловых и спектральных зависимостей коэффициентов отражения и пропускания рентгенооптических элементов с произвольной формой поверхностей в диапазоне длин волн 0,6-25 нм.

5. Коэффициент конверсии энергии электронного пучка в энергию флуоресценции L-линии кремния в окрестности 13,5 нм при бомбардировке 10 кэВ электронами мишени кремния составил (3,04±0,06)10"4%. Применение многослойной мишени Zr/Si позволяет увеличить коэффициент конверсии в 2 раза.

6. Применение ионной очистки мишеней, анодов, на которых установлено до 8-ми мишеней из различных материалов, и материалов термокатода с низкой работой выхода в совокупности позволило создать на базе разборной рентгеновской трубки эффективные источники MP и ЭУФ излучения по основным техническим характеристикам превосходящие мировые аналоги.

7. Распад переходного слоя в Ni/C и Со/С МРЗ в процессе термического отжига начинается на границах и сопровождается распространяющейся вглубь металлического слоя волной кристаллизации металла с вытеснением из металлической матрицы атомов углерода. Повышение температуры отжига приводит к объемной кристаллизации металла и росту межслоевой шероховатости. Оптимальной, с точки зрения коэффициента отражения, температурой отжига являются та, при которой кристаллизация металла происходит на границах металл-углерод.

8. Развитые принципы оптимизации оптических элементов спектрометров на основе многослойных рентгеновских зеркал позволили разработать высокоэффективные приборы для диагностики высокотемпературной и низкотемпературной плазмы.

9. Источник на основе одномодового оптического волокна с зауженной выходной апертурой формирует сферическую волну с рекордно низкой аберрацией, что позволило создать на его основе дифракционный интерферометр для изучения формы светосильных поверхностей и волновых деформаций оптических систем с субнанометровой точностью.

10. Развитая комплексная методика коррекции формы оптических элементов, основанная на применении вакуумного напыления и ионно-пучкового травления, обеспечивает изготовление атомарно гладких подложек, включая асферические, с субнанометровой точностью формы поверхности.

Научная новизна диссертационной работы состоит в том, что

1. Развита модель, которая впервые позволила по угловым зависимостям интенсивности диффузного рассеяния и зеркального отражения рентгеновского излучения многослойными структурами разделить вклады диффузионного перемешивания материалов пленок и геометрической шероховатости в общую глубину переходной области, и обнаружить потерю сплошности пленок по мере уменьшения их толщины.

2. Впервые экспериментально наблюдалось резонансное диффузное рассеяние от МРЗ с ультракороткими, 1 нм, периодами.

3. Разработана модель, которая позволяет по значениям коэффициентов отражения жесткого рентгеновского излучения в брэгговских пиках восстановить структурные параметры МРЗ в случае несимметричного профиля диэлектрической проницаемости в периоде.

4. Измерен коэффициент конверсии энергии электронного пучка в энергию флуоресцентного излучения L-линии кремния. Показана возможность его увеличения в многослойных Zr/Si мишенях.

5. Изучена микроструктура углеродосодержащих многослойных зеркал и ее изменение в зависимости от толщины слоев металла и температуры отжига. Показан определяющий вклад механизма автокаталитического расслоения слоев металла и углерода и кристаллизации на границах в увеличение коэффициентов отражения МРЗ. I

6. Предложен и изучен новый источник сферической волны на основе одномодового оптического волокна с зауженной выходной апертурой, обладающий рекордно низкими волновыми аберрациями. На его основе создан интерферометр с дифракционной волной сравнения для изучения формы поверхностей и волновых | i деформаций оптических систем с субнанометровой точностью. I I

7. Развиты методы коррекции формы подложек с субнанометровой точностью, обеспечивающие сохранность микрошероховатости корректируемой поверхности на атомарном уровне.

Практическая ценность полученных в диссертации результатов определяется тем, что

1. Разработаны рефлектометры и экспериментальные методики для изучения локальных значений коэффициентов отражения и пропускания практически всех элементов рентгеновской оптики в диапазоне длин волн 0,6-25 нм. Методики используются при разработке технологий роста МРЗ, отрезающих фильтров, поляризаторов и фазосдвигающих интерференционных элементов, для измерения шероховатости подложек и аттестации рентгенооптических элементов. Специализированные рефлектометры применяются для изучения загрязнения и методов очистки оптики, для калибровки фоторезистов и детекторов экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) и мягкого рентгеновского (MP) излучения.

2. На базе штатных дифрактометров в жестком рентгеновском диапазоне разработаны экспериментальные методики для изучения локально по поверхности основных структурных и дисперсионных характеристик многослойных рентгеновских зеркал.

3. Разработанные спектрометры рентгеновского излучения на основе МРЗ нашли применение для диагностики высокотемпературной плазмы в термоядерных установках и тестирования источников излучения для проекционной ЭУФ и MP литографии.

4. Разработанные разборные рентгеновские трубки являются неотъемлемыми частями рефлектометров MP и ЭУФ диапазонов, применяются в качестве источника MP и ЭУФ излучения для калибровки рентгеноспекгральной аппаратуры и проекционной нанолитографии на длине волны 13,5 нм.

5. Доказанная эффективность применения алмазных микропорошков детонационной природы для финишной полировки подложек для рентгеновских зеркал стала основой для развития соответствующей технологии.

6. Разработанный интерферометр с дифракционной волной сравнения и развитые технологии коррекции формы поверхностей заложили основы для развития в стране таких научных и технологических направлений, как проекционная нанолитография, рентгеновская микроскопия и рентгеновская астрономия сверхвысокого разрешения.

Апробация работы. Результаты, полученные в диссертации, докладывались на российских и международных конференциях: Всесоюзное Совещание по «Диагностике Высокотемпературной Плазмы» (1990 Минск, 1992 Ленинград), International Conference on «Synchrotron Radiation Instrumentation» (1991 Chester, Англия), Международная Конференция: «Нанотехнология, Наноэлектроника и Криоэлектроника ННК-92» (1992 Барнаул), International Conference on «Vacuum Ultraviolet Radiation Physics» (1992 Париж, Франция), International Conference «X-Ray Microscopy - 4» (1993 Черноголовка), International conference on «Radiometry» (1994 Берлин), International conference on «Synchrotron Radiation Sources» (1995 Kyongji, Корея), International Conference on «Application of Diamond Films and Related Materials» (1995 Gathersburg, Maryland США), Всероссийское Совещание «Рентгеновская оптика» (1998, 2002, 2003, 2004 Нижний Новгород), Российской Конференции по «Использованию Синхротронного Излучения» (1994, 1996, 1998, 2000, 2002, 2004, 2006 Новосибирск), Нижегородская сессия молодых учёных. Естественнонаучные дисциплины (2002, 2003 Нижний Новгород), International Conference "Micro- and nanoelectronics" (2003, 2005, 2007 г. Звенигород), International Workshop «SEMATECH EUV Source» (2003, Santa Clara California США), Национальная Конференция по «Применению Рентгеновского, Синхротронного излучений, Нейтронов и Электронов для исследования материалов» (2003, 2007 Москва), International «Extreme Ultraviolet» (2003 Antwerp, Belgium), International Conference on «Physics of X-Ray Multilayer Structures» (2004 Sapporo, Japan), Рабочее совещание по Программе отделения физических наук РАН «Новые материалы и структуры» (2004 Нижний Новгород, 2005, 2006, 2007 Черноголовка), Симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника» (2005, 2006, 2007, 2008 Нижний Новгород), International Conference «Synchrotron Radiation» (2008 Новосибирск), Совещание «Рентгеновская оптика» (2008 Черноголовка).

Публикации. Основное содержание диссертационной работы изложено в 78 работах, из которых 59 - в реферируемых журналах.

Структура и объем диссертации. Диссертационная работа состоит из введения, шести глав, заключения, списка цитируемой литературы, включающего 269 названий, авторского списка, включающего 78 наименования, и изложена на 401 странице машинописного текста, в том числе 224 рисунков и 27 таблиц.

Похожие диссертационные работы по специальности «Приборы и методы экспериментальной физики», 01.04.01 шифр ВАК

Заключение диссертации по теме «Приборы и методы экспериментальной физики», Чхало, Николай Иванович

Основные результаты, полученные в ходе выполнения диссертационной работы, можно сформулировать следующим образом:

1. Созданы экспериментальные методики для прецизионного изучения локально по поверхности угловых зависимостей коэффициентов отражения, прохождения и рассеяния жесткого рентгеновского излучения, позволяющие восстановить структурные параметры МРЗ по данным рефлектометрии. Образцы могут иметь изогнутую форму и переменное, с градиентом до 0,1 нм/мм, распределение периода по поверхности зеркала.

2. Разработаны лабораторные рефлектометры и созданы методики для прецизионного изучения угловых и спектральных зависимостей коэффициентов отражения, прохождения и рассеяния MP и ЭУФ излучения 0,6-25 нм) практически всех типов элементов рентгеновской оптики. Образцы могут иметь произвольную форму и переменное, с градиентом до 0,1 нм/мм, распределение периода по поверхности зеркала. По основным техническим характеристиками приборы не уступают, а по ряду параметров и превосходят аналоги, существующие в единичных экземплярах в мире.

3. Предложен и изучен новый способ формирования дифракционной сферической волны на основе одномодового оптического волокна с зауженной выходной апертурой. Этот источник имеет рекордно низкую деформацию дифракционной волны в большой апертуре. На базе этого источника разработан интерферометр для изучения формы светосильных поверхностей и волновых деформаций оптических систем с субнанометровой точностью. По основным техническим характеристикам он превосходит мировые аналоги. Разработаны экспериментальные методики для аттестации волновых деформаций широкого класса оптических элементов и систем, включая асферические поверхности, с субнанометровой точностью.

4. Разработаны методы получения атомарно гладких светосильных подложек для рентгенооптики, включая асферические, с субнанометровой точностью формы поверхности, что заложило физико-технологические основы для развития в стране таких научных и технологических дисциплин как рентгеновская микроскопия, астрономия и проекционная нанолитография сверхвысокого разрешения.

5. На основе анализа угловых зависимостей интенсивности диффузного рассеяния и зеркального отражения рентгеновского излучения развита методика, позволившая, в случае полной продольной корреляции межслойных границ в многослойных структурах, разделить вклады геометрической шероховатости и диффузионного перемешивания пленок в общую глубину переходной области на границах между различными материалами. Детально изучено внутренне строение и корреляционные свойства шероховатостей границ W/B4C МРЗ с ультракороткими, нм, периодами. Показана высокая степень их корреляции и доминирующий характер перемешивания материалов пленок над ростовыми процессами при формировании переходных областей.

6. Методом EXAFS-спектроскопии изучены переходные слои и микроструктура металлических пленок, в зависимости от количества металла в периоде и в процессе термического отжига, в углеродосодержащих МРЗ.

7. Разработаны методики построения спектрометров, использующих МРЗ в качестве дисперсионных элементов MP и ЭУФ диапазонов, для диагностики плазмы. Предложены методы оптимизации элементов спектрометра. Экспериментально доказана их эффективность. Разработанные спектрометры нашли применение, как в России, так и за рубежом.

8. Ионная очистка мишеней, аноды, на которых установлено до 8-ми мишеней из различных материалов, и материалы термокатода с низкой работой выхода в совокупности позволили создать на базе разборной рентгеновской трубки эффективные источники MP и ЭУФ излучения по основным техническим характеристикам превосходящие мировые аналоги. Источники нашли широкое применение для рефлектометрии, метрологии, калибровки детекторов и фоторезистов, спектральной аппаратуры MP и ЭУФ диапазона, для ЭУФ нанолитографии.

9. Изучена динамика коэффициента конверсии энергии электронов в энергию флуоресценции линии Si La при облучении кремниевой мишени электронами в зависимости от параметров электронного пучка и угла выхода излучения. Показана возможность увеличения этого коэффициента почти в 2 раза за счет введения в мишень прослоек «тяжелого» металла.

Заключение

Список литературы диссертационного исследования доктор физико-математических наук Чхало, Николай Иванович, 2009 год

1. Гинье, А. Рентгенография кристаллов / Под ред. Н.В. Белова // М:Гос. изд. физ.-мат. лит-ры. 1961. - 604 с.

2. Kirkpatrick, Р Formation of Optical Images by X-Rays / P. Kirkpatrick, A.V. Baez //J. Opt. Soc. Am. 1948. - V.38. - P.766.

3. Zachariasen, W.H. Theory of X-Ray Diffraction in Crystals / W.H. Zachariasen // N.Y.: John Wiley. 1945. - 318 p.

4. Аркадьев, В.А. Многократное отражение рентгеновского излучения на изогнутой поверхности / В.А. Аркадьев, М.А. Кумахов // Поверхность: Физика, химия, механика. 1986. - Т.10. - С.25-32.

5. Аристов, В.В. Рентгеновская оптика / В.В. Аристов, А.И. Ерко // М.: Наука -1991.- 155 с.

6. Michetti, A.G. Optical systems for soft X-ray / A.G. Michetti // Plenum, New York. 1986.- 350 p.

7. Snigirev, A. A compound refractive lens for focusing high-energy X-rays / A. Snigirev, V. Kohn, I. Snigireva & B. Lengeler // Nature. 1996. - V.384. - P.49-51.

8. Spiller, Eberhard Propagation of x rays in waveguides / Eberhard Spiller and Armin Segmuller // Appl. Phys. Lett. 1974. - V.24. - P.60.

9. Ю.Фридман, Г. Рентгеновская спектроскопия // Усп. физич. наук. 1965. - Т.87. - С.675-709.1 l.Baun, W.L. Instrumentation, spectral characteristics and applications of soft X-ray spectroscopy //Appl. Spectrosc. Revs. 1968. - V.l. - P.379-432.

10. Blodgett, K.B. Built up films of barium stearate and their optical properties / K.B. Blodgett, I. Langmuir // Phys. Rev. 1937. - V.51. - P.964-982.

11. Heilmann, Ralf К. Schattenburg Blazed high-efficiency x-ray diffraction via transmission through arrays ofhanometer-scale mirrors / Ralf K. Heilmann, Minseung Ahn, Eric M. Gullikson, and Mark L // Optics express. June 2008. -V.16.No.l2 - P.8658-8669.

12. Du Mond, J. Selective X-ray diffraction from artificially stratified metal films deposited by evaporation / J. Du Mond, J.P. Youtz // Phys. Rev. 1935. -V.48.No.8. -P.703.

13. Spiller, E. Low-loss reflection coating using absorbing materials / E. Spiller // Appl. Phys. Lett. 1972. - V.20.No.9. - P.365-367.

14. Виноградов, А.В. О многослойных зеркалах для рентгеновского и далекого ультрафиолетового диапазона / А.В. Виноградов, Б.Я. Зельдович // Оптика и спектроскопия. 1977. - Т.42.№4. - С.709-714.

15. Воггшапп, G. Uber extinktionsdiagramme von quarz // Physikal Z. 1942. - V.42. -P. 157-162.

16. Vinogradov, A.V. X-ray and far UV multilayer mirrors: principles and possibilities / A.V. Vinogradov, B.Ya. Zeldovich // Appl. Opt. 1977. -V.I6.N0.I. - P.89-93.

17. Rosenbiuth, A.E. Reflecting properties of X-ray multilayer devices / A.E. Rosenbiuth //Ph.D. Thesis, University of Rochester, USA, 1982.

18. Henke, B.L. Low energy X-ray interaction coefficients: photoabsorption, scattering and reflection. E=100-2000 eV, Z=l-94 / B.L. Henke, P. Lee, T.J. Tanaka, R.L. Shimabukuro, and B.K. Fujkawa // Atomic and Nuclear Data Table. 1982. - V.27.

19. Spiller, E. Evaporated multilayer dispersion elements for soft X-rays / E. Spiller // Low energy X-ray diagnostics: Proc. conf., Monterey, USA, 1981. N. Y.: Amer. Inst. Phys., 1981. -P.124-130.

20. ВагЬее, T.W. (Jr.) Sputtered layered synthetic microstructures (LSM) dispersion elements / T.W. Barbee (Jr.) // Low energy X-ray diagnostics: Proc. conf., Monterey, USA, 1981. -N. Y.: Amer. Inst. Phys., 1981. P.131-145.

21. Gaponov, S.V. Long wave X-ray radiation mirrors / S.V. Gaponov, S.A. Gusev, B.M. Luskin, and N.N. Salashchenko // Opt. Commun. 1981. - V.38. - P.7-11.

22. Дез, П. Изготовление и исследование многослойных структур во Франции. Рентгеновская оптика и микроскопия / Под ред. Г. Шмаля и Д. Рудольфа: Пер. с англ. II Мл Мир. 1987. - С.188-195.

23. Yamamoto, М. Fabrication and Evaluation of Mo-Si Multilayer Mirrors for Soft X-Rays / M. Yamamoto, A. Arai, M. Watanabe and T. Namioka // Proc. SPIE. -1986. V.688. -P.99-103.

24. M. Schuster, L. Muller, К. E. Mauser, and R. Straub // Thin Solid Films. 1988. -V.157. - P.325.

25. Puik, EJ. Ion bombardment of thin layers: The effect on the interface roughness and its x-ray reflectivity / EJ. Puik, M.J. Van Der Wiel, H. Zeijemaker, J.

26. Verhoeven // Rev. Sci. Instrum. 1992. - V.63.No.l. - P.1415-1419.

27. Henke, B.L. Low energy X-ray spectroscopy with crystals and multilayers / B.L. Henke, // Low energy X-ray diagnostics: Proc. conf., Monterey, USA, 1981. N. Y.: Amer: Inst. Phys., 1981. - P.85-96.

28. Day, R.H. Application of layered synthetic microstructures to high-temperature plasma diagnostics / R.H. Day, T.W. Barbee (Jr) // Rev. Sci. Instrum. 1985. -V.56.No.2. - P.791-795.

29. Khandar, A. Multilayer X-ray polarizer / A. Khandar, P. Dhez // Proc. SPIE.1985. -V.563. -P.158-163.

30. Nicolosi, J.A. Layered synthetic microstructures for long wavelength X-ray spectrometry / J.A. Nicolosi, J.P. Croven, D. Merlo, R. Jenkins // Opt. Eng.1986. V.25.N0.8. - P.964-969.

31. Marshall, G.F. Monochromatization by multilayered optics on a cylindrical reflector and on an ellipsoidal focusing ring / G.F. Marshall // Opt. Eng. 1986. -V.25.No.8. - P.922-932.

32. Lee, P. Multilayer mirrors and beam splitters for soft X-rays / P. Lee // Opt. Commun. 1982. - V.43.No.4. - P.237-241.

33. Ziegler, E. Stability of multilayers for synchrotron optics / E. Ziegler, Y. Lepetre, I.K. Schuller, E. Spiller//Appl. Phys. Lett. 1986. - V.48.No.20. - P.1354-1356.

34. Kortright, J.B. Multilayer optical elements for generation and analysis of the circularly polarized x-rays / J.B. Kortright, J.H. Underwood // Nucl. Instrum. Meth. A. 1990. - V.291 - P.272-277.

35. Barbee, T.W. (Jr.) Combined microstructure x-ray optics / T.W. Barbee (Jr.) // Rev. Sci. Instrum. 1989. - V.60.No.7. - P.1588-1595.

36. Lee, P. Uniform and graded multilayers as X-ray optical elements / P. Lee // Appl. Opt. 1983. - V.22.N0.8. - P.1241-1246.

37. Gobel, H. Parallel-beam coupling into channel-cut monochromators using curved graded multilayers / H. Gobel // J. Phys. D: Appl. Phys. 1995. - V.28. - P.A270-A275.

38. Underwood, J.H Soft-X-ray imaging with a normal incidence mirror / J.H. Underwood, T.W. Barbee (Jr) //Nature. 1981. - V.294.No.5839. - P.429-431.

39. Спиллер, E. Сканирующий рентгеновский микроскоп с зеркалами нормального падения. Рентгеновская оптика и микроскопия / Под ред. Г. Шмаля и Д. Рудольфа: Пер. с англ. // М.: Мир. 1987. - С.305-311.

40. Meiling, H. The EUV program at ASML: an update / H. Meiling, V. Banine, P. Kurz, B. Blum, G.J. Heerens, N. Harned // Proc. SPIE. 2003. - V.5037. - P.24-35.

41. Michaelsen, C. Improved graded multilayer mirrors for XRD applications / C. Michaelsen, P. Ricardo, D. Anders, M. Schuster, J. Schilling, and H. Gobel // Adv. X-ray Anal. 2000. - V.42. - P.308-320.

42. Akhsakhalyan, A.A. Multilayer mirror systems to form hard X-ray beams / A.A. Akhsakhalyan, A.D. Akhsakhalyan, A.I. Kharitonov, E.B. Kluenkov, V.A. Murav'ev, N.N. Salashchenko // Central European Journal of Physics. 2005. -T.3.№2. - P.163-177.

43. Parrat, L.G. Surface studies of solids by total reflection of X-rays / L.G. Parrat // Phys. Rev. 1954. - V.95.No.4 - P.359-369.

44. Виноградов, A.B. Зеркальная рентгеновская оптика / A.B. Виноградов, И.А. Брытов, Ф.Я. Грудский, М.Т. Коган, И.В. Кожевников, В.А. Слемзин; под общей ред. А.В. Виноградова // Д.: Машиностроение. Ленинградское отд-ние.- 1989.-463 с.

45. Гапонов, С.В. Рассеяние мягкого рентгеновского излучения и холодных нейтронов на многослойных структурах с шероховатыми границами / С.В. Гапонов, В.М. Генкин, Н.Н. Салащенко, А.А. Фраерман // ЖТФ. 1986. -Т.56.№4. - С.708-714.

46. Виноградов, А.В. Интегральные характеристики и методы расчета многослойных зеркал мягкого рентгеновского диапазона / А.В. Виноградов, И.В. Кожевников //Препринт ФИАН СССР, Москва,1986. №103. - 30 с.

47. Gutman, G. High-performance Mo/Si and W/B4C multilayer mirrors for soft X-ray imaging optics / G. Gutman // J.X-Ray Science and Technology. 1994. -V.4.No.2. - P.142.

48. Гапонов, C.B. Рассеяние нейтронного и рентгеновского излучения в диапазоне 10-300 А на периодических структурах с шероховатыми границами / С.В. Гапонов, В.М. Генкин, Н.Н. Салащенко, А.А. Фраерман // Письма в ЖЭТФ. 1985. - Т.41.№2. - С.53-55.

49. Andreev, A.V. Reflectivity and roughness of X-ray multilayer mirrors, specular reflection and angular spectrum of scattered radiation / A.V. Andreev, A.G. Michette, A. Renwick // Journal of Modern Optics. 1988. - V.35. - P.1667-1987.

50. Holy, V. X-ray reflection from rough layered systems / V. Holy, J. Kubena, I. Ohlidal, K. Lischka, W. Plotz // Physical Review B. 1993. - V.47.No.23. -P.15896-15903.

51. Stearns, D.G. The scattering of x rays from nonideal multilayer structures / D.G. Stearns // Journal of Applied Physics. 1989. - V.65. - P.491-506.

52. Nevot, L. Characterisation des surfaces par reflection rasante de rayon Application a l'etude du polissage de quelque verres silicates / L. Nevot, P. Croce // Revue de Physique Appliquee. 1980. - V.15. - P.761-779.

53. Бушуев, В.А. К вопросу о корректном учете межслойных шероховатостей в рекуррентных формулах Парратта / В.А. Бушуев, А.Г. Сутырин // Поверхность.Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. -2000. №1. - С.82-85.

54. Kondrashov, Р.Е. Use of diamond like carbon films in X-ray optics / P.E. Kondrascov, I.S. Smirnov, A.M. Baranov // Diamond and related Materials. -1997. T.6. - P.902-905.

55. Revesz, A.G. On the structure of noncrystalline Si and SiixHx films // Phys. Stat. Sol. A. 1980. - V.6O.N0.2. - P.619-629.

56. Виноградов, A.B. О влиянии плотности вещества в пленках на отражающую способность многослойных зеркал рентгеновского диапазона / А.В. Виноградов, В.М. Елинсон, Н.Н. Зореви // Оптика и спектроскопия. 1985. -Т.59.№3. - С.703-704.

57. Виноградов, А.В. Зеркальная рентгеновская оптика / А.В. Винорградов, А .Я. Грудский, М.Т. Коган, И.В. Кожевников, В.А. Слемзин // Д.: Машиностроение. 1989. - 302 с.

58. Rosenbluth, А.Е. The reflecting properties of soft X-ray multilayers / A.E. Rosenbluth, J.M. Forsyth // Low energy X-ray diagnostics: Proc. conf., Monterey, USA, 1981. N. Y.: Amer. Inst. Phys., 1981. - P.280-285.

59. Vidal, В. Metallic multilayers for X-rays using classical thin-film theory / B. Vidal, P. Vincent //Appl. Optics. 1984. - V.23.No.ll. -P.l794-1801.

60. Fewster, Paul F. X-ray scattering from semiconductors //Imperial college press. -2000. 287 p.

61. Блохин, M.A. Рентгеноспектральный справочник / M.A. Блохин, И.Г. Швейцер // М.: Наука. 1982. - 376 с.

62. Bertin, Е.Р. Crystals and multilayer Langmuir-Blodgett films used as analyzers in wavelength-dispersive X-ray spectrometers. Handbook of spectroscopy / Ed. J.W. Robinson // CRC Press, Cleveland. 1974. - V.l. - P.238.

63. Айнбунд, M.P. Вторично-электронные умножители открытого типа и их применение / М.Р. Айнбунд, Б.В. Поленов // М.: Энергоиздат. 1987. - 140 с.

64. Multiple corner Kipkpatrick-Baez beam conditioning optics assembly // U.S. Patent US006014423. 2000.

65. Barbee, T.W. (Jr.) Multilayer X-ray optics / T.W. Barbee (Jr.) // Optical Engineering 1986. - V.25.No.8. - P.899-915.

66. Фраерман, А.А. Определение параметров короткопериодных многослойных рентгеновских зеркал / А.А. Фраерман, С.В. Митенин, Н.Н. Салащенко, Е.А. Шамов // Поверхность. 1997. - №12. - С.57-61

67. Akhsakhalyan, A.D. Determination of layered synthetic microstructure parameters / A.D. Akhsakhalyan, A.A. Fraerman, Yu.Ya. Platonov, N.I. Polushkin, N.N. Salashchenko // Thin Solid Films. 1991. - V.203. - P.317-326.

68. Fraerman, A.A. The effect of interfacial roughness of the reflection properties of multilayer X-ray mirrors / A.A. Fraerman, S.V. Gaponov, V.M. Genkin, N.N. Salashchenko //Nuclear instr. and methods in physics research A. 1987. - V.261. - P.91-98.

69. Andreev, S.S. Mo/Si multilayers for 13 nm spectral region / S.S. Andreev, S.V. Gaponov, S.A. Gusev, E.B. Kluenkov, N.I. Polushkin, K.A. Prokhorov, N.N. Salashchenko, M.H. Haidl // Thin Solid Films. 2002. - V.415.No.l-2. - C.123-132.

70. Salashchenko, N.N. Short-period X-ray multilayers based on Cr/Sc / N.N. Salashchenko, E. Shamov // Optics Communication. 1999. - V.134. - P.7-10.

71. Martin, J.I. Ordered magnetic nanostructures: fabrication and properties / J.I. Martin, J. Nognes, K. Liu, J. L. Vicent, I.K. Schuller // Journal of Magnetism and Magnetic Materials. 2003. - V.256. - P.449-501.

72. Platonov, Yu. Status of small d-spacing x-ray multilayers development at Osmic / Yu. Platonov, L.Gomez, D. Broadway // Proceedings SPIE. 2002. - V.4782. -P.152-159.

73. Holy, V. Nonspecular x-ray reflection from rough multilayers / V. Holy, T. Baumbach //Physical Review B. 1994. - V.49.No.l5. - P.10668.

74. De Boer, D.K.G. Glancing-incidence x-ray fluorescence of layered materials / D.K.G. De Boer // Physical Review B. 1991. - V.44.No.2. - P.498-511.

75. Bahr, D. X-ray reflectivity and diffuse-scattering study of CoSi2 layers in Si produced by ion-beam synthesis / D. Bahr, W. Press, R. Jebasinski, S. Mantl // Physical Review B. 1993. - V.47.No.8. - P.4385-4393.

76. Payne, A.P. Influence of roughness distributions and correlations on x-ray diffraction from superlattices / A.P. Payne, B.M. Clemens // Physical Review B. -1993. V.47.No.4. - P.2289-2300.

77. Андреев, A.B. Резонансное усиление диффузного рассеяния рентгеновских лучей в гетероструктуре волноводного типа / А.В. Андреев, Ю.В. Пономарев, И.Р Прудников, Н.Н. Салащенко // Письма в ЖЭТФ. 1997. -Т.66.Вып.4. - С.219-223.

78. Stearns, D.G. Nonspecular x-ray scattering in a multilayer-coated imaging system / D.G. Stearns, D.P. Gainess, D.W. Sweeney, E. M. Gullikson // Journal of Applied Physics. 1998. - V.84.No.2. - P.1003-1028.

79. Коваленко, H.B. Исследование кросс-корреляции шероховатости в многослойном зеркале Ni/C методом рентгеновского диффузного рассеяния / Н.В. Коваленко, С.В. Мытниченко, В.А. Чернов // ЖЭТФ. 2003. -Т.124.Вып.6(12). - С.1345-1357.

80. Underwood, J.H. Layered synthetic microstructures as Bragg diffractors for X rays and extreme ultraviolet: theory and predicted performance / J.H. Underwood, T.W. Barbee // Applied Optics. 1981. - V.20.No.l7. - P.3027.

81. Рытов, C.M. Введение в статистическую радиофизику / С.М. Рытов, Ю.А. Кравцов, В.И. Татарский // М: Наука. 1978. - Т.2 - С.197.

82. Shellan, J.B. Statistical analysis of Bragg reflectors / J.B. Shellan, P. Agmon, A. Yariv // Journal of the Optical Society of America. 1978. - V.68.N0.I. - P.18-27.

83. Spiller, E. Enhancement of the reflectivity of multilayer x-ray mirrors by ion polishing / E. Spiller // Optical Engineering. 1990. - V.29. - P.609-613.

84. Vernon, S.P. Ion-assisted sputter deposition of molybdenum-silicon multilayers / S.P. Vernon, D.G. Stearns, R.S. Rosen // Applied Optics. 1993. - V.32. - P.6969-6974.

85. Виноградов, A.B. Оптика мягкого рентгеновского диапазона: состояние и проблемы / А.В. Виноградов, И.В. Кожевников // Труды ФИАН. Рентгеновская оптика. 1989. - Т. 196. - С.47.

86. Богачев, М.Б. Лазерные зеркала для далекой ВУФ области спектра / М.Б. Богачев, В.М. Колтыгин, М.Е. Плоткин и др. // Оптика и спектроскопия. -1981. Т. 51.№3. - С.515-519.

87. Лямкин А.И., Ершов А.П., Петров Е.А. и др. // ДАН СССР. 1988. -Т.302.№3. -С.611.

88. Vereshagin A.L., Sakovich G.V., Komarov V.F., Petrov E.A. // Diamond and Related materials. 1993. - No.3. - P.160.

89. Griffith, Joseph E. Dimensional metrology with scanning probe microscopes / Joseph E. Griffith, David A. Grigg // Journal of Applied Physics. 1993. - V.74. -P.R83-R109.

90. Sinha, S.K. X-ray and neutron scattering from rough surfaces / S.K. Sinha, E.B. Sirota, S. Garoff, H.B. Stanley // Physical Rev. B. 1988. - V.38.No.4. - P.2297-2311.

91. Stone, V.W. Roughness of free surfaces of bulk amorphous polymers as studied by x-ray surface scattering and atomic force microscopy / V.W. Stone, A.M. Jonas, B. Nysten, R. Legras // Physical Rev. B. 1999. - V.6O.N0.8. - P.5883-5894.

92. Blunt, R. "White light interferometry a production worthy technique for measuring surface roughness on semiconductor wafers" // CEMANTECH Conference, Vancouver, Canada, April 24-27, 2006. - P.59-62.119. http://www.goochandhousego.com/products/caty3

93. Palik, E.D. Hanbook of optical constants of solids / Ed. Palik E.D. // Naval Research Laboratory, Washington D.C.-1985.- 749 p.

94. Spiller, E. Controlled fabrication of multilayer soft x-ray mirrors / E. Spiller, A. Segmuller, J. Rife, R.P. Haelbiich //Appl. Phys. Lett. 1980. - V.37. - P. 1048.

95. Gaines, J.L. Low energy x-ray calibration sources at the Lawrence livermore national laboratory / J.L. Gaimes // Low energy X-ray diagnostics: Proc. conf., Monterey, USA, 1981. N. Y.: Amer. Inst. Phys., 1981. - P.246-252.

96. Брытов, И.А. Камера для исследования отражения и рассеяния рентгеновского излучения в ультрамягкой области / И.А. Брытов, АЛ. Грудский, Е.А. Оболенский // Приборы и техника эксперимента. 1979. -№6. - С.125-127.

97. Krumrey, M. Precision soft x-ray reflectometry of curved multilayer optics / M. Krumrey, M. Kuhne, P. Muller, F. Scholze // SPIE. 1991. - V.l547. - P.136-142.

98. Gillikson, E.M. A soft X-ray/EUV reflectometer based on a laser produced plasma source / E.M. Gillikson, J.H. Underwood, P.C. Batson, V. Nikitin // Journal of x-ray science and technology. 1992. - V.3. - P.283-299.

99. Fuchs, D. High precision soft x-ray reflectometer / D. Fuchs, M. Krumrey, P. Muller, F. Scholze, G. Ulm // Rev. Sci. Instrum. 1995. - V.66.No.2. - P.2248-2250.

100. Tummler, J. Characterization of the PTB EUV reflectometry facility for large EUVL optical components / J. Tummler, H. Blume, G. Brandt, J. Eden, B. Meyer, H. Scherr, F. Scholz, F. Scholze, G. Ulm // Proc. of SPIE. 2003. - V.5037. -P.265-273.

101. Underwood, J.H. High-resolution, high-flux, user friendly VLS beamline at the ALS forthe 50-1300 eV energy region / J. H. Underwood, and E. M. Gullikson // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1998. - V.92. - P.265-272.

102. Miyake, A. LPP-based reflectometer for characterization of EUV lithography systems / A. Miyake, T. Miyachi, M. Amemiya, T. Hasegawa, N. Ogushi, T. Yamamoto, F. Masaki, Y. Watanabe // Proc. SPIE. 2003. - V.5037. - P.647-655.

103. Зуев, С.Ю. Измерение характеристик оптических элементов рентгеновских телескопов / С.Ю. Зуев, А.В. Митрофанов // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2002. - №1. - С.81-83.

104. Gaponov, S.V. Multilayer mirrors for soft x-ray and VUV radiation / S.V. Gaponov, F.V. Garin, S.L. Guseu, A.V. Kochemasou, Yu.Ya. Platonov, N.N. Salashchenko 11 Nucl. Instrum. Methods. 1983. - V.208. - P.227.

105. Seholze, F. Plane grating monochromator beamline for VUV radiometry / F. Scholze, M. Krumrey, P. Muller, D. Fuchs // Rev. Sci. Instrum. 1994. - V.65. -P.3229.

106. Малышев, В.И. Введение в экспериментальную спектроскопию / В.И. Малышев // М.: Наука. 1979. - 480 с.

107. Tondello, G. High-resolution Czerny-Turner monochromator for application to undulators / G. Tondello, F. Zanini // Rev. Sci. Instrum. 1989. - V.60.No.7. -P.2116-2119.

108. A.B. Shafer, L.R. Megill, and L. Droppleman // J. Opt. Soc. Am. 1964. - V.54.- P.879.

109. Лукирский, А.П. О применении дифракционных решеток и эшелетгов в области ультрамягкого рентгеновского диапазона / А.П. Лукирский, Е.П. Савинов // Оптика и спектроскопия. 1963. - Т.14.Вып.2. - С.285-294.

110. Kozhevnikov, I.V. Basic formula of XUV multilayer optics / I.V. Kozhevnikov, A.V. Vinogradov // Phys. Scripta. 1987. - V.17. - P.137-145.

111. E.S. Gluskin, S.V. Gaponov, P. Dhez, et al. // Nucl. Instrum. Methods A. 1986.- V.246. P.394.

112. Miyake, A. LPP-based reflectometer for EUV lithography / A. Miyake, Y. Watanabe // Proceedings of the 7th International Conference on the Physics of X-Ray Multilayer Structures, Rusutsu Resort, Sapporo, Japan, March 7-11, 2004. -P.07-01.

113. Виноградов A.B., Кожевников И.В.// Оптика и спектроскопия. 1985. -Т.58.№4. - С.895.

114. N.M. Ceglio, D.G. Stearns, А.М. Hawryluk // Proc. SPIE. 1985. - V.563. -P.360.

115. F. Shafers, H.Ch. Mertin, D. Abramsohn et al. // Nucl. Instrum. Methods A. -2001.-V.467.-P.349.

116. Андреев, C.C. Короткопериодные рентгеновские зеркала и поляризаторы на их основе / С.С. Андреев, М.С. Бибишкин, М.В. Зорина, Е.Б.Клюенков,

117. А.Я. Лопатин, В.И. Лучин, К.А. Прохоров, Н.Н. Салащенко, Н.Н. Цыбин, Н.И. Чхало // Материалы совещания Рентгеновская оптика-2003, Нижний Новгород, Россия, 2003. Нижний Новгород: ИФМ РАН, 2003. - С.173-181.

118. Kuhlmann, T. Chromium-scandium multilayer mirrors for the nitrogen Ka line in the water window region / T. Kuhlmann, S. Yulin, T. Feigl, N. Kaiser, T. Gorelik, U. Kaiser, W. Richter // Appl. Optics. 2002. - V.41. - P.2048-2052.

119. Barty, A. The effects of radiation induced carbon contamination on the performance of an EUV lithographic optic / A. Barty, K.A.Goldberg // Proceedings SPIE. 2003. - V.5037. - P.450-459.

120. Grunow, P.A. Rates and mechanisms of optic contamination in the EUV engineering test stand / P.A. Grunow, L. E. Klebanoff, S. Graham Jr., S.J. Haney, W.M. Clift // Proceedings SPIE. 2003. - V.5037. - P.418-428.152. www.osmic.com/applicationseuv.asp

121. Гусев, С.А. Электронная микроскопия поперечных сколов многослойных зеркал Mo/Si / С.А. Гусев, Е.Н. Садова, К.А. Прохоров // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2000. - №1. -С.132.

122. Андреев, С.С. Оптимизация технологии изготовления многослойных Mo/Si зеркал / С.С. Андреев, С.В. Гапонов, С.А. Гусев, С.Ю. Зуев, Е.Б. Юшенков, К.А.Прохоров, Н.И. Полушкин, Е.Н. Садова, Н.Н. Салащенко, Л.А. Суслов,

123. M.N. Haidl // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2001. - №16. - С.66-73.

124. Кошелев, K.H. Работы по созданию источников коротковолнового излучения для нового поколения литографии / К.Н. Кошелев, В.Е. Банин, Н.Н. Салащенко // УФН. 2007. - Т.177.Вып.7. - С.777-780.

125. Egbert, A. Compact electron-based extreme ultraviolet source at 13.5 nm / A. Egbert, B. Mader, B. Tkachenko, A. Ostendorf, B.N. Chichkov // Proc. SPIE. -2003.-V.5037.-P.784-791.

126. Funsten, H.O. Fundamental limits to detection of low-energy ions using silicon solid-state detectors / H.O. Funsten, S.M. Ritzau, R.W. Harper, R. Korde // Applied Physics Letters. 2004. - V.84.No.l8. - P.3552-3554.

127. Powell, F.R. Filter windows for EUV lithography / F.R. Powell, T.A. Johnson // Proceedings SPIE. 2001. - V.4343. - P.585-589.

128. Niimi, G. Experimental evaluation of stopping power of high-energy ions from a laser-produced plasma by a magnetic field / G. Niimi, Y. Ueno, K. Nishigori, T. Aota, H. Yashiro, T. Tomie // Proc. SPIE. 2003. - V.5037. - P.370-377.

129. Grunow, P.A. Rates and mechanisms of optic contamination in the EUV engineering test stand / P.A. Grunow, L.E. Klebanoff, S. Graham (Jr.), S.J. Haney, W.M. Clift //Proc. SPIE. 2003. - V.5037. - P.418-428.

130. Mertens, B. EUV time resolved studies on carbon growth and cleaning / B. Mertens, B. Wolschrijn, R. Jansen, N. Koster, M. Weiss, M. Wedowski, R. Klein, T. Bock, R. Thornagel // Proc. SPIE. 2003. - V.5037. - P.95-102.

131. Pelizzo, M.G. High performance EUV multilayer structures insensitive to capping layer optical parameters / M.G. Pelizzo, M. Suman, G. Monaco, P. Nicolosi, D.L. Windt // Optics express. 2008. - V.16.No.l9. - P.15228-15237.

132. Graham, S. Atomic hydrogen cleaning of EUV multilayer optics / S. Graham, C. Steinhaus, M. Clift, L. Klebanoff, S. Bajt // Proc. SPIE. 2003. - V.5037. - P.460-469.

133. Matsuzawa, N. Theoretical calculations of photoabsorption of polymers in the EUV region / N. Matsuzawa, S. Irie, E. Yano, S. Okazaki, A. Ishitani // Proc. SPIE. 2001. - V.4343. - P.278-284.

134. Сейсян, Р. Нанолитография СБИС в экстремально дальнем вакуумном ультрафиолете (обзор) / Р. Сейсян // ЖТФ. 2005. - Т.75.Вып.5. - С. 1-13.

135. Bulgakakova, S.A. PMMA-based resists for a spectral range near 13 nm / S.A. Bulgakakova, A.Ya. Lopatin, V.I. Luchin, L. M. Mazanova, S. A. Molodnjakov,

136. N. N. Salashchenko I I Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment. -2000. V.448. - P.487-492.

137. Кошляков, H.C. Уравнение в частных производных математической физики / Н.С. Кошляков, Э.Б. Глинер, М.М. Смирнов // М.: Высшая школа. -1970. С.400.175. http://www.oxford-instruments.com/products/xray-tubes/Pages/x-ray-tubes.aspx

138. Ляпидевский, В.К. Методы детектирования излучений / В.К. Ляпидевский // М.: Энергоатомиздат. 1987. - С.45.

139. Чистяков, В.П. Курс теории вероятностей и математической статистики // М.:Наука.- 1987.-С.218.

140. McGeoch, М. Radio-frequency-preionized xenon Z -pinch source for extreme ultraviolet lithography / M. McGeoch // Applied Optics. 1998. - V.37.No.9. -P.1651-1658.

141. Афонин, В.П. Метод Монте-Карло в рентгеноспектральном анализе / В.П. Афонин, В.И. Лебедь // Новосибирск: Наука. 1989. - С.6.

142. Abrahamson, А.А. Born-Mayer-type interatomic potential for neutral ground-state atoms with Z=2 to Z=105 / A.A. Abrahamson // Physical Review. 1969. -V.178.No.l. - P.76-79.

143. Bethe, H. Zur theorie des durchgangs schneller korpuskularstrahlen durch materie / H. Bethe // Annalen der Physik (Leipzig). 1930. - No.5. - P.325-400.

144. Bloch, F. Bremsvermogen von atomen mit mehreren electronen / F. Bloch // Zeitschrift fur Physik A. Hadrons and Nuclei. 1993. - V.22. - P.363-376.

145. Блохин, M.A. Физика рентгеновских лучей / M.A. Блохин // М.:Наука. -1953. С.87.

146. Kim, Y.-K. Binary-encounter-dipole model for electron-impact ionization / Y.-K. Kim, M.E. Rudd // Physical Review A. 1994. - V.50. - P.3 954-3967.

147. Ют, Y.-K. Scaling of Coulomb Born cross sections for electron-impact excitation of singly charged ions / Y.-K. Kim // Physical Review A. 2002. -V.65. - P.022705.

148. Krause, M.O. Atomic radiative and radiationless yields for К and L shells / M.O. Krause // Journal of Physical and Chemical Reference Data. 1979. - V.8.No.2. -P.307-327.190. http://www-cxro.lbl.gov/optical constants/pert form.html

149. Кузнецов, Г.И. Катодный узел для микротрона / Г.И. Кузнецов // Приборы и техника эксперимента. 1997. - №3. - С.143-145.

150. Kuznetsov, G. High temperature cathodes for high current density / G. Kuznetsov // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A. V.340. -1994. - P.204-208.

151. Барби мл., Т. Многослойные структуры в рентгеновской оптике. Рентгеновская оптика и микроскопия / Под ред. Г. Шмаля и Д. Рудольфа: Пер. с англ. // М.: Мир. 1987. - С.196-221.

152. Y. Lepetre, Е. Ziegler, I.K. Schuller, R. Rivoira // J. Appl. Phys. 1986. - V.60. -P.2301.

153. Z. Jiang, X. Jiang, W. Liu, Z. Wu // J. Appl. Phys. 1989. - V.65. - P.196.

154. Akhsakhalyan, A.D. Diffusion in multilayer structures of superthin films metal-carbon / A.D. Akhsakhalyan, A.A. Fraerman, Yu.Ya. Platonpv, N.I. Polushkin, N.N. Salashchenko // Thin Solid Films. 1992. - V.207. - P.19-23.

155. V. Dupuis, M.F. Ravet, C. Tete, M. Piecuch, Y. Lepetre, R. Rivoira, E. Ziegler // J. Appl. Phys. 1990. - V.68.N0.IO. - P.5146.

156. Brief description of SR experimental stations // Preprint of INP, Novosibirsk, USSR, 1990. P.90-92.

157. E. Ziegler, Y. Lepetre, I.K. Schuller, E. Spiller // Appl. Phys. Lett. 1986. -V.48.NO.20. - P.1354.

158. R. Lamber, N. Jauger, G. Schulz-Ekloff// Surf. Sci. 1988. - V.197. - P.402.

159. F.J. Derbushire et al. // Carbon. 1975. - V. 18. - P. 111.

160. Zwicker, A.P. Analysis of impurity content and transport in TOKAMAK plasmas using low-resolution XUV spectra / A.P. Zwicker, M. Finkenthal, H.W. Moos // J.of X-ray science and technology. 1993. - V.4. - P.57-66.

161. Carraro, L. Impurity influx studies in the RFX reversed field pinch / L. Carraro, E. Casarotto, R. Pasgualotto, M.E. Puiatti, F. Sattin, P. Scarin, M. Valisa // J. of Nuclear Materials. 1995. - V.220-222. - P.646-649.

162. Michelis, D. Soft X-ray spectroscopic diagnostics of laboratory plasmas / De Michelis, M. Mattioli // J. of plasma physics and thermonuclear fusion. 1981. -V.21.No.6. - P.667-749.

163. Басов, Н.Г. Диагностика плотной плазмы / Н.Г. Басов, Ю.А. Захаренко, А.А. Рупасов, Г.В. Склизков, А.С. Шиканов //М.: Наука. 1989. - 368 с.

164. Regan S.P. Narrow bandpass layered synthetic microstructure-based pinhole camera to image a TOKAMAK plasma in H-like carbon emission at 34 A / S.P.Regan, L.K. Huang, M. Finkenthal, H.W. Moos // Rev. Sci. Instrum. 1992. -V.63.No.lO,-P.5174-5175.

165. Moos, W. Layered synthetic microstructures for soft x-ray spectroscopy of magnetically confined plasmas (invited) / W. Moos, A.P. Zwicker, S.P. Regan, M. Finkenthal //Rev. Sci. Instrum. 1990. - V.6I.N0.IO. - P.2733-2737.

166. Young B.K. Measurement of x-ray emission and thermal transport in near-solid-density plasmas heated by 130 fs laser pulses / B.K. Young, B.G. Wilson, D.F. Price, R.E. Stewart // Phys. Rev. 1998. - V.58. - P.4929.

167. Пресняков, Л.П. Элементарные процессы с участием многозарядных ионов / Л.П. Пресняков, В.П. Шевелько, Р.К. Янев // М.: Энергоатомиздат. 1986.

168. Barbee, T.W. (Jr) Molybdenum-silicon multilayer mirrors for the extreme ultraviolet / T.W. Barbee (Jr.), S. Mrowka, M.C. Hettrick // Appl. Opt. 1985. -V.24.No.6. - P.883-886.

169. Салащенко, H.H. Исследования в области многослойной рентгеновской оптики в ИФМ РАН / Н.Н. Салащенко // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 1999. - №1. - С.50-60.

170. Виноградов, А.В. Исследование титан-бериллиевых многослойных рентгеновских зеркал, изготовленных методом электронно-лучевого напыления / А.В. Виноградов, И.В. Кожевников, В.В. Кондратенко // Письма в ЖТФ. 1987. - Т.13.№3. - С.129-132.

171. Michaelsen, С. "Multilayer mirror for х rays below 190 eV" / С. Michaelsen, J. Wiesmann, R. Bormann, C. Nowak, C. Dieker, S. Hollensteiner, W. Jager // Opt. Lett. 2001. - V.26.No.ll. - P.792-794.

172. Platonov, Yu. Normal incidence La/B4C multilayers for wavelengths around B-Ka radiation line / Yu. Platonov // The 6-th Intern. Conf. on the Physics of X-ray multilayer structures, Chamonix, France, 2002. P 18.

173. Зуев, С.Ю. Многослойные дисперсионные элементы на основе В4С для спектральной области 6.7 8 нм / С.Ю. Зуев, Е.Б. Клюенков, К.А. Прохоров, Н.Н. Салащенко // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2002. - №1. - С32-35.

174. Прохоров, К.А. Малопериодные зеркала на основе Ti для диапазона "окна прозрачности воды" / К.А. Прохоров, С.С. Андреев, С.Ю. Зуев, Н.Н. Салащенко // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 1999. - №1. - С.166-169.

175. Nahrath, В. Nanosecond X-ray pictures recordet with a pulsed channel plate / B. Nahrath, M. Shakhatre, G. Decker // Rev. Sci. Instrum. 1976. - V.47.No.l. -P.88-89.

176. Богомаз, A.A. Регистрация рентгеновского излучения сильноточного разряда в плотной газовой среде / А.А. Богомаз, А.В. Будин, В.В. Забродский, И.В. Кузнецова, С.Ю. Лосев, М.В. Петренко, М.Э. Пинчук, Ф.Г. Рутберг // ПТЭ. 2008. - Т.5.

177. Day, R.H. Photoemission measurements for low energy x-ray detector applications / R.H. Day // Low energy X-ray diagnostics: Proc. conf., Monterey, USA, 1981. N. Y.: Amer. Inst. Phys., 1981. - P.44-58.

178. Yamaguchi, N. Simple soft x-ray spectrograph with a multilayer mirror for plasma diagnostics / N. Yamaguchi, J. Katoh, T. Cho, S. Miyoshi, S. Aoki, K. Nakajima //Appl. Phys. Lett. 1992. - V.60.No.7. - P.821-823.

179. Петров, С.И. Фотохронографические методы регистрации пространственно-временных и спектральных характеристик рентгеновскогоизлучения на установке «Искра-5» / С.И. Петров, В.П. Лазарчук // Физика плазмы. 1994. -Т.2.№1.

180. Петров, С.И. Методика измерения абсолютных потоков линейчатого рентгеновского излучения лазерной плазмы на установке «Искра-5» / С.И. Петров, В.П. Лазарчук // ПТЭ. 2006. - №2. - С. 1-7.

181. M. Bagatin, A. Buffa, V. Antoni // Fusion Engineering and Design. 1995. -V.25. - P.425-460.

182. Hansson, B.A.M. A liquid-xenon-jet laser-plasma x-ray and EUV source / B.A.M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, H.M. Hertz // Microelectronic Engineering. 2000. - V.53.No.l-4. - P.667-670.

183. Борн, M. Основы оптики / M. Борн, Э. Вольф. Пер. с англ. // М.: Наука. -1973. Изд.2.

184. Williamson, D.M. "The elusive diffraction limit" / Eds. F. Zernike and D.T. Attwood // OSA Proceedings on Extreme Ultraviolet Lithography. 1995. - V.23. - P.68-76.

185. Cheng, P. Instrumentation and Biological Applications. X-ray Microscopy / P. Cheng, G. Jan (eds.) // Springer Verlag. 1987.

186. Окатов, М.А. Справочник технолога-оптика / М.А. Окатов, Э.А. Антонов, А. Байгожин и др.; Под ред. М.А. Окатова // СПб.: Политехника. 2004. - 679 с.

187. Website Zygo Corporation, http://www.zygo.com

188. Sommargren, G.E. Diffraction methods raise interferometer accuracy / G.E. Sommargren // Laser Focus World. 1996. - V.8. - P.61-71.

189. Линник, В.П. Простой интерферометр для тестирования оптических систем // Известия академии наук СССР. 1933. - №1. - С.210-212.

190. Объективы. Классификация ошибок волнового фронта и погрешностей изготовления оптических деталей // ОСТ 3-5476-83.

191. Braat, J. Polynomial expansion of severely aberrated wave fronts / J. Braat // J. of Optical Society of America. 1987. - V.4.No.4. - P.643-650.

192. Родионов, C.A. Применение коэффициентов интерполяционного полинома для представления аберраций оптических систем / С.А. Родионов, Л.И. Пржевалинский, А.А. Шехонин // Изв. Вузов СССР: Приборостроение. -1974. Т.17. №10. - С.104.

193. Goldberg, К.А. Wave-front measurement errors from restricted concentric subdomains / K.A. Goldberg, G. Kevin // J. Opt. Soc. Am. A. 2001. - V.l8.No.9.

194. Sun, X. Geometric calibration of lens using B-spline surface fitting / X. Sun, S. Chen, Q. Shen // Wuhan University Journal of Natural Scienes. 1998. - V.3.No.4. P.440-442.

195. Амосов, A.A. Вычислительные методы для инженеров / А.А. Амосов, Ю.А. Дубинский, Н.В. Копченова // М.: Высшая школа. 1994. - 544 с.

196. Родионов, С.А. Математический аппарат контроля оптики общий подход / С.А. Родионов // Оптический журнал. - 1995. - №8. - С.49-51.

197. Swantner, W. Gram-Schmidt orthogonalisation of Zernike polynomials for general aperture shapes / W. Swantner, W. C. Weng // Applied optics. 1994. -V.33.No.lO. - P.1832-1837.

198. Гаврилин, Д.А. Исследование методов описания формы сложных оптических поверхностей при интерферометрическом контроле // Диссертация, Санкт-Петербург, Россия, 2003. 103 с.

199. N.B. Voznesensky, А.Р. Zhelvacov // Proc. SPIE. V.5582. - Р.136.

200. Виноградов, М.Б. Теория волн / М.Б. Виноградов, О.В. Руденко, А.П. Сухоруков // М.: Наука. 1990.

201. I. Dorofeyev, J. Jersch, Н. Fuchs // Annalen der Physik. 2003. - V.12.No.7-8. -P.421-437.

202. Goldberg, K.A. Testing extreme ultraviolet optics with visible-light and extreme ultraviolet interferometry / K.A. Goldberg, P.Naulleau, J. Bokor, H.N. Chapman, A. Barty // J. Vac. Sci. Technol. 2002. - V.20.No.6. - P.2834-2839.

203. Бакунов, М.И. Межмодовая трансформация в зонде ближнепольного оптического микроскопа / М.И. Бакунов, С.Б. Бодров // Микросистемная техника. 2004. - №6. - С.7-13.

204. Дряхлушин, В.Ф. Зонд сканирующего ближнепольного оптического микроскопа / В.Ф. Дряхлушин, А.Ю. Климов, В.В. Рогов, С.А. Гусев // ПТЭ. 1998. - №.2. - С.138-139.

205. Otaki, К. Accuracy evaluation of the point diffraction interferometer for extreme ultraviolet lithography aspheric mirror / K. Otaki, T. Yamamoto, Y. Fukuda, K. Ota, I. Nishiyama, S. Okazaki // J. Vac. Sci. Technol. 2002. - v.20.No.l. - P.295-300.

206. Вознесенский, Н.Б. Интерференционный контроль асферических компонентов объектива для нанолитографии / Н.Б. Вознесенский, Е.В. Гаврилов, А.П. Жевлаков, В.К. Кирилловский, П.В. Орлов // Журнал технической физики. 2007. - Т.77.вып.2. - С. 126-130.

207. Пуряев, Д.Т. Методы контроля оптических асферических поверхностей // М.: Машиностроение. 1976. - С. 13.

208. Website Carl Zeiss, http://www.zeiss.de

209. Salashcenko, N.N. "Optical Element and Method for Recovering the Substrate" // Patent DE 101 01 820 Al. 00074P 17.01.2001.1. Авторский список

210. Al. B.C. Бурмасов, JI.H. Вячеславов, И.В. Кандауров и др // Вопросы атомной науки и техники. 1987. -Вып.2. - С.31.

211. А4. Renner, О. Properties of laser-sputtered Ti/Be multilayers / О. Renner, M. Kopecky, E. Krousky, F. Schafers, B.R. Muller, N.I. Chkhalo // Review of Scientific Instruments. -1992. V.63.No.l. -P.1478-1481.

212. A5. Горбовский, А.И. Лазерно-плазменный источник мягкого рентгеновского излучения для калибровки спектральной аппаратуры / А.И. Горбовский, Э.П. Кругляков, М.В. Федорченко, Н.И. Чхало // Физика плазмы. 1994. - Т.20.Вып.1. -С.98-100.

213. A8. Chernov, V.A. Structural Changes Study of Co/C and Ni/C Multilayers upon Annealing / V.A. Chernov, N.I. Chkhalo, M.V. Fedorchenko, E.P. Kruglyakov, S.V. Mytnichenko, S.G. Nikitenko // Journal of X-Ray Science and Technology. 1995. - V.5. -P.389-395.

214. A21. Erofeev, V.I. High resolution instruments based on X-ray multilayer gratings / V.I. Erofeev, N.V. Kovalenko, E.P. Kruglyakov, O.K. Myskin, N.I. Chkhalo // Plasma Devices and Operation. 1999. - V.7. - P.173-180.

215. Schafers, L.A. Shmaenok // Journal of Synchrotron Radiation. 2003. - V.10.No.5. - P.358-360.

216. A39. Талонов, С.В. Работы в области проекционной EUV-литографии в рамках российской программы / С.В. Гапонов, Е.Б. Клюенков, Н.Н. Салащенко, Н.И. Чхало, В.Е. Костюков, Л.А. Синегубко, В.Д. Скупов, А.Ю. Седаков // Материалы симпозиумаI395

217. Нанофизика и наноэлектроника», Нижний Новгород, Россия, 25-29 марта 2005. -Нижний Новгород: ИФМ РАН, 2005. Т.1. - С.44-47.

218. А53. Забродин, И.Г. Абсолютно калиброванный измеритель ЭУФ-мощности для аттестации и оптимизации источников излучения на 13,5 нм / И.Г. Забродин, Б.А.

219. A64. Chkhalo, N. Investigation of fluorescence on wavelength 13.5 nm of x-ray tube for nanolithographer / N. Chkhalo, I. Zabrodin, I. Kas'kov, E. Kluenkov, A. Pestov, and N. Salashchenko // Proc. SPIE, 2008. V.7025. - P.702504.

220. A65. Chkhalo, N. Correction of the EUV mirror substrate shape by ion beam / N. Chkhalo, L. Paramonov, A. Pestov, D. Raskin, and N. Salashchenko // Proc. SPIE, 2008. V.7025 -P.702503.

221. А67. Климов, А.Ю. Источник сферической волны на основе зонда ближнепольного микроскопа / А.Ю.Климов, В.В. Рогов, Н.Н. Салащенко, Н.И. Чхало // Известия РАН. Серия физическая. 2008. - Т.72.№2. - С.221-223.

222. А68. Клюенков, Е.Б. Коррекция формы оптических поверхностей с субнанометровой точностью. Проблемы, статус, перспективы / Е.Б. Клюенков, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, Н.И. Чхало // Известия РАН. Серия физическая. 2008. - Т.72.№2. - С.205-208.

223. А69. Пестов, А.Е. Моделирование интенсивности излучения рентгеновских трубок в мягком рентгеновском и экстремальном ультрафиолетовом диапазоне / А.Е. Пестов, Н.Н. Салащенко, Н.И. Чхало // Известия РАН. Серия физическая. 2008. - Т.72.№2. -С.218-220.

224. А75. Водопьянов, А.В. Источник жесткого ультрафиолетового излучения на основе ЭЦР разряда / А.В. Водопьянов, С.В. Голубев, Д.А. Мансфелд, А.Г. Николаев, К.П. Савкин, Н.Н. Салащенко, Н.И. Чхало, Г.Ю. Юшков // Письма в ЖЭТФ. 2008. -Т.88.Вып.2.-С.103-106.

225. А76. Клюенков, Е.Б. Измерение и коррекция формы оптических элементов с субнанометровой точностью / Е.Б. Клюенков, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, Д.Г.

226. Раскин, М.Н. Торопов, Н.Н. Салащенко, Н.И. Чхало П Российские нанотехнологии. -2008. Т.З.№9-10. - С.90-98.

227. А77. Юшенков, Е.Б. Работы по созданию и аттестации рентгенооптических элементов и систем сверхвысокого разрешения в ИФМ РАН / Е.Б. Клюенков, Н.Н. Салащенко, Н.И. Чхало // Известия РАН. Серия физическая. 2009. - Т.73.№1. - С.66

228. А78. Горай, Л.И. Определение углов наклона и высот граней квантовых точек из анализа диффузного и зеркального рентгеновского рассеяния / Л.И. Горай, Н.И. Чхало, Г.Э. Цырлин // Журнал технической физики. 2009. - Т.79.№4. - С.117-124.70.

Обратите внимание, представленные выше научные тексты размещены для ознакомления и получены посредством распознавания оригинальных текстов диссертаций (OCR). В связи с чем, в них могут содержаться ошибки, связанные с несовершенством алгоритмов распознавания. В PDF файлах диссертаций и авторефератов, которые мы доставляем, подобных ошибок нет.