Атомное строение и физико-химические превращения в тонких слоях свинцово-силикатных стекол при внешних воздействиях тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.17, доктор физико-математических наук Канунникова, Ольга Михайловна
- Специальность ВАК РФ01.04.17
- Количество страниц 292
Оглавление диссертации доктор физико-математических наук Канунникова, Ольга Михайловна
Введение.
Глава 1. Анализ литературных данных по строению силикатных стекол.
1.1. Основные представления о строении силикатных стекол.
1.2. Структурные характеристики силикатных стекол.
1.2.1 Структурные характеристики стеклообразного кварца.
1.2.2. Структурные характеристики кремнийкислородных анионов.
1.3. Анализ рентгеноэлектронных спектров кремния и кислорода в силикатах и оксидах.
1.4. Строение двойных свинцово-силикатных стекол.
1.5. Строение силикатных пленок.
1.6 Взаимодействие свинцово-силикатных стекол с водородом.
1.7. Постановка задачи.
Глава 2 Экспериментальные исследования поверхностных слоев неупорядоченных материалов.
2.1. Физические основы метода фотоэлектронных исследований.
2.1.1. Обработка рентгеноэлектронных спектров методом Фурье преобразования с регуляризацией.
2.1.2. Влияние ионной бомбардировки на состав и структурное состояние поверхности неупорядоченных материалов.
2.1.3. Концентрационные профили распределения компонентов в поверхностных слоях неупорядоченных сплавов.
2.1.4. Методические аспекты рентгеноэлектронных исследований непроводящих образцов.
2.2. Методика фотоэлектронных исследований на модернизированном спектрометре ЭС-2401.
2.2.1. Камера энергоанализатора.
2.2.2. Технологические приставки в камере подготовки образцов.
2.2.3. Анализ эталонных образцов.
2.3. Термодинамическое моделирование состава и структуры поверхностных слоев неупорядоченных систем.
2.3.1. Термодинамическое моделирование состава и структуры поверхностных слоев неупорядоченных систем на примере 113 аморфного сплава РеуоСг 15В15.
2.3.2. Достоверность результатов термодинамического моделирования.
2.3.3. Тенденции термостимулированных изменений состава поверхностных слоев неупорядоченных сплавов.
2.4. Краткое описание методики атомной силовой микроскопии.
2.5. Выводы.
Глава 3. Атомное строение свинцово-силикатных пленок.
3.1. Методика получения образцов свинцово-силикатных стекол.
3.2. Рентгеноэлектронные исследования свинцово-силикатных стекол.
3.3. Термодинамическое моделирование структуры свинцово-силикатных стекол.
3.4. Моделирование структуры свинцово-силикатных стекол методом молекулярной динамики.
3.5. Коэффициенты вторично-электронной эмиссии свинцово-силикатных стекол.
3.5.1. Механизм вторично-электронной эмиссии.
3.5.2. Расчет коэффициент вторично-электронной эмиссии свинцово-силикатных стекол.
3.6. Выводы.
Глава 4. Восстановление свинцово-силикатных стекол при нагреве в водороде.
4.1. Методика восстановления стекол.
4.2. Термодинамический анализ реакции взаимодействия свинцово-силикатных стекол с водородом при нагреве.
4.2.1. Моделирование системы «свинцово-силикатное стекловодород» в виде смеси оксидов и силикатов свинца.
4.2.2. Моделирование системы «свинцово-силикатное стекло - 178 водород» в виде смеси оксидов.
4.3. Рентгеноэлектронные исследования восстановленных двойных свинцово-силикатных стекол.
4.4. Влияние режимов восстановления на состав поверхностного слоя свинцово-силикатных стекол.
4.5. Кинетические характеристики процессов в поверхностных слоях свинцово-силикатных стекол при нагреве в водороде.
4.6 Выводы.
Глава 5. Влияние внешних воздействий на строение поверхностного 193 слоя свинцово-силикатных стекол.
5.1 Термостимулированные изменения в поверхностных слоях стекол.
5.1.1. Термодинамический анализ термостимулированных изменений состава поверхностного слоя стекол.
5.1.2. Кинетические характеристики термостимулированных процессов в поверхностных слоях свинцово-силикатных стекол.
5.2. Влияние бомбардировки ионами аргона на состав и строение поверхностных слоев двойных свинцово-силикатных стекол.
5.3. Влияние бомбардировки ионами аргона на состав восстановленного слоя свинцово-силикатных стекол.
5.4. Выводы.
Глава 6. Строение тонких силикатных пленок.
6.1. Объекты исследования.
6.2 Нелегированные силикатные пленки.
6.2.1. Пленки, полученные методом ионного распыления.
6.2.2. Пленки, полученные по золь-гель технологии.
6.3. Легированные силикатные пленки.
6.3.1. Свинцово-силикатные пленки, полученные методом ионного распыления.
6.3.2. Строение золь-гель силикатных пленок, 230 легированных платиной и марганцем.
6.4. Выводы.
Рекомендованный список диссертаций по специальности «Химическая физика, в том числе физика горения и взрыва», 01.04.17 шифр ВАК
Электронная структура свинцово-силикатных стекол и ее связь с коэффициентом вторичной электронной эмиссии2000 год, кандидат физико-математических наук Шахмин, Александр Львович
Структурно-химические и технологические основы фосфатного легирования силикатных стекол2010 год, доктор технических наук Мулеванов, Сергей Владимирович
Разработка теоретических основ и методов синтеза стеклообразующих композиций для изготовления водородных микроконтейнеров2003 год, кандидат химических наук Медведев, Евгений Федорович
Мессбауэровская спектроскопия локально неоднородных систем1999 год, доктор физико-математических наук Русаков, Вячеслав Серафимович
Процессы переноса и структура стеклообразных твердых электролитов2005 год, доктор химических наук Соколов, Иван Аристидович
Заключение диссертации по теме «Химическая физика, в том числе физика горения и взрыва», Канунникова, Ольга Михайловна
ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ И ВЫВОДЫ
Проведено систематическое исследование свинцово-силикатных стекол, выявлены особенности их электронной и атомной структуры, на основании которых получены количественные характеристики атомной структуры стекол и установлены закономерности физико-химических превращений в поверхностных слоях этих стекол при внешних воздействиях и предложены способы прогнозирования возможных изменений состава и строения тонких поверхностных слоев стекол и пленок подобного типа веществ при внешних воздействиях.
1. Впервые предложена методика рептгеноэлектронного анализа, позволяющая проводить одновременно анализ состава и атомной структуры тонких слоев силикатных стекол и силикатных пленок. Методика основана на корреляциях между положением линий Ois и Si2p и величинами межатомного расстояния Si-О и угла связи Si-O-Si. В Ois- и Si2p-спектрах силикатных стекол выделены составляющие, соответствующие кольцам, сформированным из 3,4 кремнийкислородных тетраэдров и 5,6 кремнийкислородных тетраэдров.
Методика позволяет анализировать количество кремнийкислородных колец, для которых различие величин углов связи Si-0-Si не менее 10°, а различие межатомных расстояний не менее 0,03 нм.
2. На модельной стеклообразной системе хРЬО- (l-x)Si02 проведен анализ возможностей методик рентгеноэлектронной спектроскопии, термодинамического и молекулярно-динамического моделирования для исследования структуры силикатных многокомпонентных стекол. Сравнение с известными результатами анализа кремнийкислородной структуры этих систем дифракционными методами показало информативность методики, основанной на анализе рентгеноэлектронных спектров.
3. Впервые получены характеристики атомной структуры свинцово-силикатных стекол, которые не были определены ранее другими методами:
- определены элементарные евшщовокпелородные структурные единицы;
- получена количественная информация о соотношении содержания структурных форм свинца, статистике кремнийкислородных и свинцовокислородных структур среднего порядка; определен характер связи структурных форм свинца с кислородом, определяющий его поведение при внешних воздейс i виях;
- показано, что в структуре свинцово-силикатных стекол сосуществуют две подструктуры
- кремнийкислородная и свинцово-кислородная;
- определены степени связности кремнийкислородной и свинцовокислородной структур;
- измерены размеры пор в структуре стекол; выяснена причина двойственной функциональной роли свинца в структуре силикатных стекол.
Структура малосвинцовых стекол (30 мол.% РЬО) сформирована преимущественно кремнийкислородными структурами, характерными для стеклообразного кварца — малочленными (3,4) и многочленными (5,6) кольцами из тетраэдров [8104]. Степень связности кремнийкислородной структуры 2.7. Свинец-модификатор формирует с кислородом пирамиды [РЬОз], сеткообразователь - пирамиды [РЬ04]. Доля сеткообразователя составляет 20% от общего содержания свинца. Наблюдаются одиночные и сдвоенные пирамиды [РЬОз] и [РЬ04].
В области средних концентраций РЬО (40-55 мол.%) повышается доля свинца-сеткообразователя (до 65 %), пирамиды [РЬ04] объединяются в цепочки. Степень связности свинцовокислородной структуры в стекле с содержанием 55 мол.% РЬО составляет 2.0. Степень связности кремнийкислородной структуры уменьшается до 1.9. Возрастает доля малочленных кремнийкислородных группировок.
Структура высокосвинцовых стекол сформирована свинцовокислородными пирамидами [РЬ04], связанными в цепочки. Степень связности свинцовокислородной структуры составляет 2.1. Доля свинца-модификатора составляет 10% от общего содержания свинца.
Определено, что химическое состояние модификатора подобно состоянию свинца в оксиде РЬО, а химическое состояние сеткообразователя - в оксиде РЬ02. Установлено, что причиной двойственной функциональной роли свинца в структуре силикатных стекол является делокализация валентных бэ-электронов свинца, которые принимают участие в формировании связи с кислородом.
4. Предложена методика прогнозирования изменений состава поверхностных слоев силикатных стекол при нагреве, основанная па анализе квазибинарных систем оксидов. Показано, что изменение состава идет в направлении ближайших (по отношению к составу, соответствующему соотношению концентраций компонентов) минимумов на кривой ликвидуса. Для анализа сегрегационных процессов в ногокомпонентных стеклах, последние могут быть представлены как сочетание квазибинарных систем оксидов.
5. Впервые определен механизм формирования поверхностного слоя при взаимодействии свинцово-силикатных стекол с водородом при нагреве. При нагреве наблюдаются следующие процессы: перераспределение компонентов в поверхностном слое (прогнозируемое с помощью предложенной методики), изменение структурного состояния свинца (переход части свинца-сеткообразоватсля в состояние модификатора), переход оксида свинца в газовую фазу, диффузия и агломерация восстановленного свинца. Химические процессы: восстановление свинца до металлического состояния, образование гидроксильных групп, связанных со свинцом-модификатором.
Определены энергии активации термостимулированных и химических процессов. Увеличение доли свинца-модификатора в структуре стекол на 15% приводит к увеличению энергии активации суммарного процесса (термостимулированного и химического) ~ в 2 раза.
6. Впервые исследованы изменения строения свинцово-силикатных стекол под влиянием бомбардировки ионами аргона.
Показано, что состав и структура малосвинцовых стекол практически не изменяют
17 7 ся вплоть до дозы 2.810 ион/см". В среднесвинцовых и высокосвинцовых стеклах изменяется структурное и химическое состояние свинца: часть свинца-сеткообразователя переходит в состояние модификатора, наблюдается восстановление свинца до металлического состояния; разрушаются многочленные кремнийкислородные структуры и увеличивается доля малочленных структур.
7. Установлено, что в отличие от массивного силикатного стекла в структуре силикатных пленок, полученных методами ионного распыления и золь-гель, повышено относительное содержание малочлснпых кремнийкислородпых структур. Впервые показано, что кремнийкислородная структура напыленных пленок зависит от толщины: уменьшение толщины пленки сопровождается увеличением доли многочленных кремнийкислородных структур.
Установлена корреляция между коэффициентом преломления пленок, гидрофильными свойствами поверхности и соотношением малочленных и многочленных кремний-кислородных колец: увеличение доли многочленных колец приводит к увеличению коэффициента преломления и гидрофильности поверхности.
Состав поверхностных слоев многокомпонентных свинцово-силикатных пленок, полученных методом ионного распыления, определяется соотношением давления паров напыляемых оксидов при температуре гомогенизации и направлением термодиффузионных процессов.
Список литературы диссертационного исследования доктор физико-математических наук Канунникова, Ольга Михайловна, 2009 год
1. Шульц, М.М. Стекло: структура, свойства, применение, химия / М.М.Шульц// Соросовский Образовательный Журнал.- 1996.- №3.- С.49-55.
2. Семинар-дискуссия «определение понятия «стеклообразное состояние» // Физика и химия стекла.- 1994.-Т.20,- №5.- С.658.
3. Стекло и керамика. Перспективы развития/ В.А Жабреев, В.Г. Конаков, М.М Шульц.-С-Пб.: Янус, 2001.-303 с.
4. Займан, Дж. Модели беспорядка / Дж. Займан.- Москва «Мир», 1982.- 591 с.
5. Shelby, J.E. Introduction to Glass Science and technology, 2-nd Edition/ J.E. Shelby.- The Royal Society of Chemistry, Cambridg, England, 2005.
6. Frankenheim, M.L. Die Lehre von der Cohasion / M.L. Frankenheim.- Breslau, Shulz, 1835.389 s
7. Тудоровская, H.A. Изменения в показателях преломления стекла ниже 300°С / Н.А.Тудоровская // Изв. АН СССР,- 1938.- №1,- С.107-124.
8. Leeg, Е. Uber die Zeitabhangigkeit der inneren Dampfung von spiegelglas und über Anomalien im Temperaturgang der inneren Dampfung von Quartz- glass/ E. Leeg// Naturwiss.- 1957,- Bd. 44,- Н.Ю.- 303 S.
9. Mackenzie, J.D. Fusion of quartz and crystobalite/ J.D. Mackenzie // J. Amer. Ceram. Soc.-1960,- V.43.- №12,- P. 615-620.
10. Bruckner, R. Properties and structure of vitreous silica. I /R. Bruckner // J. Non-Cryst. Solids. 1970.- Y.5.- №2,- P. 123-175.
11. Bruckner, R. Properties and structure of vitreous silica. II / R. Bruckner // J. Non-Cryst.-Solids. 1971.- V.5.- №3.- P.177-216 .
12. Лебедев, А.А. О полиморфизме и отжиге стекла / А.А.Лебедев // Тр. ГОИ.- 1921.- N.2.-№10.- С. 1-20
13. Лебедев, А.А. Об отжиге оптического стекла / А.А.Лебедев // Тр. ГОИ.- 1924.- Т.З-№4,- С. 1-24.
14. Valenkov, N. X-ray investigation of the glassy state/ N. Valenkov, E.A.Porai-Koshits // Nature.- 1936.-V. 137- P.237-274.
15. Porai-Koshits E.A. The possibilities and results of X-ray methods for investigation of glassy substances/ E.A. Porai-Koshits // The structure of glasses.- N.Y. (Consultans Bereau), 1958.-P.25-35.
16. Ботвинкин, O.K. Введение в физическую химию силикатов / O.K. Ботвинкин.- М.-Л., 1938,- 284 с.
17. Пинскер, Г.З. Принципы образования атомной структуры вещества в аморфном состоянии (жидком и твердом)/ Г.З. Пинскер// Физ.-хим. исслед. металлургических процессов. Тр. Вузов РФ, Свердловск.- 1982.- Вып. 10.- С.4-20.
18. Китайгородский, А.И. Строение стекла и методы его исследования при помощи рентгеноструктурного анализа / А.И.Китайгородский // Успехи физических наук.-1938,- T.XIX.- Вып.2.- С.201-226.
19. Шишаков, Н.А. Успехи в познании строения силикатных стекол / Н.А.Шишаков // Успехи физических наук.- 1941.- T.XXV.- Вып. 4.- С. 406-429.
20. Zachariasen, W.H. The atomic arrangement in glasses / W.H.Zachariasen // J. Amer. Chem. Soc.- 1932. V.54.- P.3841-3851.
21. Warren, B. X-Ray determination of structure of glass / B. Warren // J. Am. Cer. Soc.-1934.-V.17.- P.249-265.
22. Кудинова, И. В. Структура расплава из базальтовых горных пород / И.В. Кудинова, Г.М. Додис // Вестник КГНУ, Бишкек, 1998.- часть 3.- С. 1-17.
23. Hagg, G. Vitrous state / G. Hagg, // J.Chem Phys., 1935, N3, p.42-67.
24. Гаскелл, Ф.Х. Структура простых стекол. Беспорядок или порядок дебаты продолжаются / Ф.Х. Гаскелл // Физика и химия стекла.- 1998,- Т.24.- №3.- С.266-277.
25. Мюллер, P.JI. Строение твердых тел по данным электропроводности / Р.Л.Мюллер // Изв. АН СССР, сер. физ. 1940,- Т.4.- С.607-612.
26. Кокорина, В.Ф. О необходимых и достаточных условиях стеклообразования/ В.Ф. Кокорина // Физика и химия стекла. 1999. - Т.25,- №2,- С.130-139.
27. Тамман, Г. Стеклообразное состояние / Г. Тарасов.- М.-Л., 1935.- 253 с.
28. Роусон, Г. Неорганические стеклообразующие системы / Г. Роусон.-М.: Мир, 1970.312 с.
29. Goodman C.H.L. Strained mixed-cluster modal for glass structure / C.H.L. Goodman // Nature (London).- 1975,- V.257.- № 5525.- P. 370-372.
30. Аппен, A.A. Химия стекла / A.A. Annen. Л.: Химия, 1970.- 348 С.
31. Тарасов, B.B. Проблемы физики стекла / В.В. Тарасов.- М.: Стройиздат, 1979.- 120 с.
32. Бартенев, Г.М. Сверхпрочные и высокопрочные неорганические стекла / Г.М. Бартенев.- М., 1974, 240с.
33. Голубков В.В. Структура и структурные превращения кварцевых стекол/ В.В.Голубков // Физика и химия стекла. 1992. - Т. 18. - №1.- С.57-69.
34. Gerber, Th. Phase transition in vitreous and amorphous SiCV Th. Gerber, В. Himmel, H. Lorenz // Cryst. Res. Technol.- 1988,- V.23.- № 10/11,- P.1293-1302.
35. Himmel, В., Gerber Th., Noftz M. Et al. Structural characterization of vitreous S1O2 polymorphic using WAXS and computer simulation /В. Himmel, Th. Gerber, M. Noftz et al. // Proc. XVI Intern. Congress on glass.- V.3.- Madrid.- 1992.- P.245-250.
36. Минаев, B.C. Полиморфно-кристаллоидное строение стекла/ B.C. Минаев // Физика и химия стекла.- 1996,- Т.22.- №3,- С. 314-325.
37. Андреев, Н.С. Структура оксидных стекол и стеклообразующих расплавов по данным дифракционных, электронно-микроскопических и вычислительных методов/ Н.С. Андреев // Физикохимия силикатов и оксидов.- С.-Пб: Наука, 1998.- с.168-179.
38. Минаев, B.C. К определению некристаллического вещества и его разновидностей / В.С.Минаев // Физика и химия стекла.- 1992- Т. 18.- №1,- С.35-42.
39. Порай-Кошиц, Е.А. Новые результаты исследования неоднородного строения стекла / Е.А. Порай-Кошиц // Физика и химия стекла.- 1975,- Т.1.- №5.- С.385-394.
40. Порай-Кошиц, Е.А. О строении стекла: проблемы и перспективы / Е.А. Порай-Кошиц // Физика и химия стекла.- 1992.- Т. 18.- №6.- С.3-9.
41. Gaskell, Р.Н. Medium — range order and random networks / P.H.Gaskell // J. Non-Cryst. Solids.- 2001,- V.293-295.- P.146-152.
42. Малиновский, B.K. Низкочастотное комбинационное рассеяние в стеклообразных материалах / В.К. Малиновский, В.Н. Новиков, А.П. Соколов // Физика и химия стекла,- 1989,- Т.15,- №3,- С.331-344.
43. Arai, М. Intermediate range structure and low energy dynamics of densified vitreous silica / M. Arai, T. Otomo, M. Nakamura et al // J. Non-Cryst.Solids.- 2001.- V.293-295.- P.389-393.
44. Swenson , J. Intermediate range ordering in a network glass/ J. Swenson, L. Borjesson // J. Non-Cryst. Solids.- 1998.- V.223.- №3.-P.223-229.
45. Suzuya, Kentaro. Intermediate range order in lead metasilicate glass/ K. Suzuya, D. Price, M.-L. Sabounji et al. //Nucl. Instr. Meth. 1997,- V.133.- №1-4.- P.57-61.
46. Савранский, С.Д. Возникновение и характеристики среднего порядка в однофазных стеклах и их расплавах/ С.Д. Савранский // Физика и химия стекла,- 1992.- Т. 18.- №6.1. С.135-141.
47. Голубков В.В. Релаксация структуры в интервале стеклования В2О3 / В.В. Голубков// Физика и химия стекла.- Т. 15.- №3.- С.467-479.
48. Almeidia R.M. Short and intermediate range structures in fluoride glasses by vibrational spectroscopy/ R.M. Almeidia // J. Non-Cryst. Solids.- 1992.- V.140.- №1.- P.92-97.
49. Санин B.H. Ангармонические эффекты в силикатных стеклах: дисс. докт. физ,-мат.наук,- Воронеж, 1995.- 278 с.
50. Porai-Koshits, Е.А. The structure of glasses // E.A. Porai-Koshits // J.Non-Cryst. Solids.-1977.- V.25.- № 1-3,- P.87-128.
51. Евстропьев, К.С. Химия кремния и физическая химия силикатов / К.С. Евстропьев, Н.А. Торопов.- М., 1956,- 340 с.
52. Лисичкин, Г.В. Химия привитых поверхностных соединений / Г.В. Лисичкин.- М.: Физматгиз, 2003.- 562 с.
53. Прянишников, В.П. Ковалентная модель кремнезема и общие закономерности процесса стеклообразования/ В.П.Прянишников // Докл.У Всес. совещания «Стеклообразное состояние».- 1969,- С.55-60.
54. Леко, В.К., Мазурин О.В. Свойства кварцевого стекла / В.К.Леко, О.В. Мазурин.- Л.: Наука, 1985,- 166 с.
55. Леко, В.К. Структура стеклообразного кремнезема / В.К.Леко // Физика и химия стекла.- 1993.- Т.19.- №5.- С.673-715.
56. Шутилов, В.А. Структурные особенности и модели строения кварцевого стекла/ В.А. Шутилов, Б.С. Абезгауз // Физика и химия стекла.- 1985.- Т.П.- №3.- С.257-271.
57. Marians, C.S. Network properties of crystalline polymorphic of silica / C.S. Marians, L.W. Hobbs L.W. // J. Non-Cryst.Solids.- 1990.- V.124.- №2-3.- P.242-253.
58. Sitarz, M. Rings in the structure of silicate glasses/ M. Sitarz, W. Mozgawa, M. Handke // J. Molec. Struct.- 1999,- V.511-512,- P.281-285.
59. Pasquarello, A. Identification of Raman defect lines as signatures of ring structures in vitreous silica/ A. Pasquarello, R. Car // Phys. Rev. Lett.- V.80.- №23.- P.5145-5147.
60. Elliot, R. Evidence for rings in the dynamics of tetrahedral glasses / R. Elliot // J. Non-Cryst. Solids.- 1995.- V.182.- №1-2,- P.l-8.
61. Kerner, R. Model of rings in the amorphous SiCh: Frank Galeener's legacy / R. Kerner // J. Non-Cryst. Solids.- 1995,-V.182.-№1-2,-P.9-21.
62. Ito, Y. Application of extended energy loss fine structure in determining the structure of amorphous Si02/ Y. Ito, D.Winkler, H. Jain, D.S. Williams // J. Non-Cryst. Solids.- 1997.-V.222.- P.83-93.
63. Зюбин, A.C. Квантовохимическое моделирование свойств структурных фрагментов непрерывной неупорядоченной сетки в «тетраэдрических» стеклообразователях Si02, Ge02, GeS2, BeF2 и ZnCl2/ A.C. Зюбин, С.А. Дембовский // Материаловедение,- 1999.-№1.- С.2-19.
64. Shchipalov, Yu.K. Surface energy of crystalline and vitreous silica / Yu.K. Shchipalov // Glass and ceramics.- 2000.-V.57.- №11-12,- P.374-377.
65. Volmair, K. Cooling rate effects in amorphic silica: a computer-simulation study / K. Volmair, W. Kob, K. Biner//Phys. Rev. В.- 1996,- V.54.- №22,- P.1588-15827.
66. Либау, Ф. Структурная химия силикатов / Ф. Либау.-М.: Мир, 1988
67. Winter-Klein, A. Structure, glass formation and properties / A. Winter-Klein // J. Non-Cryst. Solids- 1995,- V. 192-193.- P.9-22.
68. Greaves, G.N. Local structure, microstructure and glass properties / G.N. Greaves , W. Smith, E. Giulotto, E. Pantos //J. Non-Cryst. Solids.- 1997,- V.222.- P. 13-24.
69. Anand AgarwaL Correlation of silica glass properties with the infrared spectra / Anand Agarwal, Minoru Tomozava // J. Non-Cryst. Solids.- 1997,- V.209.- P. 166-174.
70. Xingwei Feng, Bresser W.J., Min Zhang et al. Role of network connectivity on the elastic, plastic and thermal behavior of covalent glasses / Xingwei Feng, W.J. Bresser , Min Zhang et al. //J. Non-Cryst. Solids.- 1997.- V.222.- P.137- 143.
71. Нефедов, В.И., Гати Д., Джуринский Б.Ф. Рентгеноэлектронные исследования окислов некоторых элементов / В.И. Нефедов, Д. Гати, Б.Ф. Джуринский // Ж. неорг. химии.- Т. 20.- С.2307-2314.
72. Нефедов, В.И. Рентгеноэлектронная спектроскопия химических соединений: Справочник / В.И. Нефедов.- М.: Химия, 1984.256 с.
73. Канунникова О.М. Формы адсорбированного кислорода на поверхности меди. дисс. канд. физ.-мат наук., Ижевск, 1993.- 160 с.
74. Канунникова, О.М, Формы адсорбированного кислорода на поверхности переходных металлов / О.М. Канунникова, М.Ф. Сорокина // Деп. ВИНИТИ.- 1991.- №561- В91.-56с.
75. Клименко, Н.М. Гипотеза об участии внешних вакантных орбит в образовании молекул в свете современных квантовохимических расчетов / Н.М.Клименко // Ж. структ. химии,- 1973.- Т.14.- №1,- С.173-207.
76. Taylor, D. The relationship between Si-0 distances and Si-O-Si bond angles in the silica polymorphs / D. Taylor // Miner. Mag.- 1972.- V.38.- P.629-631.
77. Brown, G.E. The nature and variation in length of the Si-0 and Al-0 bonds in framework silicates / G.E. Brown, G.Y. Giobs, P.H.Ribbe // Amer. miner.- V.54.- № 7/8,- P.1044-1061.
78. Gibbs, G.V. The localization function: a tool for locality favorable proton docking sites in the silica polimorfs / G.Y. Gibbs, D.F. Cox, M.B. Boisen et al. // Phys. Chem. Min.- 2003.-V.30.- P.305-316.
79. Rosso, K.M. SiO bonded interaction in coesite: a comparison of crystalline, molecular and experimental electron density distribution / K.M. Rosso, G.Y. Gibbs, M.B. Boisen // Phys. Chem. Miner.- 1999,- V.26- P.264-272.
80. Newton, M.D. Theoretical probes of bonding in the siloxil group / M.D. Newton // Structure and bonding in crystal.- V.I.- New York: Acad. Press- 1988,- P. 175-193.
81. Sprenger, D. Discrete bond model (DBM) of sodium silicate glasses from XPS, Raman and NMR measurements / D. Sprenger, II. Bach, W. Meisel, P. Gutlich // J. Non-Cryst. Solids.-1993.-V.159.-P.187-203.
82. Райт, А.К. Дифракционные исследования стекол: первые 70 лет / А.К.Райт // Физика и химия стекла.- 1998,- Т.24.- №3,- С.218-265.
83. Weeks, R.A. The structure of glass: past, present and prescient/ R.A. Weeks // J. Non-Cryst. Solids.- 1985.- V.73.- P.103-113.
84. Shelby, J.E. Property / structure relationships in lead silicate glasses / J.E. Shelby // Glastechn. Ber. -1983.- Bd. 56,- №13,- P.1057-1062.
85. Дембовский, С.А. Стеклообразование / С.А. Дембовский, E.A. Чечеткина.- M.: Наука, 1990, 250 с.
86. Бреховских, М.М. Радиационные эффекты в стеклах / М.М.Бреховских// Материалы Всесоюзного совещения «Стеклообразное состояние».- Ленинград,- 1983.- С. 10-17.
87. Бальмаков, М.Д. Стеклообразное состояние вещества / М.Д. Бальмаков.- С.-Пб: Изд-во СПбГУ, 1996,- 182с.
88. Porai-Koshits, Е.А. Structure of glass: the struggle of ideas and prospects / E.A. Porai-Koshits//J. Non-Cryst. Solids.- 1985.- V.73.-№1-3,- P.79-91.
89. Williams, K.F.E. Mossbauer spectra of tin in binary Si-Sn oxide glasses / K.F.E. Williams, C.E. Johnson, J.A. Johnson et al. // J.Phys.: Condens. Mater.- 1995.- V.7.- P.9485-9497.
90. Jialing, Y. Further studies on the IR spectra of silicate glasses / Y. Jialing // J. Non-Cryst. Solids.- 1986,-№84,-P.114-119.
91. Колесова, В.А. Исследование структуры оксидных стекол методами колебательной спектроскопии/ В.А.Колесова // Физика и химия стекла,- 1983,- Т.9.- №3.- С.257-266.
92. Jones, F.L. Optical properties and the constitution of glass /F.L. Jones, N.J. Kreidl // J. Soc. Glass. Technology.- 1949,- V.33.- №153.- P.239 254.
93. Сидоров, Т.А. Инфракрасные и ультрафиолетовые спектры и структура свинцовосиликатных стекол / Т.А.Сидоров // Журнал прикладной спектроскопии.-1967,- Т.6.- №1.- С.98-101.
94. Etchapare , J. Interpretation of the Raman scattering spectra of binary silicate glasses/ J. Etchapare // Spectrochim. Acta.- Pt. A.- 1969.- V.26.- №11.- P.2147-2154.
95. Bourdillon, A.J. The reflection spectrum of lead glass / A.J. Bourdillon // Phil. Mag.- 1978.-V.37.- №6.- P.731-738.
96. Bent Julian, F. The structure of tin silicate glasses / F. Bent Julian, C. Yfnnon Alex, Holland Diane et al. // J. Non-Cryst. Solids.- 1998,- V.232-234.- P.300-308.
97. Bair, G.J. J. Structure of lead-silicate glasses studied by x-ray diffraction/ G.J.J. Bair // J. Amer. Ceram. Soc.- 1936.- V.13.- P. 339-352.
98. Шахмин А.А. Электронная структура свинцовосиликатных стекол и ее связь с коэффициентом вторично-электронной эмиссии: дисс. канд. физ.-мат.наук., С.Петербург, 2000,- 166 с.
99. Moore, M. Structural analysis of lead silicate glasses / M. Moore, M. Caroy // Trans. Soc. Glass. Techn.- 1949.-V.33.- P.239.
100. Пакшеев, И.Ю. К вопросу о фазовых равновесиях в системе Pb0-Si02 / И.Ю. Пакшеев, В.Н. Власов // Изв.вузов: Цветная металлургия, 1999, №4, С. 1-7.
101. Imaoka, М. X-Ray diffraction analysis on the structure of the glasses in the system PbO-Si02/M. Imaoka, H. Hasagawa, I. Yasui // J. Non-Cryst. Solids.- 1986.- V.85.- P.393-412.
102. Leventahl, M. Nuclear Magnetic Resonance investigation of compounds and glasses in the systems Pb0-B203, and Pb0-S102 / M. Leventahl, P.J. Bray // Phys. Chem. Glasses.-1965.-V.6.-№4.-P.l 13-125.
103. Dupree, R. NMR investigation of lead silicate glasses/ R. Dupree // Trans. Soc. Glass. Techn.- 1949,-V.33.-P.239.
104. Кабанов, В.О. Спектры комбинационного рассеяния и структура стекол системы Pb0-Si02 / В.О. Кабанов, Т.М. Подольская, О.В. Януш // Физика и химия стекла.-1996,- Т.22.- №1.- С.25-33.1. О Q 0П7
105. Fay on, F. Si and Pb NMR study of local order in lead silicate glasses / F. Fayon, С. Bessada, D. Massiot // J. Non-Cryst. Solids.- 1998.- V. 232-234.- P. 403-408.
106. Демкина, JI.И. Исследование зависимости свойств стекол от их состава / Л.И. Демкина.- М., Оборонгиз, 1958.- 156 с.
107. Verjey, Н. Structural units in К 20-Pb0-Si02 glasses by Raman spectroscopy / H. Verjey, W.L. Kanjnendijk // J. Am. Ceram. Soc.- 1976.- V.59.- №11/12.- P. 517-521.
108. Hosono, H. Coordination of Pb in oxide glasses determined by ESP and properties of binary lead glasses / H. Hosono, H. Kawazoe, T. Kanazawa // Yogyo-Kyokai-Shi.- 1982.-V.90.- №9.- P.544-551.
109. Шахмин, А. Исследование электронной структуры свинцово- силикатных стекол методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии / А. Шахмин, А. Тютиков //
110. Физика и химия стекла.- 1990.- Т.16,- №6,- С.833-839.
111. Brosset, С. X-ray diffraction study of lead silicate glasses / C. Brosset // Phys. Chem. Glasses.- 1963.-V.4.-P.99-106.
112. Mydlar, M.F. X-ray diffraction study of lead silicate glasses / M.F. Mydlar, H.J. Kreidl, J.K. Hendren, G.T. Clayton //Phys. Chem. Glasses.- 1970,- V. II.- №6,- P. 196-204.
113. Gotz, J. On the constitution of silicate groupings in binary lead silicate glasses / J. Gotz, D. Hoebbel, W. Wieker // J. Non-Cryst. Solids.- 1976.- V.22.- P.391-398.
114. Порай-Кошиц E.A. О стеклообразном состоянии (рентгенографическое исследование): канд. дисс., Казань, 1942.
115. Morikawa, Н. Structural analysis of 2РЬО Si02 glasses / H. Morikawa, Y. Takagi, H. Ohno // J.Non-Cryst.Solids.- 1982.- V.53.- P.173-182.
116. Zahra, A.-M. DSC and Raman studies of lead borate and lead silicate glasses / A.-M. Zahra, C.Y. Zahra, B. Piriou // J. Non-Cryst. Solids.- 1993,- V.155.- P. 45-55.
117. Piriou В., Arashi H. Raman and infrared investigation of lead silicate glasses/ B. Piriou, H. Arashi //High Temp. Sci.- 1980,- V.13.- P. 299-313.
118. Liping, L. Infrared spectroscopy on lead silicate glasses / L.Liping // Z. Phys. B. 1993.-V.90.- P.393 - 399.
119. Furukawa, T. The structure of lead silicate glasses determined by vibrational spectroscopy / T. Furukawa, S.A.Brawer, W.B.White // J. Mater. Sci.- 1978,- V.13- P. 268-282.
120. Worrell, C.A. Vibrational spectroscopic studies of some lead silicate glasses/ C.A. Worrell, T. Henshall //J. Non-Cryst. Solids.- 1978,- V. 29.- P. 283-299.
121. Roy, N.H. Oxide glasses of very low softening point. A study of potassium lead phosphate glasses by Raman spectroscopy / N.H. Roy // Glass Technol.- 1975.- V. 16.- №5.- P. 107108.
122. Witkowska, A. Influence of hydrogen reduction on the structure of PbSiCb glass: an EXAFS study / A. Witkowska, J. Rybicki, K. Trzebiatowski et al. // J. Non-Cryst. Solids.-2000,- V.276.- P. 19-26.
123. Немилов, C.B. Вязкость и структура стекол системы PbO-SiC>2 / C.B. Немилов // Неорг. матер.- 1968.- T.IV.- С.952-955.
124. Смирнова, Е.В. Исследование структуры свинцовосиликатных стекол методом инфракрасной спектроскопии / Е.В. Смирнова // Неорг. Матер.- 1965.- Т.1.- №8,-С.1410-1417.
125. Fajans, К. The structure of lead silicate glasses / K. Fajans, N.J. Kreidl // J. Amer. Soc.-1948.- Y.48.- P.105-112.
126. Krogh-Moe, J. Interpretation of the infrared spectra of boron oxide and alkali borate glasses / J. Krogh-Moe // Zs.phys.chem.- 1958,- V.18.- P.239-252.
127. Fayon, F. Pb2+ environment in lead silicate glasses proved by Pb-Ьш edge XAFS and 207 Pb NMR / F., Fayon, C. Landron, K. Sacurai et al. // J. Non-Cryst. Solids.- 1999.- V. 243,-№1.- P.39-44.
128. Tiago Takaishi. Structural study on PbO-SiCh glasses by x-ray and neutron diffraction and Si MAS Measurements / Tiago Takaishi, Masahide Takahashi, Jisun Jin et al.// J. Am. Ceram. Soc.- 2005- V.88.- №6,- P.1591-1596.
129. Rybica, J. The structure of the first coordination shell of Pb atoms in lead-silicate glasses: a molecular dynamic studies / J. Rybica, A. Rybica // Сотр. Meth. Sci. Techn.- 1990- V.5.-P.67-74.
130. Rybica, J. The structure of lead-silicate glasses: a molecular dynamic and EXAFS studies / J. Rybica, A. Rybica, A. Witkowska et al. // J. Non-Cryst. Solids.- 2000.- V.276.- P. 19-26.
131. Тютиков, A.M. Влияние окислов металлов на свойства эмитирующего слоя свинцово-силикатных стекол / A.M. Тютиков, М.Н. Тоисева, В.Н. Полухин, Н.В. Лобанова, В.Е. Яковлева // Физика и химия стекла.- 1981.- №6,- С.705-711.
132. Тютиков, A.M. Исследование связи эмиссионных свойств свинцово-силикатных стекол с их составом и структурой / A.M. Тютиков, М.Н. Тоисева, В.Н. Полухин, Н.В. Лобанова, В.Е. Яковлева // Физика и химия стекла.- 1979.- Т.5.- №5.- С.628-631.
133. Kaneko, Yasunari. Fundamental studies on quantitative analysis of О0, O" and 02~ ions in silicate by X-ray photoelectron spectroscopy / Kaneko Yasunari, Y. Suginohara // Yogyo-Kyikai-Shi.- 1975.- V. 41.- №4.- P. 375-380.
134. Smets, B.M.J. The structure of glasses and crystalline compounds in the system Pb0-Si02, studied by X-ray photoelectron spectroscopy / B.M.J. Smets, T.P. Lommen // J. Non-Cryst. Solids.- 1982,- V. 48.- P. 423-430.
135. Wang Paul, W. Structural role of lead in lead silicate glasses derived from XPS spectra / W. Wang Paul, Zhang Lipeng // J. Non-Cryst. Solids.- 1996.- V. 194,- № 1-2.- P. 129-134.
136. Гончаров, О.Ю. Универсальная методика оценки термодинамических свойств / О.Ю.Гончаров // Труды Всероссийского семинара «Термодинамика поверхностных явлений и адсорбции», Иваново, Плес, 2006.- С. 85-88.
137. Rigato, V. Physical properties of lead-silicate glassy thin films deposited by spattering in Ar:H2 mixtures/V. Rigato, D. Boscarino, D.Maggoni, et al. //Nuclear Instr. Meth.- 1996.-V.116.-P. 424-428.
138. Стекло и керамика. Перспективы развития / В.А Жабреев, В.Г. Конаков, М.М Шульц,- С-Пб.: Янус, 2001.- 303 с.
139. Flitsch, R. Electron mean escape depth from x-ray photoelectron spectra of thermally oxidized silicon dioxide films on silicon / R. Flitsch, S.I. Raider // J. Vac. Sci. Techn.-1975-V.12.-№1.- P.305-311.
140. Hill, J.M. Properties of oxidized silicon as determined by angular-dependent x-ray photoelectron spectroscopy / J.M.Hill, D.C. Roycer, C.S. Fadley et al. // Chem. Phys. Lett.- 1976.- V.44.- №2,- p.225-231.
141. Braun, W. Chemical structure of ultrathin thermally grown oxides on a Si( 100)-wafer using core-level photoemission / W. Braun, H. Kuhlebeck // Surf. Sei.- V.180.- № 1.-P.279-288.
142. Garner, C.M. Electron-spectroscopic studies of the early stages of the oxidation of Si / C.M. Garner, I. Lindau, C.Y. Su et al. // Phys. Rev. B.- V.B19.- №8-15.- P.3944-3956.
143. Ishizaka, A. Si-Si02 interface characterization from angular-dependence of x-ray photoelectron spectra / C.M.Garner, I. Lindau, C. Y. Su et al. // Appl. Phys. Lett.- 1980.-V.36.- №1.- P.71-73.
144. Hecht, M.H. Electron-escape depth variation in thin Si02 films measured with variable photon energy / M.H. Hecht, F J. Grunthaner, P. Pianetta et al. // J. Vac. Sei. Techn.-1984,- V.2.- №2,- P.584-587.
145. Grunhaner, F.J. High-resolution x-ray photoelectron spectroscopy as a probe of local atomic structure / F.J. Grunhaner, P.J. Grunhaner, R.P. Vasques et al. // Phys. Rev. Lett.-1979.- V.43.- №22.- P.1683-1686.
146. Himpsel, F.J. Microscopic structure of the Si-Si02 interface / F.J. Himpsel, F.R. McFeely, A. Taleb-Ibrahimi, J.A. Yarmoff// Phys. Rev.B- 1988,- V.38.- №9.- P.6084-6096.
147. Jolly, F. Oxidized silicon surfaces studied by high resolution Si2p core-level photoelectron spectroscopy using synchrotron radiation / F. Jolly, F. Rochet, G. Dufour et al. // J. Non-Cryst. Solids.- 2001,- V.280.- №1-3.- P.150-155.
148. Johansson, L.I. Synchrotron radiation stadies of the Si02/ SiC (0001) interface / L.I. Johansson, C. Virojanadara//J.Physics: Condense Matter.-2004.- V.16.- S3423-S3434.
149. Revesz, A.G. Density gradient in SiC>2 films on silicon as revealed by positron annihilation spectroscopy / A.G. Revesz, W. Anwand, G. Brauer et al. // Appl. Surf. Sci.- 2002- V.194-P. 101-105.
150. Лисовский, И.П. Изучение структурного состояния кислорода в пленках SiOx методом ИК-спектроскопии / И.П. Лисовский, В.Б. Лозинский, С.И. Фролов // Украинский физический журнал.- 1993.- Т.38.- №5,- С. 745-752.
151. Ту, К. Методы получения и исследования тонких пленок / К. Ту, С. Лау // Тонкие пленки. Взаимная диффузия и реакции. -М. Мир, 1982.- с.83-122.
152. Чопра, К.Л. Электрические явления в тонких пленках / К.Л. Чопра.- М. Мир, 1972.
153. Технология тонких пленок. Справочник / Под ред. Л. Майсселя, Р. Гмэнга.- М.: Советское радио, 1977, гл.З.
154. Almeida R.M. Spectroscopy and structure of sol-gel system / R.M. Almeida // J. Sol-Gel Science and Technol.- 1998,- V.13.- P.51-59.
155. Uhlmann, D.R. Sol-gel science and technology: current state and future prospects / D.R. Uhlmann, G. Teowell // J. Sol-Gel Sci. Techn.- 1998.-V.13.- P.153-162.
156. Brinker, C.F. Sol-Gel Science/ C.F. Brinker, G.W. Scherer // The Physics and Chemistry of Sol-Gel Processing.- San Diego: Academic Press, Inc. 1990.
157. Almeida R.M. Spectroscopy and structure of sol-gel system / R.M. Almeida // J. Sol-Gel Science and Technol.- 1998.- V.13.- P.51-59.
158. Simeonova, J.M. Surface compositional studies of heat reduced lead silicate glass / J.M. Simeonova//J. Non-Cryst. Solids.- 1983,- V.57.- P. 177-187.
159. Bongiorno, A. Migration of atomic hydrogen in crystalline and amorphous Si02: amolecular dynamic study / A. Bongiorno, L. Colombo, M.I. Trioni // J. Non-Cryst. Solids.-1997.- V.216.- P.30-35.
160. Kama, S.P. Interaction of H7 H° with О atom in thin Si02 films: a first- principles quantum mechanical study / S.P. Kama, R.D. Pugh, W.M. Schedd, B.B.K. Singaraju // J. Non-Cryst. Solids.- 1999.-V.254.-P.66-73.
161. Lopez, N. Interaction of H2 with strained rings at the silica surface from ab initio calculations / N. Lopez, M. Vitello, F. Illas, G. Pacconi // J. Non-Cryst. Solids.- 2000,- V. 271.- P.56-63.
162. Файнберг, E.A. Химический состав фазы, восстанавливающейся на поверхности свинцовосиликатных стекол в процессе их термообработки в водороде / Е.А. Файнберг//Ж. прикладной химии,- 1965.- Т.39.- №10.- С.2192-2196.
163. Гусинский, Г.М. Влияние термоводородной обработки на концентрационный профиль свинца в свинцовосиликатном стекле/ Г.М. Гусинский, Г.М. Осетинский и др. // Физика и химия стекла. -1987,- Т.13,- №5.- С.732-740.
164. Елисеев, С.А. Применение Оже-спектроскопии для изучения распределения элементов в поверхностном слое восстановленных свинцовосиликатных стекол / С.А.Елисеев//Физика и химия стекла,- 1985.- Т.П.-№5.- С.600-602.
165. Елисеев, С.А. Профили распределения элементов в поверхностном слое восстановленных свинцовосиликатных стекол / С.А.Елисеев // Физика и химия стекла,- 1985.- Т.П.- №5.- С.603-604.
166. Гравель, JI.A. Об изменении состояния поверхности восстановленных свинцовосиликатных стекол при их термообработке / JI.A. Гравель, Н.Б. Леонов и др. // Физика и химия стекла,- 1984.-Т.10,- №1,- С.75-78.
167. Зигбан, К. Электронная спектроскопия / К. Зигбан, К. Нордлинг, А. Фальман А.и др.-М.:Мир,1971.-493 с.
168. Вовна, В.И. Фотоэлектронная спектроскопия свободных молекул / В.И. Вовна, Ф.И. Вилесов // Успехи фотоники. JL: Изд-во Ленингр. ун-та, 1975.- с.3-149.
169. Нефедов, В.И. Применение электронной спектроскопии в химии / В.И. Нефедов // ВИНИТИ, М., 1973, 148 с.
170. Немошкаленко, В.В. Электронная спектроскопия кристаллов / В.В. Немошкаленко, В.Г. Алешин.- Киев: Наукова думка, 1976.- 336 с.
171. Пролейко, В.М. Аналитическое приборостроение электроники / В.М. Пролейко // Электронная промышленность,- 1978,- Вып. 11-12.- С.3-9.
172. Трапезников, В.А. Рентгеноэлектронная спектроскопия сверхтонких поверхностных слоев конденсированных систем / В.А. Трапезников, И.Н. Шабанова.- М.: Наука,-1988, 200с.
173. Карлсон, Т.А. Фотоэлектронная и Оже-спектроскопия / Т.А. Карлсон.- Л: Машиностроение, 1981.- 431 с.
174. Миначев, Х.М. Е.С. Фотоэлектронная спектроскопия и ее применение в катализе / Миначев Х.М., Антошин Г.В., Шпиро Е.С. М.: Наука, 1981.213с.
175. Нефедов, В.И. Физические методы исследования поверхности твердых тел / В.И. Нефедов, В.Т. Черепин,- М.:Наука, 1983.296 с.
176. Анализ поверхности методами оже- и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии/ Д. Бриггс, М.П. Сих.-. М.: Мир, 1987.-598 с.
177. Вудраф, Д., Делчар Т. Современные методы исследования поверхности / Д. Вудраф, Т. Делчар.- М.: Мир, 1989,- 568с.
178. Синхротронное излучение / К. Кунц.- М.: Мир,1981.- 526с.
179. Бейкер, А. Фотоэлектронная спектроскопия / А. Бейкер, Д. Беттеридж .- М.: Мир, 1975.- 200с.
180. Электронная и ионная спектроскопия / Под ред. Л.Фрименса,- М., 1981.-467 с.
181. Photoemission in solids. I. /Ed. M. Cardona, L. Ley. Berlin, 1978.- 290 p.
182. Photoemission in solids. II. /Ed. L. Ley, M. Cardona. Berlin, 1979.- 300 p.
183. Гомоюнова, M.B. Фотоэлектронная спектроскопия адсорбированных атомов и молекул/ М.В.Гомоюнова// Журнал технической физики- 1977.- Т.47,- Вып. 4,-С.673-708.
184. Гомоюнова, М.В. Электронная спектроскопия поверхности твердого тела / М.В. Гомоюнова // Усп. физ. Наук.-1982,- Т.136,- №1.- С.105-148.
185. Праттон, М. Введение в физику поверхности / М. Праттон.- М.- Ижевск, 2000.256 с.
186. Hufner, S. Photoelectron spectroscopy / S. Hufner.- Springer-Verlag, 2000.- 508 p.
187. Yen, J.J. I Atomic subshell photoionization cross-section and asymmetry parameters: l<z<103/ J.J. Yen, I. Lindau // Atomic data and nuclear data tables.- 1985,- V.32.-1755 p.
188. Goldberg, S.M. Photoionisation cross-section for atomic orbitals with random and fixed spatial orientation / S.M. Goldberg, C.S. Fadley, S. Kono // J. Electr. Spectr.Rel. Phenom.-1981-V.21.- P. 285-363.
189. Woodruff, P. The quantitative interpretation in photoelectron spectra obtained with dispersive electrostatic analyzers / P. Woodruff, L. Torop, J.B. West // J. Electr. Spect. Rel .Phenom.-1977.- №12.- P.133-142.
190. Fister, J. Quantitative ESCA surface analysis applied to catalysts: Investigation ofconcentration gradients / J. Fister, P. Lorenz, A. Meisel // Surf. Interf. Analysis.- 1979-V.1.-N6.- P. 179-184.
191. Carter, W. Experimental evaluation of a simple model for quantitative analysis in X-ray photoelectron spectroscopy / W. Carter, C. Schweitzer, T. Carlson // J. Electr. Spect. Rel. Phen.- 1974.- V.5.- P.827-835.
192. Powell, C.J. Quantitative surface analysis by X-ray photoelectron spectroscopy / C.J. Powell, P.E. Larson//Appl. Surf. Sci.- 1978,- V.I.- P. 186-201.
193. Szajman, J. Subshell photoionisation cross-sections, electron mean free paths and quantitative X-ray photoelectron spectroscopy / J. Szajman, I.J. Jenkin, R. Leckey, Liesegang J. // J. Electr. Spect. Rel. Phen.- 1980.- V.5.- P.393-408.
194. Hoffmann, S. Quantitative depth profiling in surface analysis: a review / S. Hoffmann // Surf. Interface Anal.- 1988.- V.2.- №4.- P.148-160.
195. Шаков А.А. Развитие методов количественного анализа функциональных групп органических соединений с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии: дисс.канд. физ.-мат. наук, Ижевск, 1999.
196. Beamson, G.High Resolution XPS of Organic Polymers: The Scienta ESCA300 Database / G. Beamson, D.Briggs // Wiley & Sons;Chichester, New York, Brisbane, Toronto, Singapore, 1992.-582 p.
197. Naguib, H.M. Criteria for bombardment-induced structural changes in non-metallic solids /
198. H.M. Naguib, R. Kelly // Radiation effects.- 1975,- V.25.- P.l-12.
199. Garrido, B. Reconstruction of the Si02 structure damaged by low-energy Ar-implanted ions /B. Garrido, J. Samitier, S. Botaetal. //J. Appl. Phys.- 1997.- V.81.- №1.- P.126-134.
200. Kim Hong-Ryul. The effect of Ar+ -ion bombardment on SiC>2 aerogel film/ Kim Hong-Ryul, Park Hyung-Ho. // Jap. J. Appl. Phys.- Pt.l.- 1998,- V.37.- № 12B.- P.6955-6958.
201. Mizutani Tatsumi. Compositional and structural modifications of amorphous SiO by low-energy ion and neutral beam irradiation / Mizutani Tatsumi // J. Non-Cryst. Solids.- 1995.-V. 181.-№1-2.- P.123-134.
202. Douillard, L. Swift heavy ion amorphization of quartz a comparative study of the particle amorphization mechanism of quartz / L. Douillard, J.P. Duraud //Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. B.- 1996,- V.107.- P.212-217.
203. Hobbs, L.W. The role of topology and geometry in the irradiation-induced amorphization of network structures / L.W. Hobbs // // J. Non-Cryst. Solids.- 1995.- V.182.- P.27-39.
204. Holloway, P.H. Limitation of ion etching for interface analysis / P.H. Holloway, P. Bhattacharia. // Surf. Interface Anal.- 1981.- V.3.- №3.- P. 118-125.
205. Kelly, R. On the problem of whether mass of chemical bonding is more important to bombardment-induced compositional changes in alloys and oxide / R. Kelly // Surf. Sci.-1980.-V.100.-P.85-107.
206. Chuang, T. An X-ray photoelectron spectroscopy study of chemical changes in oxide and hydroxide surfaces inducted by Ar bombardment / T. Chuang, G. Brundelt, K. Wandelt // Thin Solid Films.-1978.- V.53.- №1,- P.19-27.
207. Kim, K.S. ESCA studies of metal-oxygen surfaces using argon and oxygen ion-bombardment / K.S. Kim, W. E. Baitinger, J. W. Amy, N. Winograd // J. Electron Spect. Relat. Phenom.- 1974.-V.5.- P.351-367.
208. Wagner, S.D. Studies of the charging of insulators in ESCA / S.D. Wagner // J. Electr. Spect. Rel. Phenom. -1980,- V.18.- P.345-349.
209. Клещевииков A.M. Профили концентраций элементов по глубине твердых тел на основе данных рентгеноэлектронной спектроскопии: дисс. канд. физ.-мат. наук., Москва, 1983.- 160 с.
210. Treglia, G. Alloy surfaces: segregation, reconstruction and phase transitions / G. Treglia, B. Legrand, F. Ducastelle et al. // Сотр. Mater. Sci.- 1999,- XslS.- P.196-235.
211. Матвеев, В.И. Распыление металла в виде больших кластеров при ионной бомбардировке / В.И. Матвеев, С.Ф. Белых, И.В. Веревкин // ЖТФ,- 1999.- Т.69.-Вып.З.- С.64-68.
212. Wolf, G.K. Chemical effects of ion bombardment / G.K. Wolf// Instr. Inorg. Chem.-1979.- V.83.- P.1-34.
213. Wu, O.K.T. ESCA signal intensity dependence on surface area (roughness) /
214. K.T.Wu, G.G. Peterson, W.J. LaRocca, E.M.Butler//Appl. Surf. Sci.- 1982,-№ 11/12.- P.118-130.
215. Lomaev, I.L. Application of atomic force microscopy and x-ray photoelectron spectroscopy to measuring thickness of surface coating for nanostructured materials /
216. L.Lomaev, S.F.Lomaeva//Phys. Low-Dim. Struct.- 2003. -N 2/3.- P. 175-182
217. Urch D.S., Webber M. The unsuitability of gold as a standard non conducting samples in X-ray photoelectron spectroscopy / D.S. Urch, M. Webber // J. Electr. Spectr. Relat. Phenom.- 1974,-V.5.- P.791-798.
218. Hatowich, D.G. Determination of charging effect in photoelectron spectroscopy of non conducting solids / D.G. Hatowich, J. Hudis, M. L. Perlman, R.C. Ragaini // J. Appl. Phys.- 1971.- V.42.- №12,- P.4883-4886.
219. Уэстон , Дж. Техника сверхвысокого вакуума / Дж. Уэстон.- М.: Мир, 1988.- 365 с.
220. Frost, D.C. A versatile, fast pumping ultraviolet photoelectron spectrometer for the study of transient and unstable species / D.G. Hatowich, J. Hudis, M.L. Perlman, R.C. Ragaini // J. Electron Spectr. Relat. Phenom.- 1977.- V.12.- P.95-100.
221. Кожевников, В.И. Расширение диапазона возбуждающего излучения электронного спектрометра ЭС-2401 / В.И. Кожевников, Ф.З. Гильмутдинов, О.М. Канунникова,
222. B.А. Трапезников, С.В. Антонов // Приборы и техника эксперимента.- 1995.- №4.1. C.159-161.
223. Кожевников, В.И., Индукционный нагрев образцов в электронных спектрометрах / В.И. Кожевников, Д.В. Мерзляков, Ф.З. Гильмутдинов, О.М. Канунникова, М.Ф. Сорокина // Приборы и техника эксперимента.- 1991.- №2.- С.200-201.
224. Вотяков, В.А.Шлюзовая камера для электронных спектрометров / В.А. Вотяков, П.Г. Мерзляков, В.П. Кожевников // Заводская лаборатория,- 1994.- №2.- С.24 25.
225. Rondon, S. Core level and valence band spectra of PbO by XPS / S. Rondon, P.M. Sherwood// Surf. Sci. Spectra.- 1998,- V.5.- P.97-103.
226. Jolly, F. Oxidized silicon surfaces studied by high resolution Si2p core-level photoelectron spectroscopy using synchrotron radiation / F. Jolly, F. Rochet, G. Dufour et al. // J. Non-Cryst. Solids.- 2001.- V.280.- №1-3,- P.150-155.
227. Johansson, L.I. Synchrotron radiation stadies of the ЭЮг/ SiC (0001) interface / L.I. Johansson, C. Virojanadara//J.Physics: Condense Matter.-2004.- V.16.- S3423-S3434.
228. Bach, H. Advanced surface analysis of silicate glasses, oxides and other insulating materials: a review / H. Bach // J. Non-Cryst. Solids.- 1997,- V.209.- P. 1-18.
229. Фельц, А. Аморфные и стеклообразные неорганические твердые тела / А.Фельц.- М.: Мир, 1986, 558 с.
230. Бальмаков, М.Д. Стеклообразное состояние вещества / М.Д. Бальмаков,- СПб: Изд-во СПбГУ, 1996.- 182с.1. О 2
231. Kaneko Yasunari. Fundamental studies on quantitative analysis of О , О" and О " ions in silicate by X-ray photoelectron spectroscopy / Kaneko Yasunari, Y. Suginohara // Yogyo-Kyikai-Shi.- 1975.- V. 41.- №4.- P. 375-380.
232. Киселев, В.Ф. Адсорбционные процессы на поверхности полупроводников и диэлектриков / В.Ф. Киселев, О.В. Крылов.- М.: Наука, 1978,- 256 с.
233. Dickens, В. The bonding in red PbO / В. Dickens // J. Inorg. Nucl. Chem.- 1965,- v.27.-P.1503-1507.
234. Dickens, B. The bonding in the yellow form of lead monoxide / B. Dickens // J. Inorg. Nucl. Chem.- 1965.- V.27.- P.1495-1501.
235. Hewitt, R.W. Investigation of the oxidation of polycrystalline lead by XPS and SIMS / R. W. Hewitt, N. Winograd // Surf. Sci.- 1978,- V.78.- P.l-14.
236. Joyner R.W., Low energy electron diffraction and electron spectroscopic studies of the oxidation and sulphidation of Pb(100) and Pb(l 10) surfaces / R.W. Joyner, R. Kishi R, M.W. Roberts // Proc. R. Soc. Lond.- 1977.- V.A358.- P.223-247.
237. Kim, K.S. Observation of polymorphic lead monoxide surfaces using x-ray photoelectron spectroscopy /K.S. Kim, N. Winograd // Chem. Phys. Lett.- 1973.- V.19.- №2,- P.209-212.
238. Taylor, J. A. An x-ray photoelectron and electron energy loss study of the oxidation of lead / J.A. Taylor, D. L. Perry //J. Vac. Sci. Technol.- 1984,- V.A2(2).- P.771-774.
239. Dickens, B. The bonding in РЬзОз and structural principles in stoichiometric lead oxides/ B. Dickens // J. Inorg. Nucl. Chem.- 1965,- V.27.- P. 1509-1515.
240. Rondon, S. Core level and valence band spectra of Pb02 by XPS/ S. Rondon, P.M. Sherwood // Surf. Sci. Spectra.- 1998.- V.5.- P. 104-110.
241. Von Katsuo Kato Die OD-Structur von bleisilicat Pb2Si04 und bleisilicat-germanat mischkristall Pb2 (Si, Ge)04 / Von Katsuo Kato // Acta Cryst.- 1980,- V.B36.- P.2539 -2545.
242. Rondon, S. Core level and valence band spectra of Pb by XPS / S. Rondon, P.M. Sherwood // Surf. Sei. Spectra.- 1998,- V.5.- P.83-89.
243. Анфилогов B.H., Быков B.H., Осипов A.A. Силикатные расплавы / В.Н. Анфилогов, В.Н. Быков, A.A. Осипов.- М.:Наука, 2005, 360 с.
244. Термодинамические свойства индивидуальных веществ. Справочное издание: в 4-х т.
245. Л. В. Гурвич, И. В. Вейц, В. А. Медведев и др.- М.: Наука, 1982.
246. Моисеев, Г.К. Температурные зависимости приведенной энергии Гиббса некоторых неорганических веществ / Г.К. Моисеев, H.A. Ватолин, Л.А. Маршук, Н.И. Ильина,-Екатеринбург: УрО РАН, 1997,- 231.
247. Бровко, А.П. О природе кристаллов на контактной поверхности аморфных лент сплавов (Fe,Cr)85Bi5 / А.П. Бровко, В.В. Маслов, Д.Ю. Падерно и др. // Металлофизика,- 1990.- Т. 12.-№4,- С. 116- 119.
248. Диаграммы состояний двойных и многокомпонентных систем на основе железа. Справочник /O.A. Банных, М.Е. Дрица.- М.: Металлургия, 1986.- 440 с
249. Ватолин, H.A. Термодинамическое моделирование в высокотемпературных неорганических системах / H.A. Ватолин, Г.К. Моисеев, Б.Г. Трусов.- М.: Металлургия, 1994, 352 с.
250. Моисеев, Г.К. Оценка погрешностей термодинамического моделирования, связанных с учетом неидеальности металлургических растворов / Г.К. Моисеев, Л.А. Маршук, С.К. Попов // Изв. АН СССР. Металлы.- 1987.- №6.- С.45-52.
251. Кубашевский, О. Металлургическая термохимия / О. Кубашевский, С.Б. Олкокк,-М.: Металлургия, 1982, 392 с.
252. Othmer, H.G. Nonuniquenss of equilibria in closed reacted systems / Othmer, H.G. // Chem. Eng. Sci.- 1979,- V.31.- №11.- P.993-1003.
253. Соловьев, В.А. О моделях молекулярных ассоциатов в теориях термодинамических свойств стеклообразующих расплавов / В.А. Соловьев, Е.В. Живаева, А.О. Кислюк // Физ.хим.стекла,- 1998.- Т.24,- С. 345 354.
254. Mydler, M.F. X-ray diffraction study of lead silicate glasses / M.F. Mydler, N.J. Kreidl, J.K. Hendren et al. // Phys.Chem.Glasses.- 1970,- V.l 1,- P.196-204.
255. Иодко Э.А. Термодинамически оправданные модели многокомпонентных систем / Э.А. Иодко // Высокотемпературная физическая химия и электрохимия,- Свердловск: ИЭ УНЦ АН СССР, 1965,- с.69-71.
256. Gumen, L.N. Surface segregation of interacting atoms: analytical approach, using thermodynamic model / L.N. Gumen, E.P.Feldman, V.M. Yurchenko // Surf. Sci.- 2000.-V.445.- P.526-534.
257. Bozzolo, G. Surface segregation in multicomponent systems: modeling of surface alloys and alloy surfaces / G. Bozzolo, J. Ferrante, R.D. Noebe et al. // Сотр. Mat. Sci.- 1999.-P.169-195.
258. Ossi, P.M. Surface segregation in transition metal alloys: experiment and theories / P.M. Ossi // Surf. Sci.- 1988.- №3.- L519-L532.
259. Teraoka, Y. Surface segregation and surface melting in segregating alloy / Y. Teraoka , M. Komaki // Surf. Sci.- 1999.- V.439.- P.l-13.
260. Teraoka, Y. Surface segregation and bulk phase separation in segregation alloys / Y. Teraoka, T. Seto // Surf. Sci.- 1991.- V.255.- №3,- P.209-218.
261. Гиббс, Дж. Термодинамические работы / Дж. Гиббс.- Госхимиздат, 1950.421 с.
262. Liuten, J. Segregation in ternary alloys: an interplay of driving forces / J. Liuten, S. Helfensteyn, C. Creems //Appl. Surf. Sci.- 2003,- V.212-213.- P.833-838.
263. Физическая химия неорганических материалов, т.2 / В.Н. Еременко В.Н.- Киев «Наукова думка», 1988.- 191 с.
264. Wautelet, М. Estimation on the variation of the melting temperature with the size of small particles, on the basis of a surface-phonon instability model / M. Wautelet // J. Phys. D: Appl. Phys.- 1991.- V.24.- P.343-346.
265. Иодко Э.А. Принцип «независимости» и модели реальных бинарных растворов / Э.А. Иодко // Высокотемпературная физическая химия и электрохимия.- Свердловск: ИЭ УНЦАН СССР, 1965,- с.69-71.
266. Radlein, E. Atomic force microscopy as a tool to correlate nanostructure to properties of glasses / E. Radlein, G.H. Frischat // J. Non-Cryst. Solids.- 1997.- V.222.- P.69-82.
267. Aim, H.-S. Application of phase contrast imaging atomic force microscopy to tribofilms on DLC coating / H.-S. Ahn, S.A. Chizik, A.M. Dubravin et al. // Wear.- 2001,- V.249.-P.617-625.
268. Езиков В.И., Пасишник C.B. Строение и распределение анионов в стеклах системы Pb0-PbSi03/B.H. Езиков, C.B. Пасишник//Физика и химия стекла,- 1989,- Т. 15,-№6,- С.900-911.
269. Иодко Э.А. Термодинамически оправданные модели многокомпонентных систем / Э.А. Иодко // Высокотемпературная физическая химия и электрохимия.- Свердловск: ИЭ УНЦ АН СССР, 1965.- с.69-71.
270. De Boer. Cohesion in metals. Transition metal alloys / de Boer, R. Boom, W.C.M. Mattens //NorthHolland. 1998. 761 p.
271. Radlein, E. Atomic force microscopy as a tool to correlate nanostructure to properties of glasses / E. Radlein, G.H. Frischat // J. Non-Cryst. Solids.- 1997.- V.222.- P.69-82.
272. Ahn, H.-S. Application of phase contrast imaging atomic force microscopy to tribofilms on DLC coating / H.-S. Ahn, S.A. Chizik, A.M. Dubravin et al. // Wear.- 2001.- V.249.-P.617-625.
273. Езиков В.И., Пасишник С.В. Строение и распределение анионов в стеклах системы РЬО-РЬЭЮз/ В.И. Езиков, С.В. Пасишник // Физика и химия стекла.- 1989.- Т. 15.-№6.- С.900-911.
274. Schrikhande, V.K. 29Si MAS NMR and microhardness studies of some lead silicate glasses with and without modifires / V.K. Schrikhande, V. Sudarsan , G.P. Kothiyal, S.K. Kulshreshtha // J. Non-Cryst. Solids.- 2001.- V.283.- P. 18-26.
275. Белл, P. Распределение во времени аннигиляции позитронов в жидкостях и твердых телах /Р. Белл, Р. Грэм // Аннигиляция позитронов в твердых телах,- М., 1960.-С.167-198.
276. Huges, А.Е. Positron annihilation: non-destructive tool / A. E. Huges // Curr. Eng. Pract.-1981.- V.24.-№2.- P.1-7.
277. Сандитов Д.С., Сангадиев С.Ш. Новый подход к интерпретации флуктуационного свободного объема аморфных полимеров и стекол / Д.С. Сандитов, С.Ш. Сангадиев // Высокомолек. соед.- А,- 1999.- Т.41,- №6.- С. 1-24.
278. Elsukov, Е.Р. Local atomic environment parameters and magnetic properties of disordered crystalline and amorphous iron-silicon alloys / E.P. Elsukov, G.N. Konygin, V.A. Barinov, E.V.Voronina//J. Phys.: Cond. Mater.- 1992.-Vol.4.-P.7597-7606.
279. Williams, K.F.E. Mossbauer spectra of tin in binary Si-Sn oxide glasses / K.F.E. Williams, C.E. Johnson, J.A. Johnson et al. // J. Phys.Condens. Mater.- 1995.- V.7.-P.9485-9497.
280. Самсонов, Г.В. Конфигурационная модель вещества / Г.В. Самсонов, И.Ф. Прядко, Л.Ф. Прядко.- Киев: Наукова думка, 1971.- 231 с.
281. Самсонов, Г.В. Конфигурационная модель вещества и метод ГК ЛКАО / Г.В. Самсонов, Ю.М. Горячев, Б.А. Ковенская // Конфигурационная локализация электронов в твердом теле. Киев: Наукова Думка, 1975.- с.19-25.
282. Shakhmatkin V.A., Vedishcheva N.M. Thermodynamic studies of oxide glassforming liquids by the electromotive force method / V.A. Shakhmatkin, N.M. Vedishcheva // J. Non-Cryst. Solids.- 1994.- V.171.-№1,-P.l-30.
283. Пригожин, И. Химическая термодинамика / И. Пригожин, Р. Дефей.- Новосибирск: Наука, 1966,- 508 с.
284. Анфилогов, В.Н. Силикатные расплавы / В.Н. Анфилогов, В.Н. Быков, А.А. Осипов,-Москва: Наука, 2005.- 356 с.
285. Soules, T.F. Computer simulation of glass structure / T.F. Soules // J. Non-Cryst. Solids.-1990.- Y.123.-P.48-70.
286. Wolff, D.A. A molecular dynamics study of two and three-body potential models for liquid and amorphous SiC>2 / D.A.Wolff // .http://www.cs.plu.edu/~dwolff/papers/silical999.pdf
287. Huff, N.T. Factors affecting molecular dynamic simulated vitreous silica structures / N.T. Huff, E. Demirlap, T. Cagin, W.A. Goddard//J. Non-Cryst. Solids.- 1999,- V.253.- P.133-142.
288. Вике, P.А. Воздействие температуры синтеза на структуру стеклообразной двуокиси германия / Р.А. Вике, Р.Х. Макрудер, Д.Л. Кинсер // Физ. хим. стекла,- 1998.- Т.24,-№3,- С.317-325.
289. Damadaran K.V., Rao B.G., Rao K.J. A molecular dynamic study of a PbO Si02 glass and melt / K.V. Damadaran, B.G. Rao, K.J. Rao // Phys. Chem. Glasses.- 1990,- V.31.- P.212-217.
290. Gusarov, A.I. The role of plasmon mechanism in secondary electron emission in LiF / A.I. Gusarov, S.V. Murashov // Surf. Sci.- 1994.- V.320.- P.361-368.
291. Гусева, М.Б. Физические основы твердотельной электроники / М.Б. Гусева, Е.М. Дубинина,- Изд-во МГУ, 1986,- 312 с.
292. Мурашев С.В. Вторично-электронная эмиссия некоторых широкозонных диэлектриков: дисс. канд. физ.-мат. наук. С.-Петербург, 1992.- 123 с.
293. Машков, В.А. Модель эффективных координационных состояний для свинцово-силикатных стекол / В.А. Машков // Физика и химия стекла.- 1980,- Т.6.- №3,- С.269-276.
294. Тюрин, Ю.И. Аккумулирующие свойства водорода в твердом теле / Ю.И. Тюрин, И.П. Чернов.- Научн.изд.-М.: Энергоатомиздат, 2000, 288 с.
295. Торопов, Н.А. Диаграммы состояний силикатных систем. Справочник, ч. 1 / Н.А.Торопов, В.П.Барзаковский, В.В.Лапин, Н.Н. Курцева. Л.: Наука, 1969. - 882 с.
296. Cooper, A.R. Model for multicomponent diffusion / A.R. Cooper // Phys. Chem. Glasses.-1965,-V.6.-P. 55-61
297. Cooper, A.R. The use and limitation of the concept of an effective binary diffusion coefficient for multicomponent diffusion / A.R. Cooper // in @Mass transport in oxides. Ed. J.B. Wachtman, A.D. Franklin, NBS Special publ. 1968. - V.296. - P. 79-84
298. Liang, Y. Diffusion in silicate melts: I. Self diffusion in Ca0-Al203 Si02 at 1500°C and lGPa / Y. Liang, F.M. Ritcher, A.M. Davis et al // Geochem. Cosmochim. Acta.- 1996. -V. 60.-N22.-P.4353 -4367
299. Liang, Y. Diffusion in silicate melts: II. Multicomponent diffusion in СаО-А12Оз — Si02 at 1500°C and lGPa / Y. Liang, F.M. Ritcher, A.M. Davis et al // Geochem. Cosmochim. Acta.- 1996. V. 60. - N24. - P.5021 - 5035
300. Панченков , Г.М. Химическая кинетика и катализ / Г.М.Панченков, В.П.Лебедев. М.: Химия, 1985, с. 278.
301. Торопов, Н.А. Высокотемпературная химия силикатов и других оксидных систем / Торопов Н.А., Барзаковский В.П. М., 1963.- с. 117.
302. Dudko, Y.V. ElectronObeam modification of silicate glass surfaces / Y.Y.Dudko, A.A.Kravchenko, D.I. Cheridnichenko //J. Non-Cryst Solids.- 1995,- V.188. P.87-92
303. Hobbs, L. W. The role of topology and geometry in the irradiation-induced amorphizationof network structure / L.W. Hobs // J. Non-Cryst Solids.- 1995.- V. 182.- P. 27-39
304. Майер, Дж. Методы определения профилей концентраций / Дж. Мейер, Дж. Поут, К. Ту // Тонкие пленки: взаимная диффузия и реакции. Мир, 1982
305. Технология тонких пленок. Справочник./ JI. Майссель , Р. Гмэнг-. М.: Советское радио, 1977.- гл.З.
306. Mackenzie, J.D. Physical properties of sol-gel coatings / J.D. Mackenzie, E.P. Bescher // J. Sol-Gel Sci. Techn.- 2000,- V.19.- P.23- 29.
307. Удалов, Ю.П., Германский A.M., Жабрев В.А. и др. Технология неорганический порошковых материалов и покрытий функционального назначения / Ю.П. Удалов, A.M. Германский, В.А. Жабрев В.А. и др.- С.-Петербург, 2001.- 428 с.
308. Gratz, H. Ostwald ripening: a new relations between particle growth and particle size distribution / H. Gratz // Scripta Mater.- 1997,- V.37.- №1,- P.9-16.
309. Suemitsu, M. Autocalalytic reaction model : a phenomenology for nucleation-coalescence growth of thin films / M. Suemitsu, H. Togashi, T. Abe // Thin Solid Films.- 2003.-V.428.- P.83-86.
310. Sholl, D.S. Late-stage coarsening of adlayers by dynamic cluster coalescence / D.S. Sholl, R.T. Skodje//Physica A.- 1996,-V.231.-P.631-647.
311. Sondergard, E. Production of nanostructures by self-organization of liquid Volmer-Weber films / E. Sondergard, R. Kofinan, P. Cheyssac, A. Stella // Surf. Sci.- 1996,- V.364.-P.467-476.
312. Куликов, И.С. Термодинамика оксидов / И.С. Куликов.- М.:Металлургия, 1986, 342с.
313. Фридрихсберг Д.А. Курс коллоидной химии. / Д.А.Фридрихсберг Л.: Химия. 1974. 351 с.
314. Бабанов, Ю.А. Применение метода регуляризации в задаче исправленияэкспериментальных данных на аппаратурную функцию / Ю.А. Бабанов, И.Ю. Каменский, В.Л. Кузнецов, С.С. Михайлова, П.В. Титов, A.JL Филатов // Поверхность.- 2006.- №11.- С.44-48.
315. Тихонов А.Н., Арсенин В.Я. Методы решения некорректно поставленных задач /
316. A.Н. Тихонов, В.Я. Арсенин.- М.:Наука, 1979, 285 с.
317. Яржемский, В.Г. Теория формы линий в фотоэлектронной и оже- спектроскопии/
318. B.Г. Яржемский // Журнал структурной химии.- 1998.- Т.39.- № 6.- С. 985-997.
319. Блохин М.А., Швейцер И.Г. Рентгеноспектральный справочник / М.А. Блохин, И.Г. Швейцер,- Москва: Наука. 1982. 376 с.
320. Pijpers, А.Р. / А.Р. Pijpers, R.J. Meier // J. Elect. Spect. Reí. Phenom.-1987.- V.43.-P.131.
321. Pijpers, A.P. , Donners W.A.B. / А.Р. Pijpers, W.A.B. Donners // J. Polym.Sci:, Polym. Chem.Ed.- 1985,- V. 23,- p. 453.
322. Boyen, H.-G. Systematics in the electronic structure of amorphous transition metal/tin alloys / H.-G. Boyen, G. Indelkofer, P. Oelhafen et al // Mat. Sci. Eng.- 1991.- V.A133.-P.107-110.
323. Кулькова C.E. Электронная структура и физические свойства ряда перспективных сплавов и соединений переходных металлов: дисс. докт. физ.-мат. наук, Томск, 1997.- 352 с.
324. Аветисян, А.О. Влияние давления на электрон-электронное взаимодействие в некоторых силицидах 3d- металлов / А.О. Аветисян, И.И. Белан, Ю.М. Горячев и др. // Физ. техн. высоких давлений.- 1985.- Вып.20.- С.22-25.
325. Зауличный Я.В. Рентгеноспектральное исследование электронной структуры в некоторых метастабильных фазах высокого давления: дисс. канд. физ.-мат. Наук, Львов, 1986,- 160 с.
326. Хижун, О.Ю. Особенности электронного строения германидов вольфрами и молибдена, полученных при высоком давлении / О.Ю. Хижун, Я.В. Зауличный, А.К. Синельченко и др. // Металлофизика и новые технологии,- 1994.- Т.16.- №7.- С.19-27.
327. Гришков, В.Н. Влияние гидростатического давления на электронную структуру и объемные изменения сплавов на основе никелида титана / В.Н. Гришков, С.Е.Кулькова // ФТТ,- 1996.- Т.38,- №9,- С.2631-263.
328. Багдыкъянц, Г.О. Стеклообразное состояние. / Г.О. Багдыкъянц, А.Г. Алексеев Изд-во АН СССР. М.-Л.Д960, 226 с.
329. Основное содержание работы изложено в следующих пу б л и кациях.
330. А1. Канунникова, О.М. Методы фотоэлектронных исследований неорганических материалов. Учебное пособие./ О.М. Канунникова, Ф.З. Гильмутдинов, В.И. Кожевников, В.А. Трапезников Изд-во Удм. ун-та, 1992- 249 с.
331. A3. Канунникова О.М. Исследование строения тонких силикатных пленок методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и атомной силовой микроскопии / О.М. Канунникова// Перспективные материалы.- 2006.- № 6.- С.88-92.
332. А 4. Канунникова, О.М. Методика анализа строения тонких силикатных пленок О.М. Канунникова // http://zhumal.ape.relarn.rU//articles/2006/225.pdf
333. А5. Канунникова, О.М. Строение тонких силикатных пленок: РФЭС и АСМ анализ / О.М. Канунникова, С.Ф. Ломаева // Нано- и микросистемная техника.- 2007.- №1.-С.14-17.
334. А6. Канунникова, О.М. Строение тонких пленок свинцовосиликатных двойных и многокомпонентных стекол на металлах / О.М. Канунникова, Ф.З. Гильмутдинов, С.Ф. Ломаева, О.Ю. Гончаров // Стекло и керамика.- 2003.- Т.З.- С.28-32.
335. А7. Гончаров, О.Ю. Состав поверхностных слоев, образующихся при получении аморфного сплава Fe7oCri5Bi5 / О.Ю. Гончаров, О.М. Канунникова, С.Ф. Ломаева, А.А. Шаков // Физика металлов и металловедение.- 2001.- Т.91,- №6.- С.64-71.
336. А9. Гильмутдинов, Ф.З. Прогнозирование изменений состава поверхности многокомпонентных сплавов при термических воздействиях / Ф.З. Гильмутдинов, О.М. Канунникова // Физика металлов и металловедение.- 1997. Т.84.- Вып.2. - С. 78-88.
337. А 10. Сорокина, М.Ф. Исследование структуры двойных свинцовосиликатных стеколметодом рентгеноэлектронной спектроскопии / М.Ф. Сорокина, О.М. Канунникова, Ф.З. Гильмутдинов, В.И. Кожевников // Стекло и керамика.- 1996,- №.1-2.- С. 12-14.
338. All. Канунникова, О.М. Влияние механических воздействий на электронную структуру порошков Fe-Sn / О.М. Канунникова, Ф.З. Гильмутдинов, Д.А. Королев, В.Я. Баянкин, В.А. Трапезников// Изв. ВУЗов: Цветная металлургия. 2000.- №6.- С. 2832.
339. А 12. Ильин, И.А. Применение термодинамического анализа для оценки содержания структурных составляющих свинцово-силикатных стекол / И.А. Ильин, О.Ю. Гончаров, О.М. Канунникова // Химическая физика и мезоскопия. 2006. - №4.- С. 398-410
340. Al5. Канунникова, О.М. Фотоэмиссионое исследования порошков Fe(l-x)Sn(x) / О.М.Канунникова, Ф.З.Гильмутдинов, Е.П.Елсуков // Перспективные материалы. -1996,-№6.- С.71-64
341. AI6. Канунникова, O.M. Влияние обработки на состав поверхностного слоя и результаты восстановления свинцово-силикатных стекол / О.М. Канунникова, Ф.З. Гильмутдинов, В.И.Кожевников, М.Ф. Сорокина // Стекло и керамика.- 1995.- №8.-С. 11-13.
342. А17. Сорокина, М.Ф. Рентгеноэлектронное исследование восстановления свинцово-силикатных стекол при нагреве в водороде / М.Ф. Сорокина, О.М. Канунникова, Ф.З. Гильмутдинов, В.И. Кожевников // Неорг. матер. -1997.- Т. 33.- №5.- С. 621-626.
343. AI 8. Kanunnikova, О.М. Interaction of lead silicate glasses with hydrogen under heating / O.M. Kanunnikova, F.Z. Gilmutdinov, A.A. Shakov // Int. Journal of Hydrogen Energy. 2002,-V.27.- P.783-791.
344. A19. Канунникова, О.М. Механизм восстановления свинцовосиликатных стекол в водороде / О.М. Канунникова // Хим. физика и мезоскопия. 2003.- Т.5.- №1. - С. 1 Ollis.
345. А 20. Канунникова, О.М. Взаимодействия свинцово-силикатных стекол с водородом при нагреве. I.Химические превращения в системе РЬО- ЭЮг-Нг / О.М. Канунникова, О.Ю. Гончаров // Физика и химия обработки материалов,- 2005. №6.- С.62-66.
346. А 21. Канунникова, О.М. Особенности строения золь-гель силикатных пленок,легированных Мп и Pt / О.М. Канунникова, С.С. Михайлова, А.Е. Муравьев, О.Ю. Гончаров, O.A. Шилова, Ю.З. Бубнов // Физика и химия стекла. 2006. - Т.32,- №2.-С.316-325.
347. А 25. Канунникова, О.М. Влияние бомбардировки ионами аргона на состав и структуру поверхностного слоя свинцовосиликатных стекол / О.М. Канунникова// Физика и химия обработки материалов,- 2007.-№3.-С.8-12
348. А 26. Канунникова, О.М. Взаимодействие свинцовосиликатных стекол с водородом при нагреве / О.М.Канунникова, Ф.З. Гильмутдинов, A.A. Шаков // Труды международной конференции «Водородная обработка материалов. Донецк.-2001, 4.1. С.270-273.
349. А 28. Канунникова О.М. Рентгеноэлектронное исследование тонких пленок свинцовосиликатных стекол / О.М. Канунникова, Ф.З. Гильмутдинов, В.И. Кожевников, М.Ф. Сорокина // Стекло и керамика. 1995. - №12. - С. 9-10.
350. А 29. Кожевников, В.И. Исследование причин брака алюминиевых зеркал на силикатных стеклах / В.И. Кожевников, Ф.З. Гильмутдинов, О.М. Канунникова //Стекло и керамика.- 2002.- Т.8.- С.27-28.
351. А 30. Канунникова, О.М. Состав и строение тонких пленок меди, золота и алюминия на силикатном стекле / О.М. Канунникова, О.Ю. Гончаров, Ф.З. Гильмутдинов, С.Ф. Ломаева // Стекло и керамика. 2002. - Т.10. - С.29-31.
352. А 31. Канунникова, О.М. Состав и строение тонких пленок Si02 / О.М. Канунникова, С.Ф.Ломаева, А.А.Шаков, Ф.З.Гильмутдинов // Стекло и керамика. 2003. - Т.2. -С.24-29.
353. А 32. Канунникова, О.М. Влияние режимов получения на состав и строение золь-гель силикатных пленок, легированных платиной/ О.М. Канунникова, А.Е.Муравьев, С.С.Михайлова, О.А.Шилова, Ю.З.Бубнов //Химическая физика и мезоскопия.-2006,- Т.4.- С.421-440.
354. А 33. Канунникова, О.М. РФЭС и АСМ исследования состава и строения золь-гель силикатных пленок, легированных платиной / О.М.Канунникова, А.Е. Муравьев, С.С. Михайлова // Стекло и керамика. 2007. - №6. - С. 19-24.
355. А 34. Канунникова, О.М. Состав и строение легированных платиной силикатных пленок, полученных золь-гель методом / О.М.Канунникова, А.Е.Муравьев, С.С.Михайлова // Перспективные материалы. 2007. - №5. - С.47-52
356. А 36. Гильмутдинов, Ф.З. Дефекты алюминиевых покрытий на силикатных стеклах / Ф.З. Гильмутдинов, В.И. Кожевников, О.М. Канунникова // Стекло и керамика. 2001. -Т.5. - С.23-25.
357. А 37. Канунникова, О.М. Состав и строение тонких алюминиевых пленок на силикатных стеклах / О.М.Канунникова, В.И.Кожевников, О.Ю.Гончаров // Химическая физика и мезоскопия. 2008. -№1. - С.63 - 68.
358. А 39. Канунникова, О.М. Строение двойных свинцово-силикатных стекол / О.М.Канунникова. // Химическая физика и мезоскопия. 2003. - Т.5. - №1. - С.81-101.
Обратите внимание, представленные выше научные тексты размещены для ознакомления и получены посредством распознавания оригинальных текстов диссертаций (OCR). В связи с чем, в них могут содержаться ошибки, связанные с несовершенством алгоритмов распознавания. В PDF файлах диссертаций и авторефератов, которые мы доставляем, подобных ошибок нет.