Послойный синтез и исследование нанослоев неорганических соединений, содержащих анионы вольфрамовой, фосфорновольфрамовой или кремневольфрамовой кислот тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.21, кандидат химических наук Семищенко, Константин Борисович

  • Семищенко, Константин Борисович
  • кандидат химических науккандидат химических наук
  • 2012, Санкт-Петербург
  • Специальность ВАК РФ02.00.21
  • Количество страниц 132
Семищенко, Константин Борисович. Послойный синтез и исследование нанослоев неорганических соединений, содержащих анионы вольфрамовой, фосфорновольфрамовой или кремневольфрамовой кислот: дис. кандидат химических наук: 02.00.21 - Химия твердого тела. Санкт-Петербург. 2012. 132 с.

Оглавление диссертации кандидат химических наук Семищенко, Константин Борисович

Содержание

Введение

I. Обзор литературы

1.1. Химические свойства и основные области применения полиоксометаллатов

1.2. Закономерности адсорбции ионов на границе раздела твердое тело -раствор

1.3. Методы "послойного" синтеза нанослоев с использованием растворов реагентов

1.4. Фотохимические реакции и их применение для создания фотохимически

самоочищающихся поверхностей

II. Экспериментальная часть

2.1. Методическая часть

2.1.1. Анализ оптимальных условий послойного синтеза неорганических

' соединений с использованием компьютерных программ расчета равновесий в растворах

2.1.2. Методики стандартизации поверхности подложек

2.1.3. Методики приготовления растворов

2.1.4. Методики синтеза нанослоев

2.1.5. Методики исследования синтезированных слоев

2.2. Экспериментальные результаты и их обсуждение

2.2.1. Синтез нанослоев гидратироеанных оксидов титана (IV) и церия (IV) и фосфата лантана методом коллоидного наслаивания

2.2.1.1. Синтез и исследование нанослоев ТЮ211Н2О и Т102-х2г02-пН20 (х = 0 - 0,5)

2.2.1.2. Синтез и исследование нанослоев СеОгпНгО

2.2.1.3. Синтез и исследование нанослоев ЬаРО^пНгО

2.2.2. Синтез методом ионного наслаивания нанослоев, содержащих анионы гетерополикислоты и катионы комплексного соединения с лигандами CS(NH2)2 илиЫН3

2.2.2.1. Синтез исследование нанослоев 3Ag2(tu)4-2(PWi204o)'nH20

2.2.2.2. Синтез исследование нанослоев 2Ag2(tu)4-SiWi204o'nH20

2.2.2.3. Синтез и исследование нанослоев Pd(tu)3)5-6W0x-nH20

2.2.2.4. Синтез и исследование нанослоев Co(NH3)6-HSiWi204o-nH20

2.2.3. Синтез методом ионного наслаивания нанослоев, содержащих анионы волъфрамата (молибдата) и катионы Се4+, Zr4+ илиН/+

2.2.3.1. Синтез и исследование нанослоев Ce0,8WOx-nH2O

2.2.3.2. Синтез и исследование нанослоев MWxMoyOz-nH20 (M-Zr4+, Uf+)

2.2.4. Синтез методом ионно-коллоидного наслаивания слоев нанокомпозитов, содержащих анионы изо- или гетерополиволъфрамата и коллоидные частицы гидратированного оксида (гидроксида) металла

2.2.4.1. Синтез и исследование нанослоев a!-Fe203-(HxPWi204o)o,o2'nH20

2.2.4.2. Синтез и исследование нанослоев InOOH-(HxSiWi204o)o,o3"iiH20

2.2.4.3. Синтез и исследование нанослоев SnO2-Au00,6- (HxPWi204o)o,o4,nH20

2.2.4.4. Синтез и исследование нанослоев TiO2-(HxWOy)0;5-nH2O

2.2.4.5. Обсуждение результатов, полученных в разделе 2.2.4

2.3. Примеры применения синтезированных слоев для решения прикладных

задач

III. Основные результаты и выводы

Список использованной литературы

Рекомендованный список диссертаций по специальности «Химия твердого тела», 02.00.21 шифр ВАК

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Послойный синтез и исследование нанослоев неорганических соединений, содержащих анионы вольфрамовой, фосфорновольфрамовой или кремневольфрамовой кислот»

Введение

Послойный синтез тонкослойных структур на основе нанослоев металл-кислородных соединений является важной задачей препаративной химии твердых веществ, поскольку они находят практическое применение при создании различных изделий в микро- и наноэлектронике, ионике, в качестве сорбентов, ионообменников, электрохромных покрытий, электрохимических сенсоров, и т.д. Особое место среди металл-кислородных соединений занимают изо- и гетерополиоксометаллаты, в том числе вольфрам-содержащие, которые являются хорошими протонными проводниками, эффективными катализаторами окисления органических соединений и т.д.

В последнее время, как известно, при проведении подобных синтезов все большее применение находят методы ионного (ИН), ионно-коллоидного (ИКН) и коллоидного наслаиваний (КН), основанные на проведении на поверхности подложки в растворах последовательных и необратимых актов, соответственно, адсорбции катионов и анионов, катионов или анионов и адагуляции коллоидных частиц или только коллоидных частиц, которые после взаимодействия образуют на поверхности нанослои труднорастворимых соединений. Однако, как показали первые опыты, синтез данными методами слоев, содержащих анионы изо- и

гетерополиоксометаллатов, в частности, вольфраматов, имеет ряд особенностей, связанных с отсутствием у данных соединений необходимого числа реакционно-способных функциональных групп. В этой связи, представляет интерес разработка новых подходов к послойному синтезу таких соединений, а также нанослоев других оксидов металлов, например Т1О2, СеОг и ряда других, которые могли бы быть матрицей-носителем при получении мультинанослоев, содержащих полиоксометаллаты вольфрама.

В качестве подложек при синтезе были выбраны полированные пластины плавленого кварца и монокристаллического кремния, которые, с одной стороны, являются удобными объектами для исследования различными

физико-химическими методами, а, с другой - имеют сравнительно хорошо изученную химию поверхности.

Данная работа выполнена в рамках госбюджетной темы "Неорганическое материаловедение: направленный синтез и исследование кристаллических, аморфных и наноструктурированных материалов различного функционального назначения" (№ 12.0.103.2010) и гранта РФФИ "Тонкослойные структуры новых гибридных изо- и полиоксометаллатов, синтезированные по схеме "слой-за-слоем" как основа для создания новых функциональных материалов" (№ 08-03-00390-а).

Целью настоящей работы являлось создание с использованием методологии послойного синтеза новых функциональных металл-кислородных покрытий, содержащих в своем составе оксо-анионы вольфрамовой, фосфорно-или кремневольфрамовой кислот, а также новых способов синтеза слоев гидратированных оксидов титана (IV), церия (IV) и фосфата лантана, которые бы могли выполнять роль подложек-матриц при синтезе слоев изо- и гетерополивольфраматов.

ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ

1.1. Химические свойства и основные области применения полиоксометаллатов

Полиоксометаллаты (ПОМ), как известно, обладают рядом уникальных физических и химических свойств, вступая в химические реакции как отдельные лабильные "строительные" блоки и, в этой связи, они находят применение при получении новых неорганических и гибридных неорганических и органических наноматериалов. Интерес к синтезу и изучению ПОМов появился после публикации фундаментальных монографий Е. Никитиной [1], М. Попа [2] и ряда обзоров [3,4], в которых описываются история их открытия, развитие представления о химической природе и примеры применения в различных областях. Следует отметить, что количество публикаций, посвященных изучению этих соединений, увеличивается из года в год (рис. 1). К настоящему времени открыто такое множество неорганических соединений, содержащих ПОМы, что их структурное и функциональное разнообразие уже сравнимо с разнообразием белков [5].

800 -

700 -

600 -

500

в

X X 400

Ч к© 300 -

^

о а 200

н

-

м> 8

Ч

О Ы 100 _

«

с о

©е

80

70 __

1990 1995 2000 2005 2010 Год издания

Рис. 1. Количество статей, посвященных изучению ПОМов, изданных в период с 1990 по 2011 годы [6].

Классификация полиоксометаллатов. Существуют тысячи соединений, попадающих в категорию ПОМов и состоящих из металл-кислородных полиэдров, "упакованных" различными способами. Таким образом, полиоксометаллаты - это соединения с общей формулой [XxMmOy]("q), где:

- X = гетероатом: В, Al, Si, Ge, Р, As, Fe, Mn, Co, Cu, Zn;

- M = "связывающие" (linker) атомы Mo, W, V, Та, Nb, Os, соединенные с

гетероатомом через атом кислорода;

- q = заряд, который варьируется от -3 до -28.

При этом «связывающий» атом отвечает следующим условиям:

- высокий заряд (+5 или +6) и небольшой размер,

- ионный радиус в диапазоне 0,53 А - 0,70 А,

- высокое координационное число от 4 до 6,

- способность образовывать двойные связи с атомами кислорода.

Основными структурными элементами, из которых построены

кристаллические гетерополисоединения (ГПС), являются октаэдрические группы МОб- Атомы металла (М) находятся в центре октаэдров, атомы кислорода - в их вершинах. Для изображения структуры ГПС используют обычно идеальный октаэдр, хотя, судя по подробным рентгеноструктурным данным, такие октаэдры искажены [7]. Классифицируя полиоксометаллаты по структуре, их можно разделить на 3 основные типа:

Гетерополианионы- металл-оксидные кластеры, включающие в себя

9

гетероанионы, такие как SO4 " и РО4 В настоящий момент это наиболее изученный тип ПОМов, и для них проведены обширные исследования каталитических свойств. Особое внимание уделено соединениям, имеющим строение гетерополианиона типа Кеггина [ХМ1204о]п" (рис. 2) и Доусона [Х2М1в0б2]п (рис. 3), где М = W, Мо. Вольфрамсодержащие гетерополианионы являются высокоустойчивыми соединениями, и это их свойство было использовано при получении анионов с вакантными позициями - так называемых лакунарных полиоксометаллатов [8] состава {Mi2_n},{Mi8„n}.

Структура Кеггина представляет собой центральный тетраэдр ХО4, окруженный 12 октраэдрами сгруппированными в четыре триплета

\V3O13, состоящих из трех соединенных ребрами октаэдров (рис. 2). Четыре группы \V3O13 соединены друг с другом и с центральным тетраэдром Х04 вершинами.

Из-за сильного электростатического отталкивания атомы металла в комплексе смещены от центра октаэдров, давая искаженные структуры с характерными укороченными связями М=0, что и обусловливает взаимодействие сразу нескольких октаэдров. В целом структура Кеггина характеризуется наличием 12 укороченных связей М=0, 12 почти линейных связей М-О и 12 мостиковых связей М-О-М. Наибольшими расстояниеми между атомами являются: расстояние М-0 (0,22 - 0,23 нм), а также между атомами металла и атомом кислорода, которой связывает их с центральным атомом. Длина последней связи зависит от размера центрального атома.

Рис. 2. Структура Кеггина для полиоксометаллата состава НзРЛУ^Одо- В центре заштрихован тетраэдр [Р04], остальное - октаэдры [\\Юб "] [9].

Существуют также многоядерные ПОМы, из которых наиболее известными является структура Доусона, содержащая по 2 гетероатома неметалла. Структура данных полиоксометаллатов аналогична структуре Кеггина и составлена из тетраэдров ХО4 и октаэдров МОб.

Рис. 3. Структура Доусона для полиоксометаллата Н^Рг^^вОбг-Заштрихованы тетраэдры [РО4], остальное - октаэдры [\\Юб] [10].

Изополианионы состоят из металл-кислородных фрагментов, но без гетероатомов. В результате они часто менее стабильны, чем их гетерополианионные аналоги [11]. Высокий заряд и большое количество атомов кислорода на поверхности иона позволяют использовать их в качестве строительных блоков при синтезе тонкослойных структур [12].

Рис. 4. Схематичное изображение строения полиоксованадата состава Ую0286"[13].

Одними из наиболее изученных изополианионов являются поливольфраматы. При подкислении растворов моновольфраматов в результате поликонденсации анионов \¥042" образуются анионы изополивольфраматов

(рис. 5). Их структура построена из октаэдров WOб, соединенных вершинами или ребрами.

е -з О

О -4

1111 i I / 40- / Щг^т /

Ш 0 / н 11 / Т^^о^он)6 "

"* / шо4г"

Похожие диссертационные работы по специальности «Химия твердого тела», 02.00.21 шифр ВАК

Заключение диссертации по теме «Химия твердого тела», Семищенко, Константин Борисович

Основные результаты и выводы

1. Предложены новые подходы к синтезу нанослоев методом КН, один из которых основан на адагуляции на поверхности подложки коллоидных частиц реагента с последующим их деструкционно-эпитаксиальным превращением в растворе, содержащем анион, образующий с одним из компонентов коллоидной частицы труднорастворимое соединение, а второй - на последовательной и многократной адагуляции на поверхности подложки на одной из стадий КН коллоидных частиц гидроксида металла, стабилизированных путем адсорбции соединений с рН осаждения большим, чем рН осаждения гидроксида металла, образующего коллоидные частицы.

2. Найдены и экспериментально обоснованы условия послойного синтеза методом КН нанослоев ТЮ2-пН20, ЬаР04пН20 и Се02-пН20 с использованием в качестве реагентов, соответственно, коллоидного раствора Т1(ОН)3 и раствора №1Ч02, коллоидного раствора гидроксида лантана и раствора ЫаН2Р04, коллоидного раствора Се(ОН)3 и раствора Н202 (ОН"). Установлено, что введение в коллоидный раствор Т1(ОН)3 соли 2гОС12 дает возможность получить слой ТЮ2-х7г02-пН20 (х = 0 - 0,5).

3. В качестве реагентов при синтезе методом ИН могут быть использованы комплексы тиомочевины с катионами металлов и растворы полиоксометаллатов. Так, в результате синтеза с участием растворов комплексов тиомочевины с катионами и Рс1 и растворов Н3Р\У1204о, Н481\У12О40 или поливольфрамовой кислоты на поверхности образуются, соответственно, нанослои ЗAg2(tu)4-2(PWl204o)nH20, 2А§2(Ш)4- 81\У12О40'пН2О или Р(1(Ш)3;5-6\¥0хпН20.

4. При взаимодействии растворенных [Со(1ЧН3)6]С13 и Н481\У1204о образуется коллоидный раствор, который может быть использован в процессе синтеза по методике ИКН слоев Со(>1Н3)6-Н81\¥1204о-пН20, состоящих из наностержней диаметром 20-30 и длиной 300 и более нанометров и имеющих кристаллическую структуру.

5. Найдены условия послойного синтеза нанокомпозитов а-Ре2Оз-(НхР\У1204о)о,02-пН20, InOOH-(HxSiW1204o)o,oз•nH20, 8пО2-Аи00)б-(Н^1204о)о,о4-пН20 и TiO2-(Hxwoy)0)5•nH2O, состоящих из наночастиц гидроксида (оксида) металла и анионов изо- или гетерополивольфраматов.

6. На примере синтеза слоев 2г\УхМоу02-пН20 и Н^хМОуО^пНгО показана возможность синтеза методом ИН слоев, в состав которых входят оксометаллаты нескольких элементов.

7. Показана эффективность применения слоев Со(КНз)б-Н81\¥12О40,пН2О в качестве резистивных элементов электропроводных сенсоров влажности, слоев ТЮ2-(Нх\\Юу)о,5"пН20 - электрохромных, а слоев ТЮ2 - супергидрофильных и фотокаталитических покрытий.

Список литературы диссертационного исследования кандидат химических наук Семищенко, Константин Борисович, 2012 год

Список использованной литературы

1. Никитина Е.А. / Гетерополисоединения. М. Госхимиздат. 1962. 454 с.

2. Pope М.Т. / Heteropoly and Isopoly Oxometalates. 1983. Springer Verlag. 190 p.

3. Pope M. Т., Muller A. // Angew. Chem. 1991. V. 103. p. 56.

4. Hill C. L. // Chem. Rev. 1998. V. 98. p. 1.

5. Muller A., Todea A. M., J. van Slageren, and all. // Angew. Chem. 2005. V. 117. p. 3925.

6. Long De-Liang, Tsunashima Ryo // Angew. Chem. Int. Ed. 2010. V. 49. p. 1736.

7. Пушкарев B.B., Никифоров А.Ф. / Сорбция радионуклидов солями гетерополикислот. М.: Энергоатомиздат. 1982. 112 с.

8. Cronin L. // Comprehensive Coordination Chemistry II. 2004. Vol. 7. p. 1.

9. Bailar J.C. // The Chemistry of the Coordination Compounds. Reinhold Publishing Corporation. 1956. p. 472.

10. Yan J., Long D.-L. // Angew. Chem. 2009. V. 121. p. 4440.

11. Long D.-L., Kugerler P., Farrugia L. J., Cronin L. // Angew. Chem. 2003. V. 115. p. 4312.

12. Long D.-L., Cronin L. // Chem. Eur. J. 2006. V. 12. p. 3698.

13. Johnson G., Murmann R. K. // Inorganic Syntheses. 2007. V. 19. p.140.

14. Sillen Lars / Stability constants of metal-ion complexes. 1964. London, Chemical Society. 754 p.

15. Bruedgam I., Fuchs J., Hartl H. // Angew. Chem. Int. Ed. 1998. V. 37. p. 2668.

16. Muller A., Krickemeyer E., Meyer J., and al. // Angew. Chem. 1995. V. 107. p. 2293.

17. Muller A., Krickemeyer E., Schimidtmann M. // Angew. Chem. 1998. V. 110. p. 3567.

18. Long De-Liang, Burkholder Eric, Cronin Leroy // Chem. Soc. Rev. 2007. V. 36. p. 105.

19. Добровольский Ю.А., Атовмян JI.O. // Физическая химия. 2006. Т. 20. № 6. с. 95.

20. Toshio Okuhara, Noritaka Mizuno and Makoto Misono // Applied Catalysis A : General. 200l.V. 222. p. 63.

21. Alhanash A., Kozhevnikova E. F., Kozhevnikov I. V. // Catal.Lett. 2008. V. 120. p. 307.

22. Sartorel A., Carraro M. and all. // J. Am. Chem. Soc. 2008.V. 130. p. 5006.

23. Mirkhani V., Moghadam M., Tangestaninejad S. // Catal. Commun. 2008. V. 9. p. 2171.

24. Niu J.Y., You X.Z., Duan C.Y. // Inorg.Chem. 1996. V. 35. p. 4211.

25. Peng J., Wang E.B. // J. Chem. Soc. Dalton Trans. 1998. p. 3865

26. Bi LiHua, Wang EnBo // Inorganica Chimica Acta. 2000. No. 305. p. 163.

27. Mizuno N., Yamaguchi K. // Chem. Rec. 2006. V. 6. p. 12.

28. Carraro M., Sartorel A. // Synthesis. 2008. p. 1971.

29. Ogata A., Yanagie H. and all. // Br. J. Cancer 2008. V. 98. p. 399.

30. Yanagie H., Ogata A., Mitsui S. // Biomed. Pharmacother. 2006. V. 60. p. 349.

31. Алесковский В.Б. / Химия надмолекулярных соединений. СПб.: Изд. СПбГУ. 1996. 256 с.

32. Душина А.П., Алесковский В.Б. / Силикагель - неорганический катионит. Л.: Изд. ЛТИ им. Ленсовета, 1963, 81 с.

33. Adamson A.W. / Physical Chemistry of Surfaces. New York: Wiley. 1990. 664 p.

34. Stumm W. / Chemistry of the solid-water interface: Processes at the mineral-water and particle-water interface in natural systems. New York: Wiley. 1992. 428 p.

35. Карпов И.К. / Компьютерное моделирование физико-химических процесов в геохимии. Н.: Наука. 1981. 247 с.

36. Harland С.Е. / Ion Exchange: Theory and Practice. Letchwords: The Royal Society of Chemistry. Turpin Distribution Services Limited. 1994. 420 p.

37. Кокотов Ю.А. / Иониты и ионный обмен. Л.: Химия. 1980. 240 с.

38. Воюцкий С. / Курс коллоидной химии. М.: Химия. 1976. с. 242.

39. Никольский Б. П. / Физическая химия. Л.: Химия. 1987. 880 с.

40. Davis A.P. / Encyclopedia of Surface and Colloid Sci. NY.: Marcel Dekker Ink. 2002. P. 440.

41. Фридрихсберг Д.A. / Курс Коллоидной химии. 1984. Jl.:. Химия. 247 с.

42. Фрог Б.Н., Левченко А.П. // Водоподготовка: Учебное пособие. 1996. М.: Издательство МГУ. 680 с.

43. Tarlani Aliakbar, Abedini Mansour, Nemati Ali // Journal of Colloid and Interface Science. 2006. V. 303. p. 32.

44. Sidorchuk V. V., Zazhigalov V. A., Aleksandrova V. S. // Russian Journal of Applied Chemistry. 2007. V. 80. № 7. p. 1073.

45. Johnson Bret J. S., Stein Andreas // Inorg. Chem. 2001. V. 40. p. 801.

46. Blasco Т., Corma A., Martinez A., Martinez-Escolano P. // J. Catal. 1998. V. 177. p. 306.

47. Kulikov S. M., Timofeeva M. N., Kozhevnikov I. V. // Physical Chemistry Izvestiya Akademii Nauk SSSR, Seriya Khimicheskaya. 1989. № 4. p. 763.

48. Keita В., Nadjo L. // J. Electroanal. Chem. 1985. V. 191. p. 441.

49. Izumi Y., Hasebe R, and Urabe K. // J. Catal. 1983. V. 84. p. 402.

50. Edne'ia Caliman, Jose' A. Dias // Catalysis Today. 2005. V.107-108. p. 816.

51. Liu Shaoqin, Volkmer Dirk // Journal of Cluster Science. 2003. Vol. 14. № 3. p. 2250.

52. Yonghui Wang, Xinlong Wang // Journal of Colloid and Interface Science. 2002. V. 249. p. 307.

53. Кольцов С.И., Алесковский В.Б. // Журнал прикладной химии. 1969. Т. 42. С. 1950.

54. Кольцов С.И. // Журнал прикладной химии. 1969. Т. 42. С. 1023.

55. Кольцов С.И. // Журнал прикладной химии. 1970. Т. 43. С. 1956.

56. Алесковский В.Б. // Журнал прикладной химии. 1974. Т. 47. С. 2145.

57. Suntola Т. // Mater. Sci. Rep. 1989. V. 4. P. 261.

58. Толстой В.П. // Успехи химии. 2006. Т. 75. Вып. 2. с. 183.

59. Толстой В.П. // Журнал общей химии. 2009. Т. 79, С. 1952.

60. Кольцов С.И., Алесковский В.Б. и др. // Практикум по химии твердых веществ. Л. 1985. 280 с.

61. Малыгин А.А. // Журнал прикладной химии. 1996. Т. 69. С. 1585.

62. Малыгин А.А. // Журнал общей химии. 2002. Т. 72. С. 617.

63. Leskela М., Niinisto L., Atomic layer Epitaxy / Ed. by Suntola T. and Simpson M. London: Blackie and Son. 1990. P. 4.

64. Suntola Т., Hyvarinen S. //Annu. Rev. Mater. Sci. 1985. V. 15. P.177.

65. Ritala M., Leskela M. Handbook of Thin Films materials / Ed. by Nalwa H.S. San Diego: Academic Press. 2002. V.l. 103 p.

66. Malygin A.A. // Compos. Interfaces. 1998. V. 5. P. 561.

67. Малыгин A.A. // Российские нанотехнологии. 2007. Т. 2. С. 87.

68. Пак В.Н., Вентов Н.Г., Кольцов С.И. // Теоретическая и Экспериментальная Химия. 1974. Т. 10. С. 711.

69. Brei V.V., Kasperskii V.A., Gulyanitskaya N.E. // React. Kinet. Catal. Lett. 1993. V. 50. P. 415.

70. Гунько B.M. // Кинетика и Катализ. 1993. Т. 34. С. 463.

71. Кольцов С.И., Волкова А.Н., Алесковский В.Б. // Журнал Прикладной Химии. 1969. Т. 42. С. 1028.

72. Кольцов С.И., Дрозд В.Е., Редрова Т.А., Алесковский В.Б. // Доклады АН СССР. 1977. Т. 235. С. 1090.

73. Алесковский В.Б., Дрозд В.Е., Киселев В.Ф., Кольцов С.И., Кольцов И.С., Петров А.С., Плотников Г.С. // Физика и Техника Полупроводников. 1979. Т. 13. С. 1397.

74. Толмачев В.А., Окатов М. А. // Оптико-Механическая Промышленность. 1983. Т. 50. С. 38.

75. Цветкова М.Н., Пак В.Н., Малыгин А.А., Кольцов С.И. // Неорганические материалы. 1984. Т. 20. С. 144.

76. Петрова Л.И., Малков А. А., Малыгин А.А. // Журнал Прикладной Химии. 1986. Т. 59. С. 1224.

77. Малыгин A.A., Волкова А.Н., Кольцов С.И., Алесковский В.Б. // Журнал Общей Химии. 1972. Т. 43. С. 1436.

78. Hanke W., Bienert R, Jerschkewitz H.-G. // Z. Anorg. Allg. Chem. 1975. V. 414. P. 109.

79. Hanke W., Heise K., Jerschkewitz H.-G., Lischke G., Ohlmann G., Parlitz B. // Z. Anorg. Allg. Chem. 1978. V. 438. P. 176.

80. Aleskovski V.B., Drozd V.E. // Acta Polytech. Scand. 1990. V. 195. P. 155.

81. Choi S.W, Jang C.M, Kim D.Y, Ha J. S, Park H.S,Koh W, Lee C. S. // J. Korean Phys. Soc. 2003. V. 42, P. 975.

82. Yun S.J, Lim J.W, Lee J.-H. // Electrochem. Solid-State Lett. 2004. V. 7. P. 13.

83. J.W. Lim and Yun S.J. // Electrochem. Solid-State Lett. 2004. V. 7. F45.

84. Lujala V, Skarp J, Tammenmaa M, Suntola T. // Appl. Surf. Sei. 1994. V. 82/83. P. 34.

85. Sang B, Konagai M. // Jpn. J. Appl. Phys. Part 2. 1996. V. 35. L602.

86. Saito K, Watanabe Y, Takahashi K, Matsuzawa T, Sang B, Konagai M. // Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 1997. V. 49. P. 187.

87. Yamada A, Sang В, Konagai M. // Appl. Surf. Sei. 1997. V. 112. P. 216.

88. Sang B, Yamada A, Konagai M. // Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 1997. V. 49. P. 19.

89. Sang В, Yamada A, Konagai M. // Jpn. J. Appl. Phys. Part 2. 1998. V. 37. L1125.

90. Sang B, Dairiki K, Yamada A, Konagai M. // Jpn. J. Appl. Phys. Part 1. 1999. V. 38. P. 4983.

91. Chaisitsak S, Sugiyama T, Yamada A, Konagai M. // Jpn. J. Appl. Phys. Part 1. 1999. V. 38. P. 4989.

92. Yamada A, Konagai M. // Solid State Phenom. 1999. V. 67/68. P. 237.

93. Ott A.W, Chang R.P.H. // Mater. Chem. Phys. 1999. V. 58. P. 132.

94. Shimizu A, Chaisitsak S, Sugiyama T, Yamada A, Konagai M. // Thin Solid Films. 2000. V. 361/362. P. 193.

95. Yousfi E.B., Fouache J., Lincot D. // Appl. Surf. Sei. 2000. V. 153. P. 223.

96. Aarik J., Aidla A., Jaek A., Leskela M., Niinisto L. // Appl. Surf. Sei. 1994. V. 75. P. 33.

97. Tammenmaa M., Antson H., Asplund M., Hiltunen L., Leskela M., Niinisto L., E. Ristolainen // J. Cryst. Growth. 1987. V. 84. P. 151.

98. Reijnen L., Meester B., Goossens A., Schoonman J. // J. Phys. 2001. V. 11. P. 1103.

99. Puurunen R.L., Root A., Haukka S., Iiskola E.I., Lindblad M, Krause A.O.I. // J. Phys. Chem. B. 2000. V. 104. P. 6599.

100. Puurunen R.L., Lindblad M., Root A., Krause A.O.I. // Phys. Chem. Chem. Phys. 2001. V. 3.P. 1093.

101. Jokinen J., Haussalo P., KeinonenJ., Ritala M., Riihela D., Leskela M. // Thin Solid Films. 1996. V. 289. P. 159.

102. Mayer T.M., Rogers J.W., Michalske T.A. // Chem.Mater. 1991. V. 3. P. 641.

103. Bartram M.E., Michalske T.A., Rogers J .W., Paine R.T. // Chem. Mater. 1993. V. 5. P. 1424.

104. Liu H., Bertolet D.C, Rogers J.W. // Surf. Sei. 1995. V. 340. P. 88.

105. Kodama K., Ozeki M., Sakuma Y., Mochizuki K., Ohtsuka N. // J. Cryst. Growth. 1990. V. 99. P. 535.

106. Kobayashi N., Kobayashi Y. // Thin Solid Films. 1993. V. 225. P. 32.

107. Kobayashi R. // J. Cryst. Growth. 1991. V. 113. P. 491.

108. Akamatsu M., Narahara S., Kobayashi T., Hasegawa F. // Appl. Surf. Sei. 1994. V. 82/83. P. 228.

109. Bedair S.M., Tischler M.A., Katsuyama T., El-Masry N.A. // Appl. Phys. Lett. 1985. V. 47. P. 51.

110. Ozeki M., Mochizuki K., Ohtsuka N., Kodama K. // J. Vac. Sei. Technol. B. 1987. V. 5. P. 1184.

111. Volkov V. // VII International nanotechnology conference. 2004. Visbaden.: P.64.

112. Горелкин И. // Актуальные инновационные исследования: наука и практика. 2010. №2. с. 12.

113. Айлер Р. / Химия кремнезема. M.: Мир. 1982. С. 1029.

114. Y.F Nicolau // Appl. Surf. Sei. 1985. V. 22/23. P. 1061.

115. Пат. 2569427 Франция; Chem. Abstr, 105, 33405а (1986)

116. Толстой В.П, Богданова Л.П, Митикова Г.В. / A.c. 1386600 СССР, приор, от 06.01.1986, Бюлл. Изобр. 1988. 3. С. 114.

117 Pathan H., Lokhande С. // Bull. Mater. Sei. 2004. Vol. 27. No. 2. p. 85.

118. Nicolau Y.F, Dupuy M, Brunei M. // J. Electrochem. Soc. 1990. V. 137. P. 2915.

119. Клечковская B.B, Маслов B.H, Мурадов М.Б, Семилетов C.A.. // Кристаллогр. 1989. T. 34. С. 182.

120. Lindroos S, Kanniainen T, Leskela M.. // J. Mater. Chem. 1996. V. 6. P. 1497.

121. Lindroos S, Kanniainen T, Leskela M. // Mater. Res. Bull, 1997. V. 32. P. 1631.

122. Pathan H.M, Salunkhe P.V, Sankapal B.R, Lokhande C.D. // Mater. Chem. andPhys. 2001. V. 72. P. 105.

123. Lindroos S, Arnold A, Leskela M. // Appl. Surf. Sei. 2000. V. 158. P. 75.

124. Sartale S.D., Lokhande C.D. // Mater. Chem. and Phys. 2000. V. 65. P. 63.

125. Гулина Л.Б. Синтез методом ионного наслаивания на поверхности кремнезема нанослоев сульфидов металлов I-VI групп. / Дисс. к.х.н. СПб.: СПбГУ. 1999.

126. Маслов В.Н, Мурадов М.Б, Жукова Л.А, Овчаренко В.М, Мончар Г.А, Мончар И.А. Процессы роста полупроводниковых кристаллов и пленок. / Под ред. Кузнецова Ф.А. Новосибирск: Наука. 1988. 89 с.

127. Kanniainen T, Lindroos S, Resch R, Leskela M, Friedbacher G, Grasserbauer M. // Mater. Res. Bull. 2000. V. 35. P. 1045.

128. Kanniainen T, Lindroos S, Ihanus J, Leskela M. // J. Mater. Chem. 1996. V. 6. P. 983.

129. Pathan H.M., Sankapal B.R., Desai J.D., Lokhande C.D. // Mater. Chem. and Phys. 2002. V. 78.P.11.

130. Гулина Л.Б., Толстой В.П. // Журнал общей химии. 1999. Т. 69. С. 1593.

131. Гулина Л.Б., Толстой В.П. // Журнал прикладной химии. 1999. Т. 72. Вып. 5. С. 727.

132. Sankapal B.R., Lokhande C.D. // Mater. Chem. and Phys. 2002. V. 73. P. 151.

133. Толстой В.П. // Тез. докл. 1-ой Международной конференции. "Химия высокоорганизованных веществ и научные основы нанотехнологии". СПб. 1996. 29 с.

134. Sankapal B.R., Goncalves Е., Ennaoui A., Lux-Steiner M.Ch. // Thin Sol. Films. 2004. V. 451-452. P. 128.

135. Sartale S.D., Lokhande C.D. //Mater. Res. Bull. 2000. V. 35. P. 1345.

136. Tolstoy V.P., Zhuchkov B.S, Murin I.V. // Sol. St. Ionics. 1997. V. 101-103. P. 165.

137. Tolstoy V.P., Tolstobrov E.V. // Solid State Ionics. 2002. V. 151. P. 165.

138. Толстой В.П., Молотилкина E.B. // Журнал неорганической химии. 1994. Т. 39. № 3. С. 388.

139. Tolstoy V.P. // Thin Solid Films. 1997. V. 307. P. 10.

140. Huiyuan Ma, Jun Peng, Chen Yanhui // Journal of Solid State Chemistry. 2004. V. 177.p.3333.

141. Fay Nigel, Dempsey Eithne // Journal of Electroanalytical Chemistry. 2005. V. 574. p. 359.

142. Bi Li-Hua, Foster Kevin // Journal of Electroanalytical Chemistry. 2007. V. 605. p. 24.

143. Gulina L. В., Tolstobrov E. V., Tolstoi V. P. // Russian Journal of General Chemistry. 2010. Vol. 80. No. 6. p. 1149.

144. Bao Ya-Yan, Bi Li-Hua, Wun Li-Xin // Journal of Solid State Chemistry. 2011. V. 184. 546-556.

145. Chen Bingdi, Zhang Hui, Du Ning, Li Dongsheng // Materials Research Bulletin. 2009. V. 44. pp. 889-892.

146. Ficai Anton, Andronescu Ecaterina, Voicu Georgeta // Materials Science and Engineering. 2009. C. 29. pp. 2217-2220.

147. Yan Dongpeng, Lu Jun, Wei Min // Chem. Commun. 2009. pp. 6358-6360

148. Park Sangmoon, Zhen Zhao, Park Dong Ho // Materials Letters. 2010. V. 64 pp. 1861-1864.

149. Darko Samuel A., Maxwell Ebony, Park Sangmoon // Thin Solid Films. 2010. V. 519. pp. 174-177.

150. Chong Lai-Wan, Chien Huei-Ting, Lee Yuh-Lang // Journal of Power Sources. 2010. V. 195. pp. 5109-5113.

151. Lee Hyo Joong, Bang Jiwon, Park Juwon, Kim Sungjee // Chem. Mater. 2010. V. 22. pp. 5636-5643.

152. Chao Gao, Honglie Shen, Lei Sun, Haibin Huang, Linfeng Lu, Hong Cai // Materials Letters. 2010. V. 64. pp. 2177-2179.

153. Fang Yunnan, Wu Qingzhong, Dickerson Matthew B. // Chem. Mater. 2009. V. 21. pp. 5704-5710.

154. Kumara R. Saravana, Sathyamoorthy R. // Journal of Alloys and Compounds. 2010. V. 506. pp. 351-355.

155. Jun Ma, Yongazhong Jia, Yan Jing, Ying Yao, Jinhe Sun // Applied Clay Science. 2010. V. 47. pp. 433-437.

156. OzgeAltuntasoglu, UgurUnal, Shintarolda // Journal of Solid State Chemistry. 2008. V. 181. pp. 3257-3263.

157. Gulina L. B., Tolstoi V. P., Tolstobrov E. V. // Russian Journal of General Chemistry. 2008. Vol. 78. No. 6. pp. 1133-1134.

158. Pruethiarenun K., Isobe T. // Applied Catalysis: General. 2011. №. 399. pp. 2227

159. Gulina L. B., Tolstoi V. P. // Russian Journal of Applied Chemistry. 2008. Vol. 81. No. 6. pp. 1068-1070.

160. Decher G. // Science. 1997. V. 277. p. 1232.

161. Lvov Y, Decher G, Mohwald H. // Langmuir. 1993. V. 9. p. 481.

162. Jiang C, Tsukruk V. // Adv. Mater. 2006. V. 18. pp. 829-840.

163. Zhang L, Shen Y. H, Xie A. J. , Li S. K. // J. Mater. Chem. 2008. V. 18. pp. 1196-1203.

164. Cheng Long, Cox. James A. // Electrochemistry Communications. 2001. V. 3. pp. 285-189.

165. Li Siheng, Enbo Wang // Materials Research Bulletin. 2008. V. 43. pp. 28802886.

166. Wang L, Li J. // Materials Letters. 2004. V. 58. pp. 2027- 2031.

167. Wang Bin, Vyas Ritesh N. // Langmuir. 2007. V. 23. pp. 11120-11126.

168. Lei Gao, Wang Enbo // J. Phys. Chem. B 2005. V. 109. pp. 16587-16592.

169. Wanga Yonghui, Hu Changwen // Thin Solid Films. 2005. V. 476. №1. pp. 8491.

170. Gao Shuiying, Cao Rong // Journal of Colloid and Interface Science. 2008 V. 324. pp. 156-166.

171. Liu Shaoqin, Kurth Dirk G. // J. Am. Chem. Soc. 2002. V. 124. No. 41. p. 9

172. Gao Shuiying, Li Xing // Journal of Solid State Chemistry. 2006. V. 179. pp. 1407-1414.

173. Maa Huiyuan, Penga Jun, Zhou Baibin // Applied Surface Science. 2004. V. 233. pp. 14-19.

174. Lan Yang, Wang Enbo // Journal of Colloid and Interface Science. 2007. V. 316. pp. 893-896.

175. Xua L, Zhang J.S. // Materials Letters. 2004. V. 58. pp. 3441- 3446.

176. Wang L, Jiang M. // Journal of Solid State Chemistry. 2003. V. 176. pp. 13-17.

177. Wang Li, Xiao Dongrong // Journal of Colloid and Interface Science. 2005. V. 285.pp. 435-442.

178. Shan Yuping, Yang Guocheng // Electrochimica Acta. 2007. V. 53. pp. 569574.

179. Ding Bin, Gong Jian, Kim Jinho, Shiratori Seimei // Nanotechnology. 2005. V. 16. pp. 785-790.

180. Jiang Kai, Zhang Hongxia // Langmuir. 2008. V. 24. pp. 3584-3589

181. Xua Lin, Zhang Hongyu // Materials Chemistry and Physics. 2002. V. 77. pp. 484-48

182. Wang Bin, Vyas Ritesh N. // Langmuir. 2007. V. 23. pp. 11120-11126

183. Ding Bin, Li Chunrong, Fujita Shiro // Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects. 2006. pp. 257-262.

184. Gao Shuiying, Yuan Daqiang, Lu Jian // Journal of Colloid and Interface Science. 2010. V. 341. pp. 320-325.

185. Zhang Wenjing, Zhang Aijuan, Guan Ying // J. Mater. Chem. 201 l.V. 21. pp. 548-555.

186. Logar Manca, Jancar Bostjan, Sturm Saso // Langmuir. 2010. V. 26(14). pp. 12215-12224.

187. Yuana Weiyong, Fua Jinhong, Sua Kai, Ji Jian // Colloids and Surfaces B: Biointerfaces. 2010. V. 76. pp. 549-555.

188. Kovalenko Maksym V, Bodnarchuk Maryna I. // J. Am. Chem. Soc. 9. 2010. V. 132. № 29.

189. Feng Qing-Ping, Yang Jiao-Ping, Fu Shao-Yun // CARBON 2010. V. 48. pp. 2057 -2062.

190. Zykwinska Agata, Radji-Taleb Sadia // Langmuir. 2010. V. 26, № 4, pp. 27792784.

191. Kameyama Tatsuya, Osaki Takaaki // J. Mater. Chem. 2010. V. 20. pp. 53195324.

192. Nakamura Masato, Katagiri Kiyofumi // Journal of Colloid and Interface Science. 2010. V. 341. pp. 64-68.

193. Xiao Shili, Wu Siqi // Journal of Physics: Conference Series. 2009. V.188.

194. Zhu Chengzhou, Guo Shaojun //Langmuir. 2010. V. 26(10). pp. 7614-7618

195. Corneala Lindsay M., Baumanna Melissa J. 11 Journal of Membrane Science. 2011. V. 369. pp. 182-187.

196. Ashayer Roya, Green Mark, Mannan Samjid H. // J. Nanopart Res. 2010. V. 12. pp. 1489-1494.

197. Liu Jiwei, Zhang Yu, Yan Changzhi // Langmuir. 2010. V. 26(24). pp. 1906619072.

198. Qin Chuanjiang, Wu Xiaofu.//.J. Mater. Chem. 2010. V. 20. pp. 7957-7964.

199. Greenstein Miryam, Ishay Rivka Ben, Maoz Ben M. // Langmuir. 2010. V. 26(10). pp. 7277-7284.

200. Yen Nee Tan, Jim Yang Lee // J. Phys. Chem. C. 2009. V. 113. pp. 1088710895.

201. Jie Fu, Gengnan Li, Fengna Xi//Chem. Mater. 2009. V. 21. pp. 4366^373.

202. Wu Ping, Du Ning, Zhang Hui, Jin Lu, Yang Deren // Materials Chemistry and Physics. 2010. V. 124. pp. 908-911.

203. Yang Guangbin, Yu Laigui, Chen Xinhua // Applied Surface Science. 2009. V. 255. pp. 4097-4101.

204. Bi Li-Hua, Zhou Wei-Hong, Jiang Jun-Guang // Journal of Electroanalytical Chemistry. 2008. V. 624. pp. 269-274.

205. Su Yi-Feng, Lee Woo Y. // Surface & Coatings Technology. 2008. V. 202. pp. 3661-3668.

206. Ott Patrick, Gensel Julia, Roesler Sina // Chem. Mater. 2010. V. 22. pp. 33233331.

207. Yu Cao, Wei He // Biomacromolecules. 2010. V. 11. pp. 1298-1307.

208. Kharlampieva Eugenia, Kozlovskaya V. // Adv. Mater. 2009. V. 21. pp. 30533065.

209. Tennyson Eleanor G., He Susan, Osti Naresh C. // J. Mater. Chem. 2010. V. 20. pp. 7984-7989.

210. Chariot Aurelia, Sciannamea Valerie // J. Mater. Chem. 2009. V. 19. pp. 41174125.

211. Kadi Shirin, Cui Di, Bayma Eric, Boudou Thomas // Biomacromolecules. 2009. V. 10. pp. 2875-2884.

212. Maity Santanu, Bhosale Rajesh, Banerji Natalie, Vauthey Eric // Org. Biomol. Chem. 2010. V. 8. pp. 1052-1057.

213. Kittitheeranun Paveenuch, Sanchavanakit V, Sajomsang Warayuth // Langmuir. 2010. V. 26 (10). pp. 6869-6873.

214. Choi Jiyeon, Konno Tomohiro, Takai Madoka, Ishihara Kazuhiko // Biomaterials. 2009. V. 30. pp. 5201-5208.

215. Uttam Manna, Satish Patil // J. Phys. Chem. B. 2009. V. 113. pp. 9137-9142.

216. Li Cao, Zhang Jing, Yang Shuo, Li Bo-Lan // Phys. Chem. 2009. V. 11. pp. 8835-8840.

217. Yin Fun Poon, Ye Cao, Yunxiao Liu, Vincent Chan // Applied material interfaces. 2010. V. 2. N. 7. pp. 2012-2025.

218. Богданова Л.П, Толстой В.П, Алесковский В.Б. // Защита металлов. 1990. Т. 26. С. 470.

219. Korotcenkov G, Macsanov V, Tolstoy V., Brinzari V, Schwank J, Faglia G . // Sensors and Actuators В 96. 2003. P. 602.

220. Sankapal B.R, Lokhande C.D. // Mater. Chem. and Phys. 2002. V. 73. P. 151.

221. Huiyuan Ma, Jun Peng, Zhangang Han, Yuhua Feng, Enbo Wang. // Thin Solid Films. 2004. V. 446. P. 161.

222. Min Jiang, Enbo Wang, Gang Wei, Lin Xu, and Zhuang Li. // J. Coll. and Interf. Sei. 2004. V. 275. P. 596.

223. Kim H.S, Sohn B.H, Lee W, Lee J.K, Choi S.J, Kwon S.J. // Thin Solid Films. 2002. V. 419. P. 173.

224. Meier-Haack J, Rieser T, Lenk W, Lehmann D, Berwald S, Schwarz S. // Chem. Eng. Technol. 2000. V. 23. P. 114.

225. Cassagneau T.P, Sweryda-Krawiec B, Fendler J.H. // MRS Bull. Sept. 2000. P. 40.

226. Пат. 1713977 РФ. Толстой В.П., Богданова Л.П. // Бюл. Изобрет. 1992. №7.

227. Iler R.K. // J. Coll. and Interf. Sei. 1966. V. 21. С. 569.

228. Kotov N.A., Dekany I., Fendler J. // J. Phys. Chem. 1995. V. 99. C. 13065.

229. Decher G., Schienoff J.B. / Multilayer Thin Films. 2003. Wiley-VCH. N-Y.

230. McKenzie K.J, Marken F., Xin Gao., Tsang S.C., Tarn K.Y. // Electrochem. Comm. 2003. V. 5. P. 286.

231. Kun R., Balazs M., Dekany I. // Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects. 2005. V. 265. P. 155.

232. Promnimit S., Cavelius C. // Physica. 2008. V.41. pp. 285-291.

233. Пармон B.H. // Фотокатализ: Вопросы терминологии. Новосибирск: Наука. 1991. С. 7-17.

234. Fujishima A., Honda К. // Kogyo Kagaku Zasshi. 1969. N.12. p. 108.

235. Khan Romana, Kim S.W. // Journal of Nanoscience and Nanotechnology. 2008.V. 8. № 9. pp. 4738-4742.

236. Калианасундарам К. // Энергетические ресурсы сквозь призму фотохимии и катализа: М.: Мир. 1986. 632 с.

237. Dixit Abhilasha, Mungray A.K. // International Journal of Chemical Engineering and Applications. 2010. Vol. 1, №. 3. pp. 247-250.

238. Mori К. // J. Soc. Powder Technology. Japan. 2004. V. 41. pp. 750-756.

239. Behnajady M.A., Modirshahl N. // A Global NEST Journal. 2008. V. 10. No 1, PP 1-7.

240. Sunada K., Watanabe T. // Environ. Sei. Technol. 2003. V. 37. p. 4785.

241. Wang R., Hashimoto K. and al. //Nature. 1997. № 388. p.431.

242. Sakai N., Fujishima A. // J. Phys. Chem. B. 2003.V. 107. p. 1028.

243. Hashimoto Kazuhito, Irie Hiroshi // AAPPS Bulletin. December 2007. Vol. 17. № 6. pp. 12-28.

244. Hashimoto K., Irie H. // AAPPS Bulletin. 2007. Vol. 17. No. 6. pp. 12-28.

245. Брауэр Г. / Руководство по неорганическому синтезу. 1985. М.: Мир. т.З. сс. 937-938.

246. Толстой В.П. // Журнал Неорганической Химии. 1993. № 7. С. 1146-1148

247. http://www.kemi.kth.se/medusa

248. Tolstoy V.P, Ehrlich A.G. // Thin Solid Films. 1997. №1-2. pp, 10-13.

249. Фанасюткина И. E. // автореф. дисс. к.х.н. "Синтез и исследование коллоидно-химических свойств гидрозолей кислородсодержащих соедине-ний церия и лантана". Москва. 2007.

250. Jianzheng Li, Xuewen Xu, Ying Fan, Yangxian Li, Long Hu, Chengchun Tang // Materials Chemistry and Physics. 2010. V.124. pp. 1172-1176.

251. Sharma Raj Pal, Bala Ritu // Journal of Molecular Structure. 2006. №788. pp. 49-54.

252. Bowmakera G, Pakawatchaib C. // Z. Anorg. Allg. Chem. 2008. pp. 2583-2588

253. Lukinskas P, Savickaja I. // Journal of Coordination Chemistry. 2008. Vol. 61. № 16. P. 2528.

254. Казанский JI.H, Голубев A.M. // Химия Mo(VI) и W(VI). Под ред. M.B. Мохосоева. Новосибирск. 1979. С. 66.

255. Bielanski A, Lubanska A. Polyoxometallates in acid-base catalysis // Journal of Molecular Catalysis A: Chemical. 2004. Vol. 224. P. 179.

256. Nadeem S., Rauf M. K, Ahmad S, Ebihara M. // Transition Met. Chem. 2009. №34. p. 197.

257. Накамото К. // ИК и КР спектры неорганических и координационных соединений. М.: Мир. 1991. 505 с.

258. Лазарев А.Н, Миргородский А.Н, Игнатьев И.С. / Колебательные спектры сложных окислов. Л.: Наука. 1975. 296 с

259. Filipek К. // Inorg. Chim. Acta, 1995. V. 231. p. 237.

260. Andreescu D, Matijevi'c E, Goia D.V. // Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects. 2006. Vol. 291. P. 93.

261. Баранова В.И, Бибик Е.Е., Кожевникова Н.М. / Практикум по коллоидной химии. 1983. М.: Высшая школа. 215 с.

262. Music S, Krehula S, Popovic S. // Materials Letters. 2003. V. 57. pp. 10961102.

263. Kazuhiko Kandori, Shinpei Ohnishi, Masao Fukusumi, Yoshiaki Morisada // Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects. 2008. №331. pp. 232-238.

264. Лазарев А.И., Харламов И.П., Яковлев П.Я., Яковлева Е.Ф. // Справочник химика-аналитика. 1976. Металлургия. М.

265. Tom R.T., Nair A.Sr., Singh N., Aslam M., Nagendra C.L., Philip R., Vijayamohanan K., Pradeep T. // Langmuir. 2003. Vol. 19. P. 3439.

Link St, El-Sayed M.A. // J. Phys. Chem. B. 1999. Vol. 103. № 40. P. 8410.

266. Казанский Л.Н, Голубев A.M. // в кн. Химия Mo(VI) и W(VI). Под ред. М.В. Мохосоева. Новосибирск. 1979. С. 66.

267. Nieses Т.Р, Guire M.R.D. // Solid State Ionics. 2002. Vol. 151. P. 61.

268. Kuhnen Florian, Barmettler Kurt // Journal of Colloid and Interface Science. 2000. V.231.pp. 32-41.

269. Mortimer Roger J. / Annu. Rev. Mater. Res. 2011. V.41. №241. p.68

270. Chien Dang Mau, Viet Nguyen Ngoc//Journal of Experimental Nanoscience. 2009. Vol. 4. No. 3. pp. 221-232

271. Lin Shu-Hsuan, Wu Yi-Ni//Journal of the Taiwan Institute of Chemical Engineers. 2011. V. 42(5). pp. 852-859.

272. Ammar Houas, Hinda Lachheb // Applied Catalysis B: Environmental. 2001. V. 31, pp. 145-157.

Обратите внимание, представленные выше научные тексты размещены для ознакомления и получены посредством распознавания оригинальных текстов диссертаций (OCR). В связи с чем, в них могут содержаться ошибки, связанные с несовершенством алгоритмов распознавания. В PDF файлах диссертаций и авторефератов, которые мы доставляем, подобных ошибок нет.