Синтез и исследование стекловидных диэлектрических материалов и пленок на их основе, полученных золь-гель методом тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.27.06, кандидат технических наук Дворников, Сергей Александрович
- Специальность ВАК РФ05.27.06
- Количество страниц 171
Оглавление диссертации кандидат технических наук Дворников, Сергей Александрович
Введение.
Глава 1. Золь-гель метод синтеза особо чистых стекловидных материалов и формирование диэлектрических пленок
Литературный обзор).
1.1. Требования предъявляемые к стекловидным диэлектрическим пленкам в технологии микроэлектроники.
1.2 Низкотемпературные жидкофазные методы синтеза.
1.2.1. Метод соосаждения.
1.2.2. Топохимический метод.
1.2.3. Золь-гель метод.
1.3. Способы формирования пленок из растворов.
1.4. Применение стекловидных диэлектрических материалов и пленок на их основе, полученных золь-гель методом.
Перспективы развития золь-гель метода.
Вьшоды к главе 1.
Глава 2. Методики исследования и методы подготовки образцов.
2.1. Синтез материалов золь-гель методом.
2.2. Подготовка образцов к исследованию.
2.3. Методики исследования свойств растворов и стекловидных материалов.
2.4. Формирование стекловидньк пленок на кремниевых пластинах и исследование их свойств.
Вьшоды к главе 2.
Глава 3. Синтез стекловидных диэлектриков золь-гель методом и исследование их свойств.
3.1. Синтез материалов золь-гель методом.
3.1.1. Выбор составов стекловидных материалов.
3.1.2. Синтез материалов систем:
ЗЮз-ВзОз, ЗЮг-РгОз, ЗЮг-ВгОз-РзОз.
3.1.3. Синтез материала системы ВаО-А120з-8Ю2.
3.2. Исследование влияния режимов синтеза на процесс гидроксополимеризации.
3.3. Дериватографические исследования
3.4. Исследование термических и диэлектрических свойств синтезированньк стекловидных материалов.
3.5. ИК-спектроскопические исследования.
3.6. Исследование синтезированных материалов методом РФА.
3.7. Механизм золь-гель процесса синтеза гелей.
Вьшоды к главе 3.
Глава 4. Синтез стекловидных диэлектрических пленок методом золь-гель и исследование их свойств.
4.1. Выбор составов компонентов для синтеза полуколлоидных растворов и пленок на их основе.
4.2. Исследование влияния режима синтеза полуколлоидных растворов на процесс гидроксополимеризации.
4.3 Исследования оптического показателя преломления.
4.4 Исследования щзисталлизационной способности стекловидных пленок методом рентгенофазового анализа.
4.5 ИК-спектроскопические исследования пленок.
4.6 Исследования влагостойкости пленок.
4.7 Исследования скорости химического травления стекловидных пленок.
4.8 Исследование механических напряжений в стекловидных пленках.
4.9 Исследование электро-физических свойств стекловидньк пленок.
4.10 Исследование пористости стекловидных пленок.
Вьшоды к главе 4.
Глава 5. Применение стекловидных диэлектрических пленок.
5.1 Заполнение ступенчатого рельефа подложки стекловидными диэлектрическими пленками.
5.2 Применение стекловидных диэлектрических пленок для планаризации межслойного диэлектрика в многоуровневых СБИС.
Вьшоды к главе 5.
Обгцие выводы.
Список использованных литературных источников.
Рекомендованный список диссертаций по специальности «Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники», 05.27.06 шифр ВАК
Формирование диэлектрических слоев интегральных схем методами химического осаждения2000 год, доктор технических наук Воротилов, Константин Анатольевич
Метод химического осаждения из растворов для создания активных и изолирующих диэлектрических слоев интегральных схем2011 год, кандидат технических наук Серегин, Дмитрий Сергеевич
Полупроводниковые слоистые структуры на основе пленок редкоземельных элементов и их соединений: Силициды, оксиды и фториды1998 год, доктор физико-математических наук Рожков, Виктор Аркадьевич
Исследование композиционных диэлектрических покрытий на основе легированных кремнезолей с высокодисперсным оксидным наполнителем2012 год, кандидат химических наук Шорников, Роман Сергеевич
Механизм формирования и свойства тонких пленок станнатов свинца и твердых растворов станната-титаната свинца2004 год, кандидат химических наук Наумова, Юлия Юрьевна
Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Синтез и исследование стекловидных диэлектрических материалов и пленок на их основе, полученных золь-гель методом»
В связи с вьппеизложенным, применение стекловидных диэлектрических материалов для межслойной изоляции многоуровневой проводниковой разводки, планаризации топологического рельефа, пассивации, бескорпусной защиты и создания структур 1фемний-на-изоляторе (КНИ), комплексное исследование их свойств, разработка надежной технологии их получения представляют значительный интерес и определяют актуальность настоящей работы.
Цель работы.
Исследования направлены на изучение золь-гель метода синтеза стекловидных диэлектрических материалов с комплексом заданных свойств и пленок на их основе, получение субмшфонных пленок посредством данного метода для целей микроэлектроники, комплексное исследование зависимости свойств этих материалов и стекловидных пленок на их основе от состава, режимов синтеза, технологических параметров их формирования с последующей оптимизацией состава диэлектриков и технологических режимов нанесения стекловидных пленок.
Для достижения этой цели в работе бьши поставлены и решены следующие задачи:
- синтез стекловидньк диэлектрических материалов, КТЛР которых совпадает с КТЛР монокристаллического кремния;
- исследование и разработка режимов синтеза стекловидных материалов золь-гель методом;
- комплексное исследование свойств полученных стекловидных материалов;
- исследование и разработка режимов синтеза золь-гель методом полуколлоидных растворов для получения стекловидных диэлектрических пленок;
- синтез стекловидных пленок из полуколлоидных растворов и исследование их физико-химических свойств;
- разработка рекомендаций по использованию материалов и стекловидных диэлектрических пленок на их основе, синтезированных золь-гель методом, в технологии микроэлектроники.
Научная новизна:
Проведено комплексное исследование процесса синтеза золь-гель методом стекловидных материалов в системах: ВгОз-ВЮг, ЗЮг-РгОз, ЗЮг-ВгОз-РгОз и Ва0-А120з-8102 и установлено влияние химического состава, температуры, вязкости раствора на время гелеобразования в указанньк системах.
Определены зависимости свойств стекловидных диэлектрических материалов и пленок на их основе от температуры и времени термической обработки.
Разработаны режимы синтеза золь-гель методом стекловидных диэлектрических материалов боро-, фосфоро-, борофосфоросиликатных и барийалю-мосиликатных систем.
Проведен синтез и исследования полуколлоидных растворов в системах ТЭОС-С2Н5ОН-Н2О и ТЭОС-С2Н5ОН-Н2О-Н3ВО3-Н3РО4. Разработанны составы полуколлоидных растворов в указанных системах с длительньв! временем хранения, не имеющих отечественных аналогов.
Разработаны режимы синтеза и формирования стекловидных пленок непосредственно из полуколлоидных растворов, синтезированных золь-гель методом, длительного хранения.
Практическая значимость.
Разработаны режимы синтеза стекловидных диэлектрических материалов боро-, фосфоро-, борофосфоросиликатньк и барийалюмосиликатных систем методом золь-гель. Указанные стекловидные материалы имеют более низкие температуры формирования (до 800°С) по сравнению с аналогичными материалами, полученньми по традиционной технологии, что является более экономически вькодным. Синтезированные материалы согласованны по КТЛР с монокристаллическим кремнием. Результаты исследования легли в основу разработки лабораторной работы, для студентов 4-5 курсов ЭТМО факультета, по синтезу боро-силикатных гелей для целей микроэлектроники.
Полученные результаты исследований могут использоваться для разработки материалов золь-гель методом в других системах.
Разработаны режимы синтеза полуколлоидных; растворов с целью получения на их основе стекловидных пленок в системах ЗЮг и ЗЮг-ВгОз-РгОз.
Разработаны технологии получения методом центрифугирования полуколлоидных растворов, синтезированных золь-гель методом, борофосфоросили-катных и силикатных диэлектрических стекловидных пленок, предназначенных для формирования межслойной изоляции СБИС, планаризации топологического рельефа, и создания структур КНИ. Разработанный технологический процесс для планаризации двухуровневой металлизации СБИС используется в ГЦ НИК «Технологический центр». Ожидаемьш экономический эффект от внедрения результатов диссертационной работы при использовании полуколлоидньк растворов для планаризации межслойного диэлектрика при производстве ИС, составит 1750000 руб./год.
Практическая значимость работы подтверждена соответствующими актами внедрения.
Похожие диссертационные работы по специальности «Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники», 05.27.06 шифр ВАК
Механические свойства изолирующих диэлектриков систем металлизации интегральных схем схем2021 год, кандидат наук Овчинников Иван Сергеевич
Разработка и исследование основ золь-гель технологий формирования диэлектрических пленок на основе оксида алюминия для органических полевых транзисторов2013 год, кандидат технических наук Луговой, Евгений Владимирович
Физические процессы при ионно-лучевом синтезе структур на основе кремния2015 год, кандидат наук Тысченко, Ида Евгеньевна
Многослойные структуры на эффекте сильного поля в сегнетоэлектрических пленках2002 год, доктор технических наук Прудан, Александр Михайлович
Технологические основы создания твердотельных сенсоров газов на основе нанокомпозитных оксидных материалов2011 год, доктор технических наук Петров, Виктор Владимирович
Заключение диссертации по теме «Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники», Дворников, Сергей Александрович
Результаты исследования зависимости электрической прочности и диэлектрической проницаемости стекловидных пленок на основе полуколлоидных растворов составов К-100 и БФК-5.10 от температуры их термообработки, представлены на рисунках 4.27 и 4.28. Анализ полученных данных позволяет отметить, что повьппение температуры отжига полученных покрытий приводит к увеличению значения электрической прочности и уменьшению диэлектрической проницаемости стекловидных пленок. Так, значение г для не отожженных пленок К-100 равняется 7,8, а после их термообработки при 450°С в течение 30 минут составляет 4,7; для покрытий на основе раствора состава БФК-5.10 значения в равны 8,2 - для стекловидных пленок не прошедших термообработ!л, и 4,6 - для отожженньЕх при 750°С в течение 30 минут. Следует отметить, что значения диэлектрической проницаемости и электрической прочности у не термо-обработанных пленок достаточно высоки. Для пленок, полученных из растворов на основе состава К-100, - Епр=2,5*10л В/см и £=7,8, а для БФК-5.10 -Епр=3,4*10лв/сми£=8,7.
В таблице 4.3 приведены значения электрофизические параметров МДП-структур при различных температурах их термообработки, а именно, Смах., Стш./Смах, плотности повсрхностных СОСТОЯНИЙ И тангснса угла диэлектрических потерь. состав стекл. пленок
К-100
К-100
К-100
К-100
БФК-5.10
БФК-5.10
БФК-5.10 тем-ра т/о
СО 1=30 мин.
450
500
550
600
450
750
850 пФ)
23,43 21,36 18$5 18,73 35,31 19,65 19,71 пФ)
0Д7 0Д9 0,22 023 0Д2 022 022
N33 (смл)
3,62*10" 3,34*10" 2,76*10" 1,82*10" 1,25*10Л 5,53*10" 5,31*10"
Обратите внимание, представленные выше научные тексты размещены для ознакомления и получены посредством распознавания оригинальных текстов диссертаций (OCR). В связи с чем, в них могут содержаться ошибки, связанные с несовершенством алгоритмов распознавания. В PDF файлах диссертаций и авторефератов, которые мы доставляем, подобных ошибок нет.